李科伟
- 作品数：6 被引量：24H指数：3
- 供职机构：鲁东大学物理与电子工程学院更多>>
- 发文基金：山东省教育厅科技计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术更多>>
- ZnO/Ag/ZnO多层膜的制备和性质研究被引量：11
- 2007年
- 采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶和直流磁控溅射Ag靶的方法制备了ZnO/Ag/ZnO多层膜。用X射线衍射仪、紫外–可见分光光度计、四探针测试仪和金相显微镜对ZnO/Ag/ZnO薄膜的结构、光学透过率、方阻和稳定性进行了研究。结果表明,ZnO(60nm)/Ag/(10nm)/ZnO(60nm)薄膜呈现多晶结构,薄膜在520nm处的光学透过率高达87.5%,方阻Rs为6.2Ω/□。随着顶层ZnO薄膜厚度的增加,ZnO/Ag/ZnO薄膜的稳定性提高。
- 李俊闫金良杨春秀李科伟于芬
- 关键词：半导体技术透明导电膜多层膜光学性质电学性质
- ZnO/PAA复合体系的制备和光致发光研究被引量：1
- 2008年
- 通过加热法在多孔氧化铝模板的纳米孔内组装了ZnO颗粒,形成了ZnO和多孔氧化铝模板(PAA)复合体系.用Y-2000型X射线衍射仪表征了复合体系的结构,用TU-1901型紫外-可见分光光度计测量了复合体系的光学透过率,用WFY-28型荧光分光光度计测量了复合体系的光致发光.结果显示,多孔氧化铝模板中的ZnO结晶良好,平均晶粒尺寸10.8nm;多孔氧化铝模板组装ZnO后透过率明显下降,550nm处只有45%左右;ZnO/PAA复合体系在短波长光激发下有一个强的430nm峰位的发光峰,随着激发波长增大,发光峰位红移,并且逐渐分解为两个峰,峰位分别在410nm和460nm.
- 李科伟闫金良孙学卿李俊杨春秀
- 关键词：氧化锌多孔阳极氧化铝光致发光
- Ag层的厚度对ZnO/Ag/ZnO多层膜性能的影响被引量：9
- 2007年
- 采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag夹层的ZnO(60nm)/Ag/ZnO(60nm)多层膜.分别用X射线衍射仪、紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的结构、光学性质、电学性质进行了研究.结果表明:随着Ag层厚度的增加,ZnO/Ag/ZnO多层膜呈现多晶结构,Ag(111)衍射峰的强度增强.Ag夹层厚度为11nm时,ZnO(60nm)/Ag/ZnO(60nm)膜在554nm处的透过率高达92.3%.随着Ag层厚度的增加,Ag膜的特征吸收峰呈现红移和宽化,ZnO/Ag/ZnO多层膜的面电阻先减小后趋于稳定.
- 李俊闫金良孙学卿李科伟杨春秀
- 关键词：磁控溅射多层膜光电性质
- 多孔氧化铝膜及其复合体系的制备与表征
- 本文的主要内容是通过二次阳极氧化法制备多孔阳极氧化铝膜，在此基础上对纳米氧化锌与多孔氧化铝膜进行了组装，最后，我们以多孔氧化铝膜为模板制备了氧化锌纳米点阵列膜。
本文首先对纳米材料的发展进行了综述，包括纳米材料...
- 李科伟
- 关键词：多孔氧化铝膜氧化锌光致发光纳米点阵列电子材料光电子器件
- 文献传递
- 热处理温度对ZnO∶Al薄膜性能的影响被引量：6
- 2008年
- 利用溶胶-凝胶技术在玻璃衬底上制备了ZnO∶Al薄膜,表征了薄膜的结构、光透过和光致发光特性,探讨了热处理温度对薄膜晶体结构和光学性质的影响.结果表明,在热分解温度400℃和退火温度600℃时,ZnO∶Al薄膜的C轴择优取向明显,透过率较高.在热处理温度400℃情况下,激发波长340nm的光致发光谱中有三个发光中心,紫外发光强度随退火温度的升高先升高后下降,500℃时发光强度最强.其它两个发光峰的强度随退火温度的升高而降低甚至消失.激发波长不同,ZnO∶Al薄膜的发光中心和强度均发生变化.
- 杨春秀闫金良孙学卿李科伟李俊
- 关键词：溶胶-凝胶法ZNO:AL薄膜晶体结构光致发光
- Ag层的厚度对ZnO/Ag/ZnO多层膜性能的影响
- 采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag夹层的ZnO(60nm)/Ag/ZnO(60nm)多层膜。分别用X射线衍射仪、紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的结构、光学性质、电学性质进行了...
- 李俊闫金良孙学卿李科伟杨春秀
- 关键词：射频磁控溅射光电性质
- 文献传递
