汪海宾
- 作品数：9 被引量：14H指数：3
- 供职机构：苏州大学更多>>
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- 相关领域：电子电信机械工程理学更多>>
- 凸球面矩型槽光栅的衍射特性被引量：3
- 2010年
- 本文在用耦合波理论研究平面光栅的基础上,提出了分析和解决凸球面光栅衍射效率问题的方法,并从中得出一些有意义的结论：在凸球面光栅的口径半径比较小时,求解其衍射效率可以转化为平面光栅问题来处理。
- 汪海宾吴建宏刘全
- 关键词：严格耦合波理论衍射效率
- 一种制作凸面双闪耀光栅的方法
- 本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，...
- 刘全汪海宾吴建宏胡祖元陈新荣李朝明
- 文献传递
- Ar^+离子束刻蚀制作凸面闪耀光栅被引量：10
- 2011年
- 凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小,制作工艺难度大,其衍射效率与理论值有较大差距,一直制约其应用。针对上述问题与难点进行了分析,通过光刻胶光栅掩模制作和Ar+离子束刻蚀等工艺制作了凸面闪耀光栅。针对离子束大掠入射刻蚀凸球面时槽形闪耀角不易一致的难题,利用转动扫描刻蚀实现了球面上的闪耀光栅刻蚀,最终制作出了约4.3°闪耀角的凸面闪耀光栅,在400～800nm波段范围内,其+1级衍射光效率均值达40%以上。
- 汪海宾刘全吴建宏
- 关键词：衍射光栅全息光刻衍射效率
- 一种制作凸面双闪耀光栅的方法
- 本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，...
- 刘全汪海宾吴建宏胡祖元陈新荣李朝明
- 光纤光栅相位掩模的研制
- 利用全息-离子束刻蚀和反应离子束刻蚀相结合的新方法，制作了周期为1069nm、占宽比为0.41、槽深为268nm的光纤光栅相位掩模和中心周期为1000nm、啁啾率1nm／mm、有效面积为100mm×10mm的线性啁啾相位...
- 刘全吴建宏汪海宾方玲玲杨卫鹏李朝明陈新荣
- 关键词：光纤光栅相位掩模离子束刻蚀衍射效率刻蚀工艺
- 文献传递
- 凸面闪耀光栅的设计及其制作
- 本文围绕凸面闪耀光栅的特点和制作展开了理论和实验研究,主要包含了以下几方面的内容:
首先,介绍了研究凸面光栅的意义和国内外凸面光栅的研究进展,并讨论了离子束刻蚀对于掩模制作的重要意义,介绍了离子束刻蚀的国内外研究现...
- 汪海宾
- 关键词：严格耦合波理论衍射效率离子束刻蚀掩模制作
- 文献传递
- 一种制作全息双闪耀光栅的方法
- 本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，...
- 刘全吴建宏汪海宾胡祖元陈新荣李朝明
- 文献传递
- Zemax软件在取样光栅对设计中的应用
- 2010年
- 光束取样光栅(BSG)是一种重要的用于光束取样诊断的衍射光学元件。以2块取样光栅代替单块光栅作为初始光学结构,运用Zemax光学设计软件采用分步优化的方法设计了具有消像差功能的光栅对结构,此方法比采用Matlab语言编程计算的方法消像差更快捷、更灵活,同时可以验证程序计算结果的正确性。设计结果显示:再现的会聚光经2块光栅衍射后在像平面上点列图中的均方根半径仅为0.506μm,单块取样光栅的均方根半径则为7.284μm,说明2块光栅能够做到像差互相矫正,其像质明显好于单块取样光栅。另外,设计出的双光栅光学系统,可进行远场光斑质量检测,为激光束性能的在线诊断提供了行之有效的技术支持。
- 汪海宾杨玖娟吴建宏
- 关键词：取样光栅光学设计
- 一种制作全息双闪耀光栅的方法
- 本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，...
- 刘全吴建宏汪海宾胡祖元陈新荣李朝明
- 文献传递
