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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 3篇热特性
  • 2篇腔面
  • 2篇面发射
  • 2篇激光
  • 2篇激光器
  • 2篇SIO2膜
  • 2篇ALN
  • 2篇垂直腔
  • 2篇垂直腔面
  • 2篇垂直腔面发射
  • 1篇钝化层
  • 1篇有限元
  • 1篇热分析
  • 1篇面发射半导体...
  • 1篇面发射激光器
  • 1篇膜结构
  • 1篇发射激光器
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体激光
  • 1篇半导体激光器

机构

  • 3篇长春理工大学

作者

  • 3篇霍晋
  • 2篇曲轶
  • 2篇马祥柱
  • 1篇李辉
  • 1篇赵博
  • 1篇张斯钰
  • 1篇杜石磊

传媒

  • 1篇光子学报
  • 1篇应用光学

年份

  • 3篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
基于ANSYS模拟的高功率串联式LD模块的热特性分析
半导体激光器的热特性直接关系到器件的退化,稳定性和输出功率,是衡量激光器的重要参数。因此,对半导体激光器热特性的准确模拟和分析是半导体器件封装的重要课题。 本论文研究了基于高功率串联式LD模块的热特性,分析推导了多芯片组...
霍晋
关键词:热特性ANSYS有限元热分析
文献传递
基于AlN膜结构VCSEL热特性的研究(英文)被引量:1
2010年
本文用ANSYS有限元热分析软件模拟了基于AlN膜钝化层和Si O2膜钝化层的高功率垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)器件内部的热场分布和热矢量分布.目的是证明Al N膜钝化层要比SiO2膜钝化层有具更好的特性,使器件能更稳定的工作,提高器件的特性,经模拟得到基于Al N膜钝化层的VCSEL热阻为3.12℃/W,而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.77℃/W.经实验测得基于Al N膜钝化层的VCSEL热阻为3.59℃/W而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.82℃/W,模拟结果和实验结果吻合较好.说明AlN膜钝化层要比SiO2膜钝化层具有更好的热特性.
马祥柱张斯钰赵博李辉霍晋曲轶
关键词:垂直腔面发射激光器SIO2膜
基于AlN膜钝化层VCSEL激光器热特性的研究被引量:1
2010年
用ANSYS有限元热分析软件模拟了基于AlN膜钝化层和SiO2膜钝化层的高功率垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)器件内部的热场分布和热矢量分布。经模拟得到基于AlN膜钝化层的VCSEL热阻为3.123℃/W,而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.377℃/W。经实验测得基于AlN膜钝化层的VCSEL热阻为3.54℃/W,而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.75℃/W,模拟结果与实验结果吻合较好。
马祥柱霍晋曲轶杜石磊
关键词:垂直腔面发射半导体激光器SIO2膜ANSYS
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