王炎武
- 作品数：11 被引量：9H指数：2
- 供职机构：西安交通大学电子与信息工程学院电子物理与器件教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：陕西省“13115”科技创新工程重大科技专项更多>>
- 相关领域：理学电子电信轻工技术与工程自动化与计算机技术更多>>
- 离子束轰击改性对基底表面织构形成规律的影响研究被引量：2
- 2015年
- 利用氩离子束对硅基底表面进行轰击,形成了不同规则的纳米织构,对不同织构的变化规律进行系统的研究,采用原子力显微镜分析表面形貌。结果表明,随着氩离子垂直轰击基底表面的时间从0增加到15 min,表面粗糙度由0.205增大到0.490 nm,且当垂直轰击基底15 min时,表面呈现出纳米点阵织构;当氩离子与基底呈一定夹角轰击时,基底表面呈现波纹纳米织构,且随着轰击角度的增加,表面逐渐变得粗糙。当离子束轰击时间继续增加时,基底表面织构基本维持不变。研究结果为进一步探索离子束表面改性技术对不同基底表面形貌产生的影响、提高沉积薄膜附着力、以及离子束刻蚀等工作提供了理论参考。
- 安书董王晓燕陈仙王炎武赵玉清
- 关键词：表面形貌表面粗糙度
- 电子光学中四极场分布的半解析法计算
- 2008年
- 采用一种新的半解析法,对电子光学中3种不同形状电极产生的四极场进行分析计算。半解析法中极点的确定方法简单有效,可以结合电极的形状填充等效源,并且极点位置确定极为精确。在四极场的计算中,该方法具有表达式简单,求解变量少,而且计算精度和效率高的优点。对凸圆柱电极、内凹圆柱电极以及平板电极产生的四极场进行了求解,并将计算结果进行了比较,应用半解析法在计算凸圆柱电极产生的四极场具有更为明显的优势,精度可达0.001%。由于半解析法可得出标量电位函数的解析级数表达式,因此,场强的计算更加简便,同时也更容易保证场强的计算精度,这也有利于四极场的设计和优化。
- 韩亮赵玉清王炎武杨拉毛草
- 关键词：电子光学半解析法电位
- 一种钛金属加工用丝锥表面制备非晶碳涂层的方法
- 本发明公开了一种钛金属加工用丝锥表面制备非晶碳涂层的方法，包括基体预处理、离子清洗、电弧放电和碳离子沉积；该方法制备的非晶碳薄膜中SP3键结构含量≥80%，摩擦系数约为0.1；与没有镀ta-C膜的样品相比，使用寿命可以提...
- 赵玉清王晓艳陈仙杨鑫朱克志王炎武
- 文献传递
- 几种SOI结构的重粒子与质子辐照模拟研究
- 针对以SiO2及以Al2O3、Si3N4为埋层的SOI结构,利用SRIM软件进行了重粒子和质子辐射的模拟。在分析不同入射角度及能量对各种辐射损伤的影响后,重点模拟了100keV质子和1MeV F离子对三种SOI结构以及等...
- 赵玉清王炎武
- 关键词：SOI质子
- 文献传递
- Ta-C沉积过程中热钉微区温度、应力与结构关系研究
- 采用修正截断半径的第二代Brenner势，利用分子动力学方法，系统研究了非晶四面体碳(ta-C)薄膜沉积过程中热钉微区温度、应力与结构之间的关系。通过跟踪沉积碳离子平衡位置，显示薄膜生长因碳离子能量的高低呈现表面生长和亚...
