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王稳奇

作品数:13 被引量:12H指数:2
供职机构:西安工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金陕西省教育厅科研计划项目更多>>
相关领域:电子电信文化科学一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 2篇电气工程
  • 2篇文化科学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇核科学技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇刻蚀
  • 3篇离子
  • 3篇离子束
  • 3篇离子源
  • 3篇磁场
  • 2篇低应力
  • 2篇离子束刻蚀
  • 2篇介质
  • 2篇介质薄膜
  • 2篇金刚石薄膜
  • 2篇课程
  • 2篇类金刚石
  • 2篇类金刚石薄膜
  • 2篇激光
  • 2篇激光损伤
  • 2篇溅射
  • 2篇教学
  • 2篇教学方法
  • 2篇光学
  • 2篇磁场分析

机构

  • 12篇西安工业大学
  • 1篇西北工业大学

作者

  • 12篇王稳奇
  • 4篇朱昌
  • 2篇朱春燕
  • 2篇吴慎将
  • 2篇李党娟
  • 2篇徐均琪
  • 2篇王森
  • 2篇王娜
  • 2篇苏俊宏
  • 2篇时凯
  • 1篇惠迎雪
  • 1篇陈丁
  • 1篇弥谦
  • 1篇樊慧庆
  • 1篇孙国斌
  • 1篇郗华

传媒

  • 2篇价值工程
  • 2篇表面技术
  • 1篇科技资讯
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇西安工业大学...
  • 1篇第19届中国...

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 4篇2009
  • 2篇2008
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种低应力类金刚石薄膜的制备方法
本发明涉及一种低应力类金刚石薄膜的制备方法。本发明的目的是要在保证DLC薄膜的光学透过率及硬度的基础上,减小其应力。所提供的技术方案是:一种提高类金刚石薄膜抗激光损伤能力的方法,是在DLC及介质薄膜的表面形成具有闭环的磁...
李党娟吴慎将王娜苏俊宏徐均琪王稳奇时凯王佳超
文献传递
头盔瞄准具检测系统的概述
2009年
为了精确检测飞行员视线与头盔瞄准具瞄准线相对误差,采用五轴仿真检测系统模拟头部各种姿态的方式进行实现,提出一种低成本实现五轴检测系统的方案。系统设计以电机静态性能最佳为设计目标,利用免疫算法的模糊自适应性与可靠性,进行了位移、速度状态主免疫控制器设计,并使其同时输出给主、从电机伺服放大器。实验结果表明,检测系统提高了头盔瞄准具视线测量效率,对头盔瞄准具的瞄准精度修正提高有重要意义。
陈丁王森王稳奇
关键词:头盔瞄准具
清洗刻蚀源的磁场分析
一个离子源中电磁场的设计好坏与否决定了这个离子源工作的好坏,为此,本文着重分析介绍了一个适用于清洗和刻蚀用的大束密均匀区双发射离子束源的磁场计算、结构及其工作原理,根据磁路理论,并利用Quickfield二维有限元分析软...
王稳奇朱昌
关键词:离子源磁场计算电场
文献传递
独立学院《光学零件工艺学》课程教学方法的改革
2012年
在光学零件工艺学课程的教学中,采用循序渐进的方法,结合生产录像、动画、声音和文字等多媒体课件手段,通过引入实物、实例讨论和研究型教学等灵活多样的教学方法以及校外实习和革新课程考核方式等措施,帮助学生理解加工原理和过程,探索出了一种适合独立学院的教学方法。
王稳奇
关键词:教学方法
清洗刻蚀源的磁场分析
一个离子源中电磁场的设计好坏与否决定了这个离子源工作的好坏。本文着重分析介绍了一个适用于清洗和刻蚀用的大束密均匀区双发射离子束源的磁场计算、结构及其工作原理,根据磁路理论,并利用Quickfield二维有限元分析软件对电...
王稳奇朱昌
关键词:磁场计算有限元分析
文献传递
独立学院《光学薄膜技术》课程体系的构建和主动式教学方法研究被引量:1
2011年
在光学薄膜课程的教学中,采用完善的教学体系和互动式教学方法,科学地组织庞杂的知识点,将抽象的概念具体化,渗入课程前沿领域的知识,在课堂教学中重视采用多种表现形式,探索出了一种适合独立学院的教学方法。
朱春燕王森王稳奇
关键词:教学体系主动式教学教学方法
电磁阴极磁场分布对磁控溅射系统伏安特性的影响被引量:1
2009年
本文设计了一种新型圆形平面阴极磁控溅射源。该源具有独特的三极线圈结构,改变各线圈励磁电流可调节靶面磁场强度的大小和分布。通过对系统气体放电伏安特性随各线圈励磁电流大小变化规律的分析,以及对距靶面60mm基片台处等离子体束流密度大小和分布的测试,探讨了阴极磁场分布对磁控溅射系统伏安特性的影响。实验结果表明阴极磁场分布模式对气体放电稳定性和等离子体分布影响显著,当阴极磁场呈现收敛型分布时,二次电子被紧密束缚在靶面附近,降低了基片台附近等离子体束流密度,却增大等离子体束流径向分布均匀性。调节非平衡线圈励磁电流,在附加磁场的作用下,阴极磁场呈现发散型分布,二次电子被引向基片台附近,使得基片台附近等离子体束流密度显著增加但径向均匀性变差。
惠迎雪樊慧庆弥谦孙国斌王稳奇
关键词:磁控溅射磁场分布等离子体非平衡磁控溅射
清洗刻蚀源及其应用
随着微细加工技术的不断深入,新型离子源的不断兴起,刻蚀技术经历了由湿法刻蚀到一系列干法刻蚀的发展过程,其中,离子束刻蚀技术是利用带能离子轰击固体表面从而产生溅射现象的一种刻蚀方法,由于其刻蚀方向性好、分辨率高、工艺参数可...
王稳奇
关键词:离子源离子束刻蚀刻蚀速率
文献传递
清洗刻蚀源的均匀性分析
2009年
为了研制具有高性能的离子源,进而获得高质量的加工工艺,用自制的法拉第筒对清洗刻蚀源均匀性进行了测试,分析了影响离子束均匀性的主要因素,并采用清洗刻蚀离子源进行氩离子束刻蚀.实验结果表明:采用双圈发射型结构比采用单圈结构所得到的离子束密均匀性要好,在一定范围内减小阳极放电电压、减小出口束流、增大距源出口中心距离均可导致出口束密均匀性的提高,离子束刻蚀Cu膜表面粗糙度与离子束密空间分布均匀性紧密相关,目前可达到的最优表面粗糙度值为1.0678 nm.
朱昌王稳奇
关键词:离子源均匀性离子束刻蚀表面粗糙度
霍尔无栅离子源的研制及应用被引量:1
2012年
基于离子束辅助镀膜技术,自主研制了一款新型霍尔无栅离子源,利用该离子源,采取离子束辅助沉积方法,在玻璃基底上镀制了多种光学薄膜,并对所镀制光学薄膜的性能进行了测试。测试结果表明:所研制的霍尔无栅离子源制备的各种光学薄膜,其膜层强度、附着性、耐腐蚀性以及光学性质都比常规热蒸发工艺所制得的薄膜有明显改善。
王稳奇朱昌
关键词:离子束辅助沉积光学薄膜
共2页<12>
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