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吕祺

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院更多>>

文献类型

  • 4篇中文专利

主题

  • 2篇真空室
  • 2篇涡轮分子泵
  • 2篇离子枪
  • 2篇分子泵
  • 2篇抽气装置
  • 1篇淀积
  • 1篇多层膜
  • 1篇真空抽气
  • 1篇平面显示器
  • 1篇显示器
  • 1篇线列
  • 1篇离子束
  • 1篇脉冲
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光淀积
  • 1篇机械泵
  • 1篇激光
  • 1篇激光淀积
  • 1篇夹持
  • 1篇溅射

机构

  • 4篇中国科学院

作者

  • 4篇冯彬
  • 4篇戚晖
  • 4篇李求恕
  • 4篇曾志群
  • 4篇潘福全
  • 4篇阎佐健
  • 4篇吕祺
  • 3篇刘军
  • 3篇鲁向群
  • 2篇孙荣昌
  • 2篇郭东民
  • 2篇石长友
  • 2篇郭宝英
  • 2篇金振奎
  • 1篇刘大为
  • 1篇周景玉
  • 1篇王文魁
  • 1篇谭亮
  • 1篇魏吉萍

年份

  • 4篇2000
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
离子束溅射镀膜机
本实用新型涉及一种离子束溅射镀膜装置。由镀膜室、离子枪、旋转靶、衬底夹持架等组成,镀膜室为圆筒形,离子枪位于镀膜室顶部,镀膜室中部倾斜45°角安装旋转把,离子枪引出栅轴心线与旋转把一面靶材中心点位于同一垂直轴线上,镀膜室...
李求恕王文魁郭东民冯彬曾志群阎佐健刘军戚晖潘福全鲁向群吕祺
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脉冲激光淀积装置
本实用新型涉及一种脉冲激光淀积装置。由真空室、转靶机构、样品架、加热炉、离子枪和真空抽气装置组成,其中真空室为球形,转靶机构和样品架分别安装在真空室里,相对设置,在一个中心线上,所述真空室球体上设有多个法兰窗,其中两个法...
李求恕冯彬吕祺孙荣昌曾志群潘福全戚晖金振奎阎佐健
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平面显示器连续镀膜装置
本实用新型涉及一种平面显示器连续镀膜装置。由五个长方形箱体喷淋烘干室、进样室、溅射室、翻转室、电子束蒸发室及抽气机构等组成,其中喷淋烘干室为非真空室,进样室、溅射室、翻转室和电子束蒸发室为线列式连续镀膜的真空室,手动矩形...
李求恕郭东民冯彬刘军阎佐健鲁向群戚晖吕祺曾志群潘福全郭宝英石长友
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超高真空多功能磁控溅射装置
本实用新型涉及一种超高真空多功能磁控溅射装置。由主溅射室、进样室、磁力传动机构、超高真空抽气装置和高真空抽气分子泵组成,其中主溅射室为梨形结构,由圆柱形真空室配装一“梨把”,“梨把”下面加装一套超高真空抽气装置,进样室为...
李求恕冯彬阎佐健鲁向群吕祺金振奎刘大为刘军戚晖孙荣昌魏吉萍曾志群潘福全郭宝英石长友谭亮周景玉
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共1页<1>
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