孙婧
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：四川大学生命科学学院生物资源与生态环境教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家科技支撑计划教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
- 相关领域：生物学农业科学更多>>
- TMV感染烟草叶片类囊体膜对热胁迫更敏感
- 2010年
- 分别利用吸收光谱、荧光发射光谱、温和电泳和SDS-PAGE的方法分析比较热胁迫(35～65℃)对TMV感染或未感染TMV的烟草叶片类囊体膜结构和功能的影响.结果表明,未感染TMV的叶片类囊体膜可见光区吸收峰强度在25～45℃温度范围内随处理温度升高而增加,而TMV感染的几乎没有变化;未感染TMV的叶片类囊体膜叶绿素a荧光发射峰强度也随处理温度显著变化,35或45℃时荧光峰强度分别降低了19.5%和37%,65℃时减少到23.3%,而TMV感染的也显著降低.温和电泳和SDS-PAGE结果表明,热胁迫均引起感染TMV或未感染TMV的叶片类囊体膜色素蛋白发生明显变化,如游离色素叶绿素增多,光系统Ⅱ和I复合体解聚成单体,类囊体膜上的重要功能蛋白含量减少,产生聚合物,尤其经TMV感染引发的该变化更加明显.说明TMV感染烟草提高了类囊体膜对热胁迫的敏感性.
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- 关键词：烟草花叶病毒类囊体膜热胁迫色素蛋白
- 去垢剂影响PSⅡ核心复合物稳定性的双重效应被引量：1
- 2010年
- 光系统(PS)Ⅱ核心复合物分离时需要使用去垢剂.研究不同光照条件和去垢剂处理对PSⅡ核心复合物荧光发射光谱的影响.结果显示:避光放置时去垢剂存在利于PSⅡ核心复合物荧光光谱峰值相对稳定;光照处理引起PSⅡ核心复合物荧光光谱峰值下降、峰位蓝移,去垢剂十二烷基麦芽糖苷(DM)存在时荧光光谱变化小于无去垢剂时,而中性去垢剂TritonX-100和阴离子型去垢剂SDS存在时变化更为明显.说明光照处理时DM使PSⅡ核心复合物稳定性增加,而TritonX-100和SDS降低了PSⅡ核心复合物的稳定性.避光时去垢剂的增溶作用利于核心复合物的稳定,光照时去垢剂的增溶作用影响色素蛋白,导致叶绿素与蛋白结合状态发生变化,或从蛋白上脱落下来,最终影响到光能的传递.去垢剂的保护或破坏效应与光照强度、去垢剂的种类相关.
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- 关键词：去垢剂稳定性叶绿素荧光
