您的位置: 专家智库 > >

崔利杰

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇国内会议论文

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇分子束
  • 3篇分子束外延
  • 3篇MM-HEM...
  • 2篇MBE生长
  • 2篇GAAS
  • 1篇电子迁移率
  • 1篇迁移率
  • 1篇沟道
  • 1篇分子束外延技...
  • 1篇分子束外延生...
  • 1篇GAAS衬底
  • 1篇HEMT
  • 1篇IN0
  • 1篇INALAS...
  • 1篇INP基
  • 1篇LM
  • 1篇MBE
  • 1篇材料性能
  • 1篇衬底
  • 1篇INGAAS

机构

  • 4篇中国科学院

作者

  • 4篇朱战平
  • 4篇王保强
  • 4篇崔利杰
  • 3篇林兰英
  • 3篇曾一平
  • 3篇李灵霄
  • 1篇张昉昉

传媒

  • 2篇第六届全国分...
  • 1篇第十二届全国...
  • 1篇中国电子学会...

年份

  • 2篇2002
  • 2篇2001
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
In0.53Ga0.47As/In0.52Al0.48As MM-HEMT材料MBE生长
采用MBE生长技术,在半绝缘GaAs衬底上生长了大失配的In<,0.53>Ga<,0.47>As/In<,0.52>Al<,0.48>As MM-HEMT材料.对其进行了透射电镜(TEM)、PL谱以及Shhubnikov...
崔利杰王保强朱战平
关键词:分子束外延生长MM-HEMT材料GAAS衬底
文献传递
InGaAs沟道层中In组分含量对MM-HEMT材料性能的影响
采用MEB技术制备了一系列沟道层不同In组分含量的MM-HEMT材料.结果发现,随In组分含量的变化,材料的电子迁移率有一最佳值,对这一结果给予了解释.
崔利杰朱战平王保强张昉昉曾一平李灵霄林兰英
关键词:分子束外延技术MM-HEMT材料材料性能
文献传递
GaAs基MM-HEMT和InP基LM-HEMTMBE生长
本文采用MBE生长技术,比较了在InP衬底上生长晶格匹配的LM-HEMT与在GaAs衬底上生长大失配的MM-HEMT的材料的性能.结果发现,二者的电子迁移率与电子浓度都非常接近,这说明我们采用阶梯式变组分的方法生长MM-...
崔利杰曾一平王保强朱战平李灵霄林兰英
关键词:MBEHEMT电子迁移率
文献传递
GaAs基InAlAs/InGaAs MM-HEMT材料的零场自旋分裂
采用Shubnikov-de Hass(SdH)振荡测试技术研究了GaAs基InAlAs/InGaAs MM-HEMT材料的磁输运特性,并在窄带隙和掺杂浓度高的材料中发现了零场自旋分裂现象.
崔利杰曾一平王保强朱战平李灵霄林兰英
关键词:分子束外延
文献传递
共1页<1>
聚类工具0