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李高全

作品数：5 被引量：21H指数：3
供职机构：四川大学化学学院化学系更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信化学工程理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 4篇硅烷
  • 3篇聚硅烷
  • 1篇双环
  • 1篇双环戊二烯
  • 1篇准分子
  • 1篇准分子激光
  • 1篇戊二烯
  • 1篇氯硅烷
  • 1篇抗蚀剂
  • 1篇环戊二烯
  • 1篇激光
  • 1篇激光作用
  • 1篇己基
  • 1篇加成
  • 1篇甲基
  • 1篇降解
  • 1篇光降解
  • 1篇光刻
  • 1篇光学
  • 1篇光学材料

机构

  • 4篇四川大学
  • 1篇四川联合大学

作者

  • 5篇陈德本
  • 5篇李高全
  • 1篇马洪
  • 1篇谢茂浓
  • 1篇贺建业
  • 1篇傅鹤鉴
  • 1篇周宗华

传媒

  • 1篇四川大学学报...
  • 1篇化学研究与应...
  • 1篇高分子材料科...
  • 1篇功能材料
  • 1篇有机硅材料及...

年份

  • 1篇1997
  • 1篇1995
  • 3篇1993
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
聚硅烷在XeCl准分子激光作用下光降解及亚微米光刻的研究被引量：5
1997年
采用３０８ｎｍＸｅＣｌ准分子激光研究了聚硅烷溶液和聚硅烷薄膜的光降解反应，利用玻璃片为基底，旋转涂布，分别以酚醛树脂和聚氨酯为平坦层，以聚硅烷为成像层和阻挡层，构成双层工艺，进行接近式曝光，用混合溶剂显影，并通过Ｏ２－ＲＩＥ处理，最终得到了亚微米的光刻图形．
傅鹤鉴李高全谭键马洪马洪谢茂浓
关键词：聚硅烷光降解光刻准分子激光
聚硅烷——高分辨的光致抗蚀剂被引量：1
1993年
概述了光致抗蚀剂在微电子工业中的作用,着重介绍了聚硅烷光致抗蚀剂的特点,以及聚硅烷紫外、深紫外、X射线。
李高全陈德本
关键词：聚硅烷高分辨率光致抗蚀剂
聚硅烷——类崭新的非线性光学材料被引量：8
1993年
本文重点介绍了聚硅烷这类崭新的非线性光学材料,评述了其优点、研究现状、影响其三阶非线性光学特性的因素以及未来的发展方向.
陈德本李高全周宗华
关键词：聚硅烷非线性光学材料
高功能材料—聚硅炔的研究现状被引量：1
1993年
本文综述了一类新型的高功能材料——聚硅炔的合成、结构、反应以及作为半导体、导电性SiC薄膜、光学波导器和光致抗蚀剂的应用的研究现状。
李高全陈德本贺建业
关键词：半导体SIC薄膜
双环戊二烯二氯化铂催化剂硅氢加成选择性的研究被引量：7
1995年
在双环戊二烯二氯化铂催化剂的作用下，在相似的反应条件下，分别通过１－己烯和苯乙烯与甲基二氯硅烷的硅氢加成反应合成了相应的二取代基二氯硅烷单体。根据产物的￣１Ｈ－ＮＭＲ谱，观察到此种催化剂对１－己烯和苯乙烯与甲基二氯硅烷的硅氢加成的选择性存在很大的差异，即１－己烯与甲基二氯硅烷的硅氢加成，只生成β产物；而苯乙烯与甲基二氯硅烷的硅氢加成，则生成４４％的α产物和５６％的β产物。结合文献进行了分析。
李高全陈德本孙难见付鹤鉴
关键词：硅氢加成环戊二烯甲基己基氯硅烷
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