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董兆辉

作品数：2 被引量：19H指数：1
供职机构：南开大学物理学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇激光
  • 1篇调谐
  • 1篇线宽
  • 1篇刻蚀
  • 1篇激光刻蚀
  • 1篇激光器
  • 1篇光刻
  • 1篇硅片
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体激光
  • 1篇半导体激光器
  • 1篇波长
  • 1篇波长调谐

机构

  • 2篇南开大学
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 2篇王宏杰
  • 2篇吕福云
  • 2篇董兆辉
  • 1篇李超
  • 1篇刘建生
  • 1篇隋金龄
  • 1篇杜永超
  • 1篇郭文刚
  • 1篇田晓洁

传媒

  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇光电子技术与...

年份

  • 2篇2004
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
双光栅外腔半导体激光器压窄技术的研究
2004年
介绍了利用双光栅外腔结构对650 nm半导体激光器输出激光进行选模、线宽压窄及波长调谐的 研究。获得了最窄线宽<0.01 nm的单纵模激光输出,实现了波长调谐范围约8.4 nm。
董兆辉王宏杰隋金龄田晓洁吕福云
关键词：半导体激光器波长调谐
激光刻蚀技术的应用被引量：19
2004年
对激光刻蚀过程中的气化现象进行了热力学分析,根据不同的材质合理地选取工作条件,进行了激光狭缝刻制、太阳电池硅片打孔及激光标识的试验,并对刻蚀结果进行了对比分析,得出与理论分析相符的结果。
王宏杰郭文刚董兆辉吕福云杜永超李超刘建生
关键词：激光刻蚀硅片
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共1页<1>
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