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胡佳

作品数：7 被引量：0H指数：0
供职机构：北京大学更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇专利
  • 2篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 6篇刻蚀
  • 3篇等离子体
  • 3篇离子
  • 3篇金属
  • 3篇边界角
  • 2篇等离子体刻蚀
  • 2篇形貌分析
  • 2篇结构尺寸
  • 2篇刻蚀工艺
  • 2篇刻蚀速率
  • 2篇各向异性刻蚀
  • 2篇干法刻蚀
  • 2篇干法刻蚀工艺
  • 2篇高密度等离子...
  • 2篇测量方法
  • 1篇电火花
  • 1篇对准标记
  • 1篇掩膜
  • 1篇熔融
  • 1篇熔融盐

机构

  • 7篇北京大学

作者

  • 7篇胡佳
  • 3篇张轶铭
  • 2篇李男男
  • 2篇陈书慧
  • 2篇李天宇
  • 2篇罗进

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 4篇2012
  • 1篇1984
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
一种刻蚀金属钼材料的方法
本发明公开了一种刻蚀金属钼材料的方法，在金属钼材料上形成刻蚀掩膜，然后采用高密度等离子体(如ICP、TCP等)干法刻蚀工艺，产生高密度、高能量离子和自由基，实现了对金属钼体材料的高速率、各向异性刻蚀。刻蚀速率可达2.63...
陈兢胡佳张轶铭陈书慧李男男罗进
文献传递
Li,K,Al ll Cl,F体系相图及熔融盐表面张力和密度的研究
胡佳
关键词：相图
一种刻蚀金属钨材料的方法
本发明公开了一种刻蚀金属钨材料的方法，在金属钨材料上形成刻蚀掩膜，然后采用高密度等离子体(如ICP、TCP等)干法刻蚀工艺，产生高密度、高能量离子和自由基，实现了对金属钨体材料的高速率、各向异性刻蚀。刻蚀速率可达2.95...
陈兢胡佳张轶铭陈书慧李男男李天宇
文献传递
金属材料ICP深刻蚀基础研究
在目前的MEMS加工工艺中，感应耦合等离子体(ICP)深刻蚀工艺是一项独具特色并且具有广泛应用前景的工艺技术。随着MEMS技术在更多的领域中需要应对更多的需求，如生物领域的可靠性、兼容性;恶劣环境中的抗辐射、抗高温高压、...
胡佳
关键词：感应耦合等离子体
等离子体刻蚀模拟中最大离子边界角的测量方法
本发明公开了一种等离子体刻蚀模拟中最大离子边界角的测量方法，经一次匀胶和两次曝光操作制作负性光刻胶悬空结构，以此悬空结构作为掩膜进行刻蚀实验，通过对实验结果进行形貌分析，并借助于在同一个实验片上同时制作的负性光刻胶粘附结...
陈兢胡佳
文献传递
一种金属微小结构的加工方法
本发明提供一种金属微小结构的加工方法，其步骤包括：在金属基片背面刻蚀双面对准标记和背面盲孔的对准标记；采用微细电火花工艺在基片背面制作盲孔阵列；采用物理气相沉积方法在基片背面制作金属层；根据产品的结构形状，在基片正面对应...
陈兢单一张轶铭罗进李天宇胡佳
文献传递
等离子体刻蚀模拟中最大离子边界角的测量方法
本发明公开了一种等离子体刻蚀模拟中最大离子边界角的测量方法，经一次匀胶和两次曝光操作制作负性光刻胶悬空结构，以此悬空结构作为掩膜进行刻蚀实验，通过对实验结果进行形貌分析，并借助于在同一个实验片上同时制作的负性光刻胶粘附结...
陈兢胡佳
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