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戴军之

作品数:6 被引量:6H指数:1
供职机构:南京航空航天大学机电学院更多>>
发文基金:江苏省高等学校大学生实践创新训练计划项目更多>>
相关领域:环境科学与工程一般工业技术建筑科学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇建筑科学
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇灯丝
  • 2篇真空室
  • 2篇碳化
  • 2篇金刚石
  • 2篇金刚石膜
  • 2篇锯切
  • 2篇硅片
  • 2篇刚石
  • 2篇CVD金刚石...
  • 2篇抽真空
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学性能
  • 1篇电极
  • 1篇需氧量
  • 1篇阳极
  • 1篇氧量
  • 1篇阴极
  • 1篇正交
  • 1篇正交试验
  • 1篇正交试验研究

机构

  • 6篇南京航空航天...

作者

  • 6篇戴军之
  • 5篇左敦稳
  • 4篇陈兴峰
  • 3篇王珉
  • 2篇钟磊
  • 2篇徐锋
  • 2篇黄铭敏
  • 2篇卢文壮
  • 2篇黎向锋
  • 2篇张敏
  • 2篇林欢庆
  • 2篇宋海薇
  • 1篇周亮
  • 1篇康静
  • 1篇赵礼刚
  • 1篇周亮
  • 1篇康静

传媒

  • 2篇机械制造与自...

年份

  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2007
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
固结金刚石线锯锯切硅片的正交试验研究
2010年
对固结金刚石线锯锯切硅片的工艺参数进行了正交试验研究。分析了工件进给速度、锯丝线速度和锯丝张紧力对硅片表面粗糙度的影响,获得了基于降低硅片表面粗糙度的最佳工艺参数。在本试验范围内,最佳工艺参数为:工件进给速度为0.5 mm/min,锯丝张紧力为0.22 MPa,锯丝线速度为1.5~1.8 m/s。
戴军之左敦稳赵礼刚王珉
关键词:硅片正交试验研究
掺硼金刚石厚膜电极污水处理实验研究被引量:6
2008年
在EACVD(electron-assisted hot filament chemical vapor deposition)金刚石膜沉积系统上制备出了掺硼金刚石厚膜电极,采用循环伏安法研究了掺硼金刚石厚膜电极和IrO2/Ta2O5钛涂层电极电化学性能的差别,结果表明掺硼金刚石厚膜电极具有比IrO2/Ta2O5钛涂层电极更宽的电势窗口(约3.4 V)和更低的背景电流(接近于零)。用所制备的掺硼金刚石厚膜电极和IrO2/Ta2O5钛涂层电极对比处理高浓度难降解污水,通过测定污水处理过程中化学需氧量(chemical oxygen demand,COD)的变化、观察污水处理过程中颜色的变化、处理前后两电极的SEM照片研究了掺硼金刚石厚膜电极在污水处理中的应用,试验表明掺硼金刚石厚膜电极比IrO2/Ta2O5钛涂层电极处理污水效率更高、处理高浓度难降解污染物的能力更强,电极更加稳定、耐腐蚀性更好,是一种很有应用前景的电极。
陈兴峰戴军之黄铭敏左敦稳周亮康静
关键词:掺硼金刚石膜电极电化学性能污水处理化学需氧量
CVD金刚石膜连续制备系统
本发明针对现有的金刚石膜制备装置不能连续制备CVD金刚石膜而造成的效率低、灯丝损耗大、所需的辅助时间多、制备成本高的问题,公开了一种CVD金刚石膜连续制备系统,它主要由包括沉积装置、过渡装置和装卸装置组成,它利用装置实现...
卢文壮左敦稳徐锋钟磊王珉黎向锋林欢庆陈兴峰戴军之宋海薇张敏
文献传递
掺硼金刚石电极电解离子水生成器
一种掺硼金刚石电极电解离子水生成器,属于一种水处理设备,它包括壳体(1)和上盖(2),上盖(2)和壳体(1)相连,其特征是在所述的壳体(1)中安装有若干组由掺硼金刚石阳极(3)和阴极(4)组成的电极组,在掺硼金刚石阳极(...
陈兴峰黄铭敏戴军之左敦稳康静周亮
文献传递
固结金刚石线据锯切硅片的基础研究
戴军之
文献传递网络资源链接
CVD金刚石膜连续制备系统
本发明针对现有的金刚石膜制备装置不能连续制备CVD金刚石膜而造成的效率低、灯丝损耗大、所需的辅助时间多、制备成本高的问题,公开了一种CVD金刚石膜连续制备系统,它主要由包括沉积装置、过渡装置和装卸装置组成,它利用装置实现...
卢文壮左敦稳徐锋钟磊王珉黎向锋林欢庆陈兴峰戴军之宋海薇张敏
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