您的位置: 专家智库 > >

曲爽

作品数:3 被引量:7H指数:1
供职机构:山东华光光电子有限公司更多>>
发文基金:高等学校科技创新工程重大项目国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇衬底
  • 1篇氮化镓
  • 1篇湿法腐蚀
  • 1篇碳化硅
  • 1篇图形衬底
  • 1篇外延层
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体质量
  • 1篇蓝宝
  • 1篇蓝宝石
  • 1篇蓝宝石图形衬...
  • 1篇蓝光
  • 1篇光电
  • 1篇光电二极管
  • 1篇二极管
  • 1篇SIC
  • 1篇SIC衬底
  • 1篇AIN
  • 1篇GAN
  • 1篇GAN薄膜

机构

  • 3篇山东大学
  • 3篇山东华光光电...

作者

  • 3篇徐现刚
  • 3篇曲爽
  • 1篇朱学亮
  • 1篇邵慧慧
  • 1篇李树强

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇第六届中国国...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
SiC衬底上MOCVD法外延GaN基蓝光LED
2008年
利用MOCVD在SiC衬底上采用AlN缓冲层外延GaN材料。GaN的X射线(002)和(102)摇摆曲线分别是303″和311″,表明获得了高质量的GaN材料。原子力显微镜照片能清晰地观察到GaN表面的原子台阶,材料的表面粗糙度为0.19nm,小于蓝宝石衬底上GaN薄膜的粗糙度。采用不同厚度的AlN缓冲层外延GaN基蓝光LED,并研究了薄膜中的应变状态。当采用不同的AlN缓冲层时,倒易空间图证实InGaN/GaN量子阱区完全应变的外延在GaN层上,而AlN缓冲层则是弛豫的。外延片进行管芯工艺制备,得到高亮度的LED。
朱学亮曲爽刘存志李树强夏伟沈燕任忠祥徐现刚
关键词:碳化硅氮化镓光电二极管
湿法腐蚀制备蓝宝石图形衬底的研究被引量:7
2010年
利用湿法腐蚀方法,制备出图形化蓝宝石衬底(PSS)。在相同的腐蚀时间下,研究腐蚀液温度对腐蚀蓝宝石表面形貌和外延后GaN材料的影响。扫描电镜(SEM)测试结果表明:随着腐蚀液温度的增加,图形的深度增加。腐蚀后图形阵列排布整齐,所有图形都方向一致,这与蓝宝石本身晶体性质有关。腐蚀液温度对外延后GaN的影响也比较大,随着腐蚀液温度的增加,(002)半峰宽逐渐增加,光致发光谱(PL)发光强度逐渐增加。管芯结果表明,LED管芯的光强也逐渐增加。
邵慧慧李树强曲爽李毓锋王成新徐现刚
关键词:湿法腐蚀蓝宝石图形衬底GAN外延层
AIN缓冲层厚度对SiC上外延GaN薄膜晶体质量的影响
利用MOCVD在国产SiC衬底上外延高质量的GaN薄膜.随着SIN缓冲层厚度的增加.GaN或核岛的尺寸减小;当AIN缓冲层是20nm时,GaN的表面原子台吩平行度最好,且此时GaN的黄光带发射较弱。
朱学亮 吴德华 李树强 曲爽徐现刚
文献传递网络资源链接
共1页<1>
聚类工具0