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吴晓伟

作品数:11 被引量:48H指数:3
供职机构:中国科学技术大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国科学院知识创新工程国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学自动化与计算机技术机械工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 3篇学位论文
  • 3篇专利
  • 2篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇交通运输工程

主题

  • 4篇微腔
  • 4篇刻蚀
  • 4篇光学
  • 4篇光学微腔
  • 3篇量子
  • 3篇回音壁模
  • 3篇回音壁模式
  • 2篇电动力学
  • 2篇针阀
  • 2篇膨胀室
  • 2篇气压计
  • 2篇腔量子电动力...
  • 2篇量子电动力学
  • 2篇反应气体
  • 2篇钢瓶
  • 2篇XEF
  • 2篇XEF2
  • 2篇MAPRED...
  • 1篇多核
  • 1篇多核集群

机构

  • 11篇中国科学技术...
  • 1篇北京大学

作者

  • 11篇吴晓伟
  • 4篇韩正甫
  • 4篇尉伟
  • 4篇付绍军
  • 3篇郭光灿
  • 3篇孙方稳
  • 3篇崔金明
  • 1篇肖云峰
  • 1篇杨勇
  • 1篇郑启龙
  • 1篇董春华
  • 1篇贾佳
  • 1篇房明
  • 1篇王建平
  • 1篇邹长铃
  • 1篇陆守香
  • 1篇王昊
  • 1篇王勇
  • 1篇范乐
  • 1篇裴元吉

传媒

  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇真空
  • 1篇中国科学:物...
  • 1篇2009年江...

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2015
  • 2篇2012
  • 1篇2010
  • 3篇2009
  • 2篇2008
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
基于芯片的微芯圆环光学微腔
基于硅基芯片的微芯圆环光学微腔,通过全反射形成的回音壁模式,将光囚禁在微米尺度的介质腔内;具有高品质因数,低模式体积的特点。通过实验测得微芯圆环腔具有达到107的品质因数,同时能够保持较小的模式体积(293.1μm3),...
吴晓伟邹长铃肖云峰尉伟韩正甫郭光灿
关键词:回音壁模式腔量子电动力学
文献传递
一种用于消防训练的环保型无氟泡沫灭火剂及其制备方法
本发明提供了一种用于消防训练的环保型无氟泡沫灭火剂,其特征在于,以重量百分含量计,包括碳氢表面活性剂5%~25%,稳泡剂0%~3%,有机溶剂5%~15%,抑菌剂0.1%~0.5%,螯合剂0.2%~1%,缓蚀剂0.2%~1...
余潇阳贾佳吴晓伟陆守香
MapReduce并行编程模式的应用与研究
当前,科学与工程计算中大规模数据处理的需求与日俱增。与此同时,高性能并行机的发展和硬件价格的下降使得高性能机器得到了广泛推广,与之相伴