袁景梅
- 作品数：11 被引量：84H指数：5
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术更多>>
- 不同退火过程对紫外HfO_2/SiO_2,Y_2O_3/SiO_2多层膜性能的影响被引量：1
- 2009年
- 采用直升式和阶梯式加热法对电子束热蒸发镀制出的HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2多层膜进行了400℃的退火处理,发现采用阶梯式加热法退火后多层膜在190～300 nm范围内的峰值反射率均得到提高,说明此种后处理方法可能会改善膜层在紫外波段的光学性能。再对HfO2,,2O3的单层膜进行行相应的退火处理,发现退火后HfO2膜层的物理厚度减小从而发生蓝移现象;直升式退火使Y2O3膜层的折射率变小引起蓝移,阶梯式退火使得Y2O3膜层的物理厚度减小引起蓝移。对退火前后样品的微结构进行X射线衍射(XRD)法测量发现,退火可以使材料进行晶化,并且采用直升式加热法后材料的结晶度更大,从而膜内散射变大,会引起膜层反射率的轻微降低。
- 袁景梅贺洪波易葵邵建达范正修
- 关键词：光学薄膜紫外退火
- 高光学性能紫外高反薄膜元件的研制
- 该文采用电阻热蒸发和电子束热蒸发的方法,通过在石英基底上制备材料的单层膜,用光度学方法首次比较全面系统地计算出了应用于紫外波段的五种氧化物和七种氟化物在200nm到2000nm波段内折射率n和消光系数k的色散曲线,并求出...
- 袁景梅
- 关键词：反射率消光系数粗糙度微结构
- 文献传递
- 高折射率材料吸收特性对193nm HfO_2/SiO_2,Y_2O_3/SiO_2,Al_2O_3/SiO_2多层膜反射特性的影响被引量：6
- 2004年
- 由单层HfO2,SiO2,Y2O3,Al2O3膜求出其折射率和消光系数色散曲线,据此计算出HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2的193nm多层膜反射膜曲线,并用电子束热蒸发的方法进行镀制。由分光光度计测量样品的透射率和绝对反射率,求出了各种膜层的吸收曲线。结果发现HfO2/SiO2,Al2O3/SiO2反射率实验结果与理论结果吻合得很好,而Y2O3/SiO2的理论曲线偏高。通过模拟Y2O3/SiO2的反射率曲线发现Y2O3的消光系数远大于由单层膜实验得出的结果。这说明Y2O3膜层的吸收特性与薄膜的制备工艺密切相关。
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- 关键词：折射率消光系数
- 用离子束溅射方法制备的钛薄膜表面形貌分析被引量：11
- 2003年
- 用离子束溅工艺在K9玻璃基片上沉积Ti薄膜 ,并用原子力显微镜对其表面形貌进行测量 ,通过数值相关运算 ,发现在此工艺条件下薄膜生长界面为各向同性的自仿射分形表面 ,并用粗糙指数、横向相关长度和标准偏差粗糙度对薄膜样品表面进行定量描述。利用自仿射分形表面的相关函数对数值运算的结果进行拟合 ,得出Ti薄膜生长界面的粗糙度指数α =0 .72 ,相应的分形维数Df=2 .2 8,并由此得到在离子束溅射工艺下Ti薄膜属于守恒生长的结论 ,其生长动力学过程可用Kuramoto Sivashinsky方程来描述。
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- 关键词：表面形貌自仿射分形生长动力学
- 非理想参数下193nm光学薄膜的设计被引量：13
- 2004年
- 193nm光学薄膜是 10 0nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜。分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响。结果表明 ,要镀制出反射率大于98 5 %的高反膜 ,必须将高折射率材料的消光系数k控制在 0 0 0 34以内 ,同时膜层表面的粗糙度σ控制在 1nm以内。膜层性能同时还受其使用环境中水气含量及其水气中杂质含量的影响 ,要减少膜层水吸收的影响 ,就必须提高薄膜的致密度 ,采用离子成膜技术 ,或者改变膜层的使用环境。在考虑相关因素的前提下 ,设计了在光刻机曝光系统中主要用到的增透膜、高反膜 。
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- 关键词：光刻机消光系数表面粗糙度
- 真空室内在线更换基片的装置
- 一种真空室内实现在线更换基片的装置，包括由空心转轴和同心置放在空心转轴内的实心转轴构成的转轴。当空心转轴与实心转轴由两顶丝固定在一起时，带动基片夹具与挡板一起转动。当两顶丝松开时，空心转轴与实心转轴分别带动基片夹具和挡板...
