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张峥

作品数：1 被引量：13H指数：1
供职机构：中航工业北京航空材料研究院更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇抛光
  • 1篇抛光技术
  • 1篇气相沉积
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇金刚石
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇刚石
  • 1篇CVD金刚石
  • 1篇CVD金刚石...
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇粗糙度

机构

  • 1篇中航工业北京...

作者

  • 1篇张峥
  • 1篇霍晓

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2000
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
CVD金刚石薄膜抛光技术的研究进展被引量：13
2000年
采用化学气相沉积 (CVD)方法在非金刚石衬底上沉积的金刚石薄膜 ,本质上为多晶 ,而且表面粗糙。然而 ,在金刚石薄膜的许多重要应用领域 ,如光学和电子学 ,都要求金刚石薄膜具有光滑表面 ,以便器件的制备或后续加工。本文论述了目前国际上出现的抛光CVD金刚石薄膜的主要方法 ,包括机械抛光法、热 化学抛光法、化学 机械抛光法、等离子体 /离子束抛光法以及激光抛光法等 ,深入分析了这些抛光方法的优点和不足 ,指出了今后需要重点解决的问题。最后 。
张峥霍晓
关键词：化学气相沉积金刚石薄膜表面粗糙度抛光
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