王浩敏
- 作品数:12 被引量:31H指数:3
- 供职机构:华中科技大学光学与电子信息学院电子科学与技术系更多>>
- 发文基金:国家重点实验室开放基金教育部重点实验室基金更多>>
- 相关领域:电子电信理学自动化与计算机技术化学工程更多>>
- 基于磁旋转编码器定位控制系统的研究被引量:1
- 2003年
- 文章提出一种磁旋转编码器方法用于热连铸轧钢生产线从卷取机上卸载并输送带钢的小车测控。介绍磁旋转编码器测控系统的原理,包括:磁旋转编码器的工作原理、放大整形电路的设计、倍频电路的设计、单片机接口和测控软件的设计。该系统的特点是能抗恶劣环境、可靠性高、精确度高、结构简单、使用寿命长。
- 李震廖红伟杨晓非王浩敏王鲜然李佐宜
- 关键词:磁旋转编码器位置控制单片机
- 具有非磁性中间层的RE-TM双层垂直磁化膜耦合研究
- 2002年
- 研究了光调制直接重写磁光记录介质中存储层(TbFeCo)和写入层(DyFeCo)中加入TiN非磁性层后的耦合性能。当 TiN层为 3~21A,存储层和写入层层间交换耦合能密度为 0.2~0.3 erg/cm2,如果能精确控制 TiN的厚度,就可以控制层间耦合能,从而改善MO薄膜的读写特性。
- 王浩敏林更琪廖红伟彭烈涛李震王可
- 关键词:交换耦合磁光薄膜
- SmCo(Al,Si)/Cr薄膜磁性能的温度稳定性被引量:2
- 2001年
- 用磁控溅射方法结合高温退火的方法在玻璃基片上制备了一种高矫顽力 SmCo(Al,Si)/Cr结构的磁性薄膜,其矫顽力达到 385.48 kA/m(4844 Oe)。研究其在 15℃到 350℃的范围内的磁性能与温度的关系。发现矫顽力随温度单调减小,而剩磁随温度的增加开始是减少的,在 90℃左右达到极小值。然后随温度的增加,在 190℃附近达到极大值。随后温度继续增加,剩磁逐渐减小。
- 蔡长波王翔廖红伟王浩敏李震林更琪
- 关键词:矫顽力磁控溅射温度稳定性磁性薄膜
- 光波导用玻璃薄膜的制备及其性能研究被引量:11
- 2002年
- 采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。本文重点分析了不同溅射条件如氧分压、基片种类、基片温度下制备的薄膜光学性能,通过比较,得到制备0.6328μm和1.55μm窗口下光波导器件用玻璃薄膜所需溅射条件。
- 王浩敏李佐宜林更琪胡雪涛廖红伟
- 关键词:玻璃薄膜
- 磁编码器多极磁鼓空间磁场分布研究被引量:6
- 2001年
- 本文通过对磁编码器磁鼓空间磁场分布的理论计算和定性分析,找出场点位置、磁极数、磁层厚度和磁鼓形状等因素对磁场空间分布的影响,阐明在一定条件下,磁阻探头存在一最佳空间放置点。
- 廖红伟杨晓非蔡长波王浩敏胡雪涛
- 关键词:磁编码器
- 磁旋转编码器在测速系统中的应用被引量:3
- 2002年
- 给出一种以8051微型单片计算机为总体控制的磁旋转编码器测速系统,详细介绍了测速系统的磁头设计、放大整形电路设计、倍频电路设计、单片机控制及电显电路的设计和软件设计流程。
- 廖红伟杨晓菲李震王浩敏李佐宜
- 关键词:测速系统磁旋转编码器放大整形电路倍频电路单片机软件设计
- 磁控射频溅射法制备光波导薄膜研究被引量:2
- 2001年
- 采用磁控射频溅射法制备了用作光波导器件的玻璃薄膜。通过选取不同的溅射材料,在不同溅射条件下制备的玻璃薄膜的光学参数进行的测量、比较,并对其作为光波导的性能进行研究,通过理论上推导与计算,得出了在1,55um窗口下制备光波导器件的玻璃薄膜所应具备的溅射条件。
- 胡雪涛李佐宜林更琪王浩敏廖红伟
- 关键词:玻璃薄膜磁控溅射
- NiO/Co/Cu/Co/NiFe自旋阀多层膜研究被引量:1
- 2002年
- 采用射频磁控溅射方法制备了一系列自旋阀多层膜。在Cu/NiFe界面处插入适当厚度的Co薄层,可增强界面处的自旋相关散射,增大自旋阀的MR值。用绝缘材料NiO作钉扎层,在大磁场中淀积了NiO/Co/Cu/Co/NiFe底自旋阀,其最大MR值达6%。
- 王浩敏林更琪李震杨晓非李佐宜
- 关键词:自旋阀多层膜巨磁电阻效应矫顽力
- TiN及AlN薄膜的制备和光学性能研究被引量:4
- 2002年
- 研究了反应溅射法制备AlN、TiN薄膜的工艺过程 ,摸索了用于磁光盘介质层的AlN、TiN薄膜的最佳制备工艺 ,并研究了采用此工艺制备的AlN、TiN薄膜的光学性能。
- 王浩敏林更琪李震熊锐李佐宜
- 关键词:反应溅射ALNTIN磁光盘
- 光调制直接重写磁光多层膜测试方法研究
- 2003年
- 为了测试光调制直接重写磁光多层膜的磁光性能 ,试制了磁光多层膜光调制直接重写特性测试系统。磁光信号检测采用改进差动式检测 ,检测方式仅与磁光克尔角大小有关 ,可以用来作样品的克尔角指示。同时 ,该检测方式由于不受激光功率和盘片反射率变化的影响 ,对光电探测器的温漂特性也有良好抑制作用 ,更适合静态实验的需求 ,可以较好地测试光调制直接重写磁光多层膜的磁光性能。
- 王浩敏谭立国杨晓非李震林更琪李佐宜