- 齐红基汤兆胜易葵邵建达袁景梅范正修
- 文献传递
- 测量液体色散折射率和吸收系数的方法
- 一种测量液体色散折射率和吸收系数的方法，该方法是将液体分别置于由同一材质制成的具有相同壁厚而具有不同宽度的容器中，分光光度计的光源光束分别垂直穿过空容器和装了液体的不同宽度的容器，得到三条透射率曲线，然后用光度学的方法，...
- 袁景梅范正修邵建达易葵
- 文献传递
- 真空室内在线更换基片的装置
- 一种真空室内实现在线更换基片的装置，包括由空心转轴和同心置放在空心转轴内的实心转轴构成的转轴。当空心转轴与实心转轴由两顶丝固定在一起时，带动基片夹具与挡板一起转动。当两顶丝松开时，空心转轴与实心转轴分别带动基片夹具和挡板...
- 齐红基汤兆胜易葵邵建达袁景梅范正修
- 文献传递
- HfO_2中ZrO_2含量对266nmHfO_2/SiO_2多层膜反射率的影响被引量：4
- 2004年
- 用两种不同纯度的HfO2 材料与同一纯度的SiO2 材料组合 ,沉积λ/ 4规整膜系 (HL) 11H形成 2 6 6nm的紫外反射镜 ,发现反射率相差 0 .7%左右。用X光电子能谱法分析了高反膜中表层HfO2 中的成分 ,发现ZrO2 的含量相差一个数量级左右。为确定形成这种差别的原因 ,用辉光放电质谱法测定了这两种HfO2 材料中锆 (Zr)及其钛(Ti)、铁 (Fe)的含量 ,发现Zr是其中的最主要的杂质 ,两种HfO2 材料中Zr含量有一个数量级的差别。说明在 2 6 6nm波段 ,HfO2 中ZrO2 的含量会对HfO2 /SiO2 高反膜的反射率造成影响。根据HfO2 单层膜的光谱曲线 ,推算出了这两种材料的消光系数的差别 ,并用Tfcalc膜系设计软件进行理论和镀制结果的模拟 ,得到与实验测试一致的结果。
- 袁景梅范瑞瑛杨健邵建达范正修
- 关键词：光学性质辉光放电质谱法激光薄膜
- 沉积工艺对二氧化锆薄膜生长特性影响的研究被引量：12
- 2003年
- 利用反应离子束溅射、反应磁控溅射和电子束蒸发在K9基底上沉积ZrO2 薄膜 ,并用原子力显微镜对薄膜表面形貌进行测量。通过数值相关运算 ,对不同工艺条件下薄膜生长界面进行定量描述 ,得到了薄膜表面的粗糙度指数、横向相关长度、标准偏差粗糙度等参量。由于沉积条件的不同 ,薄膜生长具有不同的动力学过程。在反应离子束溅射和反应磁控溅射沉积薄膜过程中 ,薄膜生长动力学行为均可用Kuramoto Sivashinsky方程来描述 ,电子束蒸发制备薄膜的过程可以用Mullins扩散模型来描述 。
- 齐红基程传福袁景梅邵建达范正修黄立华
- 关键词：反应磁控溅射电子束蒸发原子力显微镜表面形貌动力学过程
