杨信伟
- 作品数：6 被引量：25H指数：2
- 供职机构：沈阳建筑工程学院更多>>
- 相关领域：电子电信金属学及工艺机械工程自然科学总论更多>>
- 均衡压力场平面抛光技术的研究
- 2003年
- 这里基于弹性力学的接触理论,研究了导向环、工件与抛光垫接触的压力场分布形态,提出了通过改变工件相对夹具的负载比,进行均衡压力场抛光技术的研究,较好地解决了大尺寸硅片的平面加工问题。使用该项技术可使半导体晶片抛光的平面度达到0.25～0.33μm/Φ76mm。
- 孙军王军杨信伟
- 关键词：超精密加工抛光半导体晶片平面度
- 塔式起重机安全状态在线模糊识别理论及监测系统的研究
- 李斌郑夕健李伟马斌陈贵武林建杰杨信伟
- 塔式起重机是工业与民用建筑中必不可少的物料搬运设备，由于其工作环境不稳定，使塔式起重机成为起重机械中风险度最大的起重设备。该成果研究了塔式起重机事故发生的原因，破坏形式和目前塔机所用安全装置的特性；研究了塔机整体稳定性的...
- 关键词：
- 关键词：塔式起重机自动监测在线监测
- 单晶硅片的弹性变形法抛光新技术
- 本文基于弹性力学的接触理论,使用大尺寸环板中心负载和平面压头边界悬伸变形方式,提出了单晶硅片抛光的新工艺。研究的结果表明,利用该技术可使半导体晶片在抛光过程中获得均匀一致的材料去除,并且在给定的实验条件下使平面度达0.2...
- 孙军王军杨信伟吕玉山
- 关键词：超精密加工抛光单晶硅片
- 文献传递
- 晶片行星式研磨抛光机运动模拟的研究被引量：22
- 2000年
- 针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发 ,模拟了磨粒切痕方向、磨粒轨迹形态的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向、表面完整性的影响规律。
- 王军孙军杨信伟吕玉山
- 关键词：单晶硅片运动模拟
- 晶片行星式研磨抛光机运动模拟研究被引量：6
- 2000年
- 针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发计算模拟了磨粒平均相对速度、研磨盘磨损的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向的影响规律 。
- 杨信伟孙军王军
- 关键词：单晶硅片运动模拟
- 高校实验教学中存在的问题及解决措施被引量：1
- 2004年
- 本文论述了高等工科院校教育中理论教学与实验教学的关系,指出了目前实验教学环节中存在的问题并提出改进措施.
- 张幼琴罗纪曼杨信伟
- 关键词：理论教学实验教学
