张志彬
- 作品数：6 被引量：36H指数：4
- 供职机构：河北工业大学更多>>
- 发文基金：天津市自然科学基金河北省自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺化学工程电子电信更多>>
- 等离子喷涂氧化锆涂层封孔处理的研究现状被引量：1
- 2009年
- 本文分析了等离子喷涂氧化锆涂层中存在孔隙的原因,介绍了降低涂层孔隙率的方法,并指出了未来氧化锆涂层封孔技术的发展方向。
- 张志彬阎殿然高国旗高杨安雪川张乾
- 关键词：等离子喷涂氧化锆涂层封孔处理
- 国内外耐液态锌腐蚀材料的研究现状被引量：9
- 2010年
- 针对熔锌锅内加热器套管材料问题,根据近些年国内外对耐液锌腐蚀材料的研究成果,可将耐锌蚀材料分为采用自身耐蚀的材料或利用金属表面处理技术提高耐蚀性两大类。由于熔融锌几乎对所有的金属都能产生强烈的腐蚀,所以整体金属材料的耐熔融锌腐蚀性较差;无机材料和粉末冶金材料虽然都具有较强的耐熔融锌腐蚀性,但是其脆性大,制备成本高昂,在实际生产中的应用受到限制。因此采用金属表面处理方法提高耐熔融锌腐蚀性将成为今后的研究重点。诸如热喷涂、渗硼法、表面涂覆等表面处理技术,均可以在保持原有金属特性的基础上提高材料表面的耐锌蚀性。最后指出了今后耐熔融锌腐蚀材料的研究发展方向。
- 张志彬阎殿然何继宁李莎王师
- 关键词：液锌腐蚀热镀锌热喷涂
- 等离子喷涂氧化锆涂层封孔处理的研究现状被引量：5
- 2009年
- 张志彬阎殿然高国旗高杨安雪川张乾
- 关键词：等离子喷涂技术氧化锆涂层封孔处理喷涂材料热障涂层
- 喇曼光谱研究硅烷体积分数对Si薄膜结构影响被引量：1
- 2009年
- 采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在一定射频功率、衬底温度和气压下,在普通玻璃衬底上制备了不同硅烷体积分数的Si薄膜材料。使用喇曼光谱对薄膜材料的结构进行了研究。结果表明,随着硅烷体积分数的降低,Si薄膜沉积速率将会逐渐降低。当硅烷体积分数降到2%时,喇曼光谱检测到出现对应的晶体Si的吸收峰,而最初的非晶吸收峰位逐渐减弱,Si薄膜的结构实现了由非晶向微晶转变。随着硅烷体积分数进一步降低,结晶率不断提高,微晶比例进一步扩大。
- 张乾高杨张建新阎殿然安雪川张志彬王师
- 关键词：等离子体增强化学气相沉积硅薄膜喇曼光谱硅烷
- 反应等离子喷涂TiN涂层电化学腐蚀行为被引量：9
- 2009年
- 利用电化学阻抗谱等电化学方法及扫描电镜(SEM)技术,研究了反应等离子喷涂TiN涂层在模拟海水中的电化学腐蚀行为.研究结果表明:TiN涂层的自腐蚀电位高于基体,涂层对基体能起到良好的腐蚀屏蔽作用;腐蚀介质通过涂层的通孔、微裂纹等缺陷渗入涂层与基体的界面腐蚀基体,从而使涂层电阻下降、电容增加,所产生的腐蚀产物在一定程度上可以抑制腐蚀反应的进行,但不会阻止基体局部腐蚀的继续进行.涂层的孔隙是造成涂层电化学腐蚀的主要原因.
- 李莎阎殿然董艳春王师高国旗张志彬
- 关键词：等离子喷涂TIN涂层电化学腐蚀阻抗谱
- 活塞环表面处理技术的研究现状及发展趋势被引量：11
- 2009年
- 活塞环性能的优劣直接影响到内燃机的整体性能,随着现代内燃机的发展,对活塞环提出了越来越高的要求。阐述了现代活塞环表面处理技术如PVD与CVD镀膜、热喷涂钼涂层、等离子喷涂陶瓷涂层的技术特点,并与电镀铬、表面氮化进行对比,对它们的优缺点进行了分析。展望了现代活塞环表面处理技术的发展趋势。
- 王师阎殿然李莎高国旗张志彬
- 关键词：表面处理等离子喷涂陶瓷涂层活塞环