- 王炎武赵玉清
- 关键词：应力分布
- 文献传递
- 基底表面纳米织构对非晶四面体碳膜结构和摩擦特性的影响研究被引量：2
- 2015年
- 本文利用离子束表面改性技术对基底表面进行不同时间的轰击,形成不同规则的纳米织构,对不同织构的变化规律进行了研究,同时,利用磁过滤真空阴极电弧技术,在具有不同纳米织构的各基底上沉积相同时间的四面体非晶碳薄膜.采用原子力显微镜对各基底的织构进行形貌分析,结果表明,高能粒子束的轰击对基底表面形貌有较大的影响,根据离子束轰击时间的不同,可以在基底表面形成各种不同规则的纳米织构,轰击15 min后发现基底表面形成点阵纳米织构,之后随着时间的增加,基本维持点阵结构.通过X射线光电子能谱仪和摩擦磨损试验仪对沉积在具有不同织构的基底上的ta-C薄膜进行测试,研究表明,基底表面纳米织构的非晶层结构引起薄膜内部sp3键的含量降低,释放了薄膜的内应力,同时发现基底表面纳米织构将ta-C薄膜磨损时间从不足10 min提高到约70 min,有效提高了薄膜的耐磨性.
- 安书董王晓燕陈仙王炎武王晓波赵玉清
- 关键词：四面体非晶碳表面织构X射线光电子能谱
- 高能氮离子轰击对四面体非晶碳膜的表面改性和摩擦系数影响的研究被引量：1
- 2011年
- 利用过滤阴极真空电弧技术制备了sp3键含量不小于80%的四面体非晶碳(ta-C)膜.利用冷阴极潘宁离子源产生不同能量的氮离子对制备的ta-C薄膜进行轰击,通过X射线光电子能谱和原子力显微镜对薄膜表面结构与形貌进行分析研究.研究表明,随着氮离子的轰击能量的增大,薄膜中的CN键结构略有增大,形成了轻N掺杂;同时,在薄膜表层发生了sp3键结构向sp2键结构的转化;薄膜的表面粗糙度在经过氮离子轰击后从0.2nm减小至0.18nm,然后随着轰击能量的增大,表面的粗糙度又增大到0.33nm.氮离子轰击前后的ta-C薄膜的摩擦系数发生显著改变,从轰击前的0.09nm左右增大至0.16nm左右,但是轰击后的薄膜的摩擦系数与氮离子轰击能量没有明显的依赖关系.
- 韩亮陈仙杨立王炎武王晓艳赵玉清
- 关键词：四面体非晶碳X射线光电子能谱
- 非晶氧化钛薄膜形成过程中钛离子能量对表面结构影响的机理被引量：1
- 2014年
- 研究了非晶氧化钛薄膜沉积过程中入射钛离子能量对表面结构形成机理以及薄膜特性的影响.模拟结果表明,通过提高入射钛离子能量,可以有效降低成膜表面粗糙度,从而减小薄膜表面的光学散射损耗.研究发现,当入射离子能量提高后,薄膜生长模式从"岛"状生长过渡到了"层"状生长,且离子入射点附近的平均扩散系数也有显著增加,这有利于形成更加平整的高质量薄膜表面.
- 陈仙王炎武王晓艳安书董王小波赵玉清
- 关键词：薄膜生长分子动力学
- 光电电流互感器测量系统的研究
- 王炎武
- 磁过滤器电流对非晶碳薄膜摩擦学特性影响的研究被引量：3
- 2011年
- 研究了过滤阴极真空电弧技术中,不同的磁过滤器电流下(5—13A),制备的四面体非晶碳(ta-C)薄膜对摩擦学特性的影响.通过对薄膜厚度,薄膜结构以及薄膜表面粗糙度随磁过滤电流的变化结果进行了测试,结果表明,随着磁过滤器电流的增大,薄膜的sp3键含量逐渐减少,表面粗糙度从0.13增大到0.38.磁过滤器电流在5A时,薄膜的摩擦系数最小约为0.08,当电流增大到7A时,摩擦系数显著增大,磁过滤器电流从7A增大到13A时,薄膜的摩擦系数再次减小约为0.1.
- 韩亮杨立杨拉毛草王炎武赵玉清
- 关键词：四面体非晶碳
