赵保星
- 作品数:15 被引量:32H指数:4
- 供职机构:中南大学更多>>
- 发文基金:湖南省科技重大专项湖南省自然科学基金湖南省科技计划项目更多>>
- 相关领域:理学动力工程及工程热物理一般工业技术更多>>
- 用于铜互连的Ta-Al-N扩散阻挡层薄膜及其制备工艺
- 本发明公开了一种用于铜互连的Ta-Al-N扩散阻挡层薄膜,其特征在于,其质量百分比为1.5%~7.8%的Al、8.4%~11.5%的N和余量为Ta,用多靶磁控溅射方法制备而成。本发明还公开了一种制备该Ta-Al-N扩散阻...
- 周继承李幼真赵保星陈海波刘正陈勇民
- 文献传递
- 一种晶硅太阳能电池双层减反射膜及其制备方法
- 本发明公开了一种晶硅太阳能电池双层减反射膜及其制备方法,其特征在于,依次由疏松层TiO<Sub>2</Sub>薄膜、致密层TiO<Sub>2</Sub>薄膜和SiO<Sub>2</Sub>钝化层组成;所述的SiO<Sub...
- 周继承赵保星荣林艳黄迪辉
- 文献传递
- 晶硅太阳电池TiO_2陷光薄膜
- 提高光电转换效率、降低成本是太阳能电池技术发展中不变的主题。太阳能电池陷光薄膜及陷光结构可以有效降低电池表面太阳光的反射率,增加进入到电池内部的光子数量,进而提高太阳能电池的光电转换效率。现有的陷光结构不能在广角谱、宽光...
- 赵保星
- 关键词:二氧化钛薄膜直流反应磁控溅射太阳能电池
- 文献传递
- 一种粉末冶金金属硅太阳能电池衬底制备工艺
- 本发明公开了一种粉末冶金金属硅太阳能电池衬底制备工艺,将3N及以下的金属硅原材料经过制粉、成型与烧结,制成特定形状的金属硅锭子,而后切割成300~500微米厚的薄膜太阳能电池衬底。该工艺制备之衬底经特殊扩阻挡层处理后,可...
- 周继承赵保星李幼真陈勇民李莉荣林艳
- 文献传递
- 铝背场对单晶硅太阳电池输出特性的影响被引量:7
- 2009年
- 利用PC1D软件模拟了n+/p-p+结构的单晶硅太阳电池铝背场与硅片厚度对其输出特性的影响。结果表明,有铝背场时太阳电池获得明显的开路电压、短路电流以及光电转换效率的增益;硅片厚度越小,铝背场对其输出特性的影响越大;在有铝背场情况下,硅片厚度为120μm时,可获得最大的光电转换效率。
- 周继承李斐陈勇民赵保星
- 关键词:单晶硅太阳电池
- 一种基于熔铸法的金属硅太阳能电池衬底制备工艺
- 本发明公开了一种基于熔铸法的金属硅太阳能电池衬底制备工艺。将3N及以下的金属硅粉在1600℃温度下通过高温熔铸方法制成硅棒,而后将硅棒切割成薄膜太阳能电池用薄片衬底。该工艺制备之衬底经特殊杂质外扩阻挡层处理后,可用作直接...
- 周继承赵保星李幼真陈勇民李莉荣林艳
- 文献传递
- 二维组合宽带隙材料的研究被引量:10
- 2007年
- 运用FDTD(时域有限差分法)研究了弹性波/声波通过二维正方形排列的铁/水声子晶体的传播特性.发现铁/水声子晶体在高频范围存在完全带隙,软包层铁/水声子晶体在低频范围出现共振带隙,它们分别对应于不同的带隙形成机理.通过铁/水声子晶体和软包层铁/水声子晶体的组合,可以得到从高频到低频的组合宽带隙结构,从而达到在更宽频范围内控制弹性波传播的目的;而且通过调整包层的厚度、铁芯的大小、以及填充率等结构参数,可以有效地调节组合宽带隙的频率结构.
- 李晓春梁宏宇易秀英肖清武赵保星
- 关键词:声子晶体组合结构宽带隙
- 用于铜互连的Ta-Al-N扩散阻挡层薄膜及其制备工艺
- 本发明公开了一种用于铜互连的Ta-Al-N扩散阻挡层薄膜,其特征在于,其质量百分比为1.5%~7.8%的Al、8.4%~11.5%的N和余量为Ta,用多靶磁控溅射方法制备而成。本发明还公开了一种制备该Ta-Al-N扩散阻...
- 周继承李幼真赵保星陈海波刘正陈勇民
- 文献传递
- 氧气流量对TiO_x薄膜结构和光学特性的影响被引量:3
- 2010年
- 用直流反应磁控溅射法在未加热的玻璃基片上制备出晶态TiOx(x<2)薄膜,研究关键工艺因素即氧气流量对薄膜的沉积速率、表面形貌、显微结构和光学特性的影响。研究结果表明:随着氧气流量增加,薄膜的沉积速率从38.54nm/min下降到3.28nm/min,溅射模式也从转变模式过渡到氧化模式,薄膜表面均方根粗糙度逐渐减小,表面更趋平整;当氧气流量≤5mL/min时,得到不透明的晶态TiOx(x<2)薄膜;当氧气流量>5mL/min时,所沉积的TiOx薄膜呈透明非晶态,薄膜平均透射率高于80%。
- 周继承荣林艳赵保星李莉
- 关键词:直流反应磁控溅射
- 单晶硅太阳电池背场欧姆接触的改善研究被引量:5
- 2011年
- 采用磁控溅射在扩散工艺后的单晶硅片背面沉积了铝膜,对样品在600~900℃之间进行了快速热处理,利用四探针电阻测试仪、扫描电镜对热处理前后样品的电阻率、形貌等进行了表征,用半导体参数测试仪测量了样品的I-V曲线,计算了铝膜与硅片的接触电阻,并同步与印刷铝浆料样品进行了对比,研究表明,与丝网印刷工艺相比,溅射铝膜具有均匀细腻、电阻率低、接触电阻小等优点。
- 李幼真周继承黄迪辉赵保星
- 关键词:欧姆接触磁控溅射