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孙芳: 作品数：154 被引量：355H指数：9; 供职机构：北京化工大学更多>>; 发文基金：国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金博士科研启动基金更多>>; 相关领域：化学工程理学医药卫生一般工业技术更多>>

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氟硅缩水甘油醚环氧单体的合成与性能研究: 2024年; 开发可阳离子光聚合的氟硅单体是光聚合领域重要的研究方向。利用易得的原料和简单的工艺合成了一种氟硅缩水甘油醚环氧单体(FSi-GE),采用核磁共振波谱仪(NMR)和傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对该单体的结构进行了表征,并研究了其对环氧单体3,4-环氧环己基甲基3,4-环氧环己基甲酸酯(E4221)和1,2-环氧−4-乙烯基环己烷(VOH)组成的阳离子光聚合体系的光聚合动力学、表面疏水性、耐热性及拉伸性能的影响。结果表明:当FSi-GE的添加量从0增加到0.5%,体系的环氧基团最终转化率从60.6%上升到65.7%,固化膜表面水接触角从56.9°升至104.6°,断裂伸长率从22.96%升至41.22%,同时耐热性提高。但随着FSi-GE的含量继续增加,表面水接触角、耐热性和断裂伸长率都呈现略微下降的趋势。说明加入适量的FSi-GE能够有效提高E4221/VOH体系的最终转化率、疏水性、耐热性和机械性能。; 王烁天胡韵朗贾伟聂俊孙芳

含硅碱溶性光敏预聚物的合成: 为了适应环保需要，在印制电路板工艺中，目前无铅焊接技术已代替有铅焊接。在高密度挠性印制电路板(Flexible Printed Circuit, FPC)制造过程中，无铅焊接技术对配套使用的液态光致成像型阻焊剂的耐高温性...; 孙芳江盛玲张璐邵磊; 关键词：印制电路板无铅焊接技术; 文献传递

α-二羰基结构的构建及应用: 2023年; β-二羰基化合物是有机合成的重要中间体,其化学性质也是有机化学教学中的重点。本文在此基础上介绍了同样具有二羰基结构的α-二酮类化合物的合成方法和相关应用。本文所述内容涉及炔烃的水合反应、炔烃的氧化反应、光催化反应等,既与有机化学教学内容紧密相关又有所延伸。此外,本文所介绍的α-二羰基化合物的应用能拓展学生知识面,提高学生学习兴趣。; 李雪纯孙芳

一种聚酯用钛系催化剂的制备方法及应用: 本发明涉及一种聚酯用钛系催化剂的合成及应用，其合成包括如下步骤：将一元醇、对甲苯磺酰氯和无机碱1加入研钵中研磨得产物A；将丙酮缩甘油、无机碱2、产物A和相转移催化剂搅拌反应得产物B；将产物B于酸性条件下水解得产物C；将产...; 孙芳刘斌刘洪春刘永滨乔玥; 文献传递

一种碱溶性超支化光敏有机硅预聚物及其制备方法: 本发明公开了一种碱溶性超支化光敏有机硅预聚物及其制备方法，包括以下步骤：(1)将有机硅、多元异氰酸酯、含有活泼基团的羧酸或酸酐和催化剂加入到第一反应器中，在50～60℃下反应3～7小时；(2)将羟端基超支化聚合物(HBP...; 孙芳刘晓康; 文献传递

一种含氟光引发剂及其应用: 本发明涉及含氟光引发剂及其在制备梯度聚合物中的应用。该含氟光引发剂由下述通式(I)表示，其中R1、R2、M1的定义如说明书中所述，n＝0～20。本发明的光...; 聂俊赖秀华孙芳

活性稀释剂对有机硅混杂光固化体系感光性能的影响被引量：8: 2002年; 自由基活性稀释剂TEGDA在含硅聚氨酯丙烯酸酯ISAE与环氧化合物组成的混杂光固化体系中m(TEGDA)∶m(ISAE) =1∶2时 ,体系感度较高 ,感度值可达 2 18 5mJ/cm2 。带有叔胺结构的活性稀释单体NVP的加入不利于提高混杂体系的感度 ,其感度值大于 1980mJ/cm2 。阳离子型活性稀释单体 1,2 ,3 丙三醇缩水甘油醚 (EPON - 812 )和 3,4 环氧基环己基甲酸 3′,4′ 环氧基环己基甲酯 (ERL - 4 2 2 1)组成的混合阳离子稀释剂的使用提高了混杂体系的感度和凝胶率 ,感度值下降至 10 5 6mJ/cm2 。; 孙芳黄毓礼杜洪光; 关键词：活性稀释剂有机硅光固化体系感光性能

一种耐高温的光刻胶成膜树脂及其制备方法和应用: 本发明公开一种耐高温的光刻胶成膜树脂及其制备方法和应用，属于半导体微电子化学技术领域。本发明的光刻胶成膜树脂由甲基丙烯酸酯单体与N‑取代马来酰亚胺结构单体共聚得到，此种成膜树脂能够有效提高光刻胶的耐热性，增强光刻胶的抗干...; 孙芳陈曦

1-金刚烷基甲基丙烯酸酯的合成研究被引量：1: 2022年; 以甲基丙烯酰氯和1-金刚烷醇为原料,二氯甲烷为溶剂,采用酯化方法合成了1-金刚烷基甲基丙烯酸酯(ADMA),研究反应温度、反应时间、缚酸剂用量以及原料配比对ADMA收率的影响。结果表明:甲基丙烯酰氯与1-金刚烷醇物质的量比为1.5∶1,阻聚剂吩噻嗪和缚酸剂三乙胺质量分数分别为1.2%、49.4%,反应温度、反应时间分别为30℃、21 h为最佳反应条件,ADMA的收率为86.5%。; 陈曦陈曦; 关键词：光刻胶酯化缚酸剂

一种含硅大分子阳离子光引发剂及其制备方法: 本发明合成了一种梯度聚合用含硅大分子阳离子光引发剂及其制备方法，包括以下步骤：将六甲基环三硅氧烷、二甲基氯硅烷和正丁基锂加入反应釜中，得到产物1；产物1与甲基丙烯酸甲酯反应，得到产物2；产物2与6M氢氧化钠水溶液反应得到...; 孙芳潘河; 文献传递