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文献类型

  • 8篇中文期刊文章

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主题

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机构

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作者

  • 8篇刘玉倩
  • 2篇侯为萍
  • 2篇吕磊
  • 2篇高建利
  • 1篇宋文超
  • 1篇刘永进
  • 1篇高津平

传媒

  • 8篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 4篇2014
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
基于CAN总线的机械手通信协议的设计与实现
2014年
描述了一种真空吸片式机械手通信协议的设计方案。机械手通信的硬件实现基于CAN总线,具有高精度、实时性和可靠性高等特点,控制软件在Windows下使用VC++6.0编程,具有友好的人机界面和可操作性。概述了机械手的基本功能和应用领域,详细介绍了机械手通信协议的设计思想及软件实现。
刘玉倩刘永进宋文超
关键词:控制器局域网机械手通信协议自动化
基于CANopen协议的运动控制系统底层驱动软件实现被引量:2
2014年
提出了一种基于CANopen协议的底层驱动编程实现,选用Copley公司CAN卡和瑞诺公司的紧凑型交流伺服驱动器,驱动器具备CANopen接口,能非常方便接入CANopen总线网络。对象字典是CANopen协议的核心部分,通过对象字典对设备功能进行描述,根据对象字典来实现运动控制系统底层驱动的软件编码,编程环境为VC++6.0。
刘玉倩侯为萍高建利
关键词:CANOPEN协议对象字典软件编程
光刻胶喷雾涂覆工艺研究
2024年
影响光刻胶喷雾涂覆胶膜厚度和均匀性的因素众多,主要因素有光刻胶浓度(影响液体黏度)、光刻胶流量、氮气压力、扫描速度、轨迹行距、喷头高度、叠加次数、卡盘温度等,另外腔体排风大小、氮气流量、喷头类型(雾化方式和雾化效果)、烘焙温度及时间等也会影响工艺效果。为解决使用喷雾涂覆工艺对基底涂胶时表面粗糙导致的均匀性差的问题,采用正交试验的方法进行了大量的工艺探索。同时,为了更好地了解各项工艺指标及喷涂过程,简要介绍了光刻胶喷雾涂覆设备。试验结果显示,最优工艺条件下,涂胶厚度为5μm时,均匀性可达±4.8%。
郑如意吕磊刘玉倩
关键词:光刻工艺均匀性正交试验
CAN总线在半导体设备中的应用及抗干扰优化设计被引量:1
2017年
针对半导体设备控制系统的实时性、模块化、可靠性的需求,将CAN总线应用于半导体设备控制系统中,达到提高系统实时响应能力、抗干扰、可靠性等目的。
刘玉倩张立军高荣荣
关键词:CAN总线控制系统抗干扰
专用设备信息管理模块的研究与设计
2014年
信息管理功能是专用设备软件系统的重要组成部分,在记录设备运行状态、调测和软件故障定位中发挥了重要的作用。针对专用设备软件系统的信息管理功能,分析了在设计过程中碰到的问题,设计出一种高效实用的专用设备信息管理系统。
刘玉倩
关键词:日志管理软件设计
基于广度优先搜索的晶粒扫描方法被引量:2
2014年
介绍了晶粒扫描技术和广度优先搜索算法,研究了使用广度优先搜索算法进行晶粒扫描的应用条件和编程实现方法。该方法需要CCD系统一次识别9颗晶粒,扫描过程中不走空位,有助于提高设备的效率。
高建利侯为萍刘玉倩
关键词:广度优先搜索晶粒
清洗系统在晶圆减薄后的应用
2018年
根据集成电路晶圆的不同用途,分析了晶圆减薄后残留的污染物对后续工艺的影响,介绍了晶圆减薄机内部集成的清洗系统,并根据清洗目标,提供了一套完整的清洗方案。
刘玉倩高津平
关键词:晶圆
显影系统供液设计研究
2019年
显影是半导体制造过程中的一道很重要的工艺环节,不同工艺使用的显影液不同。为实现多种显影液自动切换,并避免人工更换显影液造成的污染与浪费,且能够有效提高生产效率,设计了一种新型的显影供液系统,可自动切换两种不同浓度同种化学成分和不同化学成分共三种显影液,方便显影液供给,减少人工操作,避免人工换液造成的污染和浪费,能够更好地满足多种显影液频繁更换的需要。
郑如意许南发吕磊刘玉倩
关键词:自动切换
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