余兴
- 作品数：41 被引量：105H指数：8
- 供职机构：钢铁研究总院更多>>
- 发文基金：国家重大科学仪器设备开发专项国家创新方法工作专项更多>>
- 相关领域：理学机械工程金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 辉光放电光谱法在深度分析上的应用现状被引量：8
- 2011年
- 本文简单地介绍了辉光放电光谱法(GD-OES)的基本原理。分别对深度分析的定量方式、放电方式、应用领域和相关标准进行了详细地阐述。重点描述了商品化仪器中使用的SIMR深度分析定量方法。分别对三种放电方式(如直流、射频和脉冲)在深度分析中的特点进行了介绍。综述了GD-OES在金属镀层、复杂涂镀层、纳米级薄膜和样品制备领域的具体应用。最后,介绍了GD-OES在深度分析方面的标准。
- 余兴
- 辉光放电质谱分析技术的应用进展被引量：14
- 2009年
- 简单介绍了辉光放电质谱(GDMS)的基本原理。对辉光放电质谱在块状金属、半导体、非导体、溶液、气体和深度分析方面的应用进行了综述。块状金属和半导体的痕量元素分析为GDMS主要的应用,它们的研究报道众多;对非导体材料的分析扩宽了GDMS的应用范围;同时尝试采用GDMS对溶液和气体样品进行分析;GDMS作为一种重要的深度分析方法,相关的应用迅速增加。最后展望了辉光放电质谱的发展趋势。
- 余兴李小佳王海舟
- 关键词：辉光放电质谱
- 辉光放电质谱的应用及展望
- 本文介绍了辉光放电质谱(GDMS)的基本原理.对辉光放电质谱在块状金属、半导体、非导体、溶液、气体和深度分析方面的应用。块状金属和半导体的痕量元素分析是GDMS主要的应用,它们的研究报道众多,而对非导体材料的分析扩宽了G...
- 余兴李小佳王海舟
- 关键词：分析化学质谱分析辉光放电
- 文献传递
- 辉光放电质谱法测定高温合金中的痕量元素
- 研究了用辉光放电质谱法(GDMS)同时测定高温合金中的痕量元素.通过对分析元素同位素干扰情况的考察,对辉光放电参数如电流、电压、预溅射时间和积分时间的优化,建立了测定高温合金中B,P,Sc,Cu,Ga,Ge,As,Ag,...
- 余兴李小佳王海舟
- 关键词：辉光放电质谱法高温合金痕量元素
- 文献传递
- 一种流体微探应变的合金显微组织全视场统计表征方法
- 本发明涉及一种流体微探应变的合金显微组织全视场统计表征方法，包括：a、将合金样品表面研磨和抛光至镜面光洁度，且无磨制缺陷，然后在合金样品表面上确定待测区域；b、使用白光干涉三维形貌仪对合金样品表面进行初始形貌测量；c、采...
- 冯光贾云海王海舟毕中南沈学静王蓬秦海龙赵雷余兴李冬玲
- 文献传递
- 辉光放电质谱分析中质谱干扰及其校正方法的现状被引量：10
- 2010年
- 详细地介绍了辉光放电质谱分析中的质谱干扰如同量异位素、多原子离子和多电荷离子干扰。从同位素选择、高分辨率仪器、碰撞诱导解离、离子源冷却、数学方法校正、放电气体更换和放电气体纯度提高等方面对辉光放电质谱的质谱干扰校正方法的现状进行了评述(引用文献共68篇)。
- 余兴李小佳王海舟
- 关键词：辉光放电质谱
- 用于在线实时溅射深度测量的格林辉光放电光源
- 一种用于在线实时溅射深度测量的格林辉光放电光源，属于金属材料分析-辉光光谱分析技术领域。包括阳极筒、阴极盘、放电腔和石英窗、气路、光纤装置五部分。与激光位移传感器联用，进行在线实时测量样品溅射深度；产生辉光放电的部分是尾...
- 李小佳万真真王海舟贾云海余兴张胜坤罗剑秋
- 文献传递
- 电感耦合等离子体四极杆质谱离子光学系统的现状与进展被引量：9
- 2011年
- 简要地介绍了电感耦合等离子体四极杆质谱(Inductively Coupled Plasma Quadru-pole Mass Spectrometry,ICP-QMS)的离子光学系统。对各主要仪器厂商(如安捷伦、珀金埃尔默、赛默飞世尔、瓦里安)的ICP-QMS的离子光学系统进行了归纳,分为光子挡板、离轴、90度偏转三种类型。分别对不同类型的离子光学系统的现状与进展进行了详细地评述。
- 余兴
- 磁场增强型高通量辉光放电溅射源的设计与研究
- 2025年
- 高通量表征技术在金属材料分析领域具有重要应用价值,它能够实现对金属材料进行跨尺度的全域分析,评价材料表面宏观特性、微观不均匀性及局部缺陷。辉光放电溅射可沿样品表面的纵深方向,以大尺寸、平坦且快速的方式逐层剥蚀样品,再将暴露出真实显微组织的样品送至多种分析仪器中进行成分、性能、组织结构的分析,从而作为金属材料的高通量表征样品前处理环节的关键设备。在传统Grimm型辉光溅射源的基础上,本研究搭建了一种专为高通量实验设计的辉光放电溅射系统,该系统将辉光溅射尺度由mm级扩展至cm级,同时实验发现了大尺寸溅射会导致辉光放电强度及溅射速率降低这一现象。针对这一现象,结合通过COMSOL Multiphysics仿真计算的辉光放电电子运动轨迹、电子密度以及化学反应速率等结果,该研究提出了一种通过施加扫描磁场来增强辉光放电光谱(GD-OES)强度以及溅射速率的方法。实验选用T2紫铜样品来探究扫描磁场的增强效果,结果表明,应用扫描磁场增强装置可获得更强的光谱信号强度及更快的溅射速率。在保持放电电压和电流不变的前提下,Mo、Cu元素的光谱强度分别增至无磁场时的1.43~11.97倍和1.13~26.50倍。其中,Mo元素光谱强度最大值可达53421 Cts,Cu元素光谱强度最大值可达76948 Cts,分别是无磁场时的6.86倍、4.32倍。此外,该方法可以显著地提高溅射速率,当阳极筒孔径为?15 mm时,T2紫铜样品的溅射速率提高了4.35倍,最高可达2662.09 nm·min^(-1)。使用白光干涉仪和金相显微镜对溅射坑表面的平整度和显微组织图像进行了采集,结果显示磁场引入对溅射坑表面粗糙度未产生显著影响,同时能清晰地呈现样品的真实显微组织特征。综上,实验结果证实,应用扫描磁场增强装置可在确保溅射平整度不受影响的前提下,实现光谱信号强度和溅射速率的提
- 沈懿璇万真真余兴余兴王永清王海舟王永清
- 关键词：磁场溅射
- 辉光放电质谱法测定高温合金中痕量元素的质谱干扰校正
- 本文系统地研究了辉光放电质谱法(GDMS)测定高温合金中痕量元素时存在的质谱干扰,并详细地给出了各同位素存在的主要质谱干扰及其干扰的程度。根据各元素质谱干扰的实际情况,分别采用不同的方法用于干扰校正，通过如选择不受干扰的...
- 余兴李小佳王海舟
- 关键词：钢材分析高温合金痕量元素质谱分析
- 文献传递
