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曾莹

作品数:10 被引量:13H指数:2
供职机构:清华大学信息科学技术学院微电子学研究所更多>>
发文基金:国家科技攻关计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 7篇电子电信
  • 4篇自动化与计算...

主题

  • 6篇电路
  • 5篇集成电路
  • 2篇质量管理
  • 2篇计算机
  • 2篇计算机辅助制...
  • 1篇电流
  • 1篇电流分析
  • 1篇电流模型
  • 1篇电压
  • 1篇身份识别
  • 1篇数字集成电路
  • 1篇轻掺杂漏
  • 1篇静电保护
  • 1篇静电保护电路
  • 1篇控制图
  • 1篇集成电路卡
  • 1篇集总参数
  • 1篇工作电压
  • 1篇功率分布
  • 1篇非接触

机构

  • 10篇清华大学

作者

  • 10篇曾莹
  • 4篇朱钧
  • 2篇蒋志
  • 2篇李瑞伟
  • 2篇朱小琳
  • 2篇刘志宏
  • 2篇向采兰
  • 2篇林发永
  • 2篇潘立阳
  • 1篇刘寅
  • 1篇谭学斌
  • 1篇刘志弘
  • 1篇羊性滋
  • 1篇鲁勇
  • 1篇王纪民
  • 1篇吴正立
  • 1篇刘楷
  • 1篇邱国良
  • 1篇葛元庆
  • 1篇薛刚

传媒

  • 5篇微电子学
  • 2篇Journa...
  • 2篇微电子学与计...
  • 1篇第十二届全国...

年份

  • 1篇2003
  • 4篇2002
  • 1篇2001
  • 2篇1999
  • 1篇1998
  • 1篇1997
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
FLASH存储单元擦写过程中的电流分析被引量:1
1999年
文章将讨论不挥发存储器单元-FLASH的擦写过程,包括对擦写原理的描述,重点对其擦写过程中的电流进行分析,建立了适用于该单元的电流模型,并结合本所工艺线的实验单元进行测试,对所建立的模型和理论进行验证。
刘寅朱钧曾莹蒋志
关键词:FLASH电流模型
A Novel Flash Memory Using Band-to-Band Tunneling Induced Hot Electron Injection to Program
2002年
A novel band to band hot electron programming flash memory device,which features programming with high speed,low voltage,low power consumption,large read current and short access time,is proposed.The new memory cell is programmed by band to band tunneling induced hot electron (BBHE) injection method at the drain,and erased by Fowler Nordheim tunneling through the source region.The work shows that the programming control gate voltage can be reduced to 8V,and the drain leakage current is only 3μA/μm.Under the proposed operating conditions,the program efficiency and the read current rise up to 4×10 -4 and 60μA/μm,respectively,and the program time can be as short as 16μs
潘立阳朱钧刘志宏曾莹鲁勇
应用于EEPROM的超薄SiO_2TDDB特性的研究
1999年
阐述了应用于EEPROM中的超薄隧道氧化层随时间的击穿特性。比较和分析了不同的可靠性测试方法,并对超薄氧化层生长工艺的优化进行了探讨。
薛刚吴正立蒋志曾莹朱钧
关键词:半导体工艺EEPROMTDDB
Novel p-Channel Selected n-Channel Divided Bit-Line NOR Flash Memory Using Source Induced Band-to-Band Hot Electron Injection Programming被引量:1
2002年
A novel p-channel selected n-channel divided bit-line NOR(PNOR) flash memory,which features low programming current,low power,high access current,and slight bit-line disturbance,is proposed.By using the source induced band-to-band hot electron injection (SIBE) to perform programming and dividing the bit-line to the sub-bit-lines,the programming current and power can be reduced to 3.5μA and 16.5μW with the sub-bit-line width equaling to 128,and a read current of 60μA is obtained.Furthermore,the bit-line disturbance is also significantly alleviated.
潘立阳朱钧刘楷刘志宏曾莹
新一代IC-CAM系统中的质量管理
2002年
文章介绍了新一代集成电路计算机辅助制造(IC-CAM)系统质量管理部分的设计。该系统的质量控制部分实现了由实测数据计算控制图的控制限,能自动判读并标识控制图中的异常点。使用该IC-CAM系统后,可以有效地提高生产工艺稳定性和产品质量。
朱小琳向采兰曾莹林发永
关键词:集成电路计算机辅助制造控制图
一种ESD保护结构的集总参数模拟方法被引量:5
2003年
 文章提出了一种通过集总参数电路对ESD保护结构进行模拟的方法。利用HSPICE电路模拟软件,对ESD保护结构进行了集总参数模拟,获得了保护结构在ESD事件中的功率和温度分布。
邱国良李瑞伟曾莹
关键词:ESD集总参数功率分布HSPICECMOS集成电路
低压触发可控硅结构在静电保护电路中的应用被引量:2
2002年
 对LVTSCR(LowVoltageTriggeredSiliconControlledRectifier)结构在深亚微米集成电路中的抗静电特性进行了研究。实验结果表明,LVTSCR结构的参数,如NMOS管沟道长度、P-N扩散区间距和栅极连接方式等,都对LVTSCR结构的静电保护性能有影响。利用优化的LVTSCR结构,获得了6000V以上的ESD失效电压。
曾莹李瑞伟
关键词:静电保护CMOS工艺
IC-CAM中的质量管理
本文介绍了一个新型集成电路计算机辅助制造(IC-CAM)系统.该系统的质量控制部分实现了由实测数据计算控制图控制限,并能自动检出并标识控制图中的异常点.使用该IC-CAM系统后,可望提高流水进度,大大缩短生产流水周期.
朱小琳向采兰刘志弘曾莹林发永
关键词:集成电路计算机辅助制造质量管理
文献传递
一种用于身份识别的非接触式IC卡的设计与研制被引量:2
1998年
设计了一种工作频率为125kHz,用于身份识别的非接触式IC卡。分析了系统结构和工作原理,讨论了非接触式IC卡的“心脏”——卡内芯片的电路结构。最后,简要地介绍了芯片的版图设计、测试结果及其典型应用。
谭学斌羊性滋葛元庆曾莹
关键词:集成电路卡数字集成电路IC卡
LDD方法在提高电路工作电压中的应用研究被引量:3
1997年
研究了利用轻掺杂漏(LightlyDopedDrain,LDD)结构来制作高电源电压器件的工艺方法。分析了LDD结构参数对器件击穿特性的影响,并结合实验结果对N-区的注入剂量、长度及引入的串联电阻进行了优化设计。选用MLDD方案制造出击穿电压提高了10V以上的MOS器件,使2μm器件的工作电压从5V提高到12V以上,只需放大栅电极多晶版。
曾莹王纪民
关键词:MOSFET轻掺杂漏集成电路
共1页<1>
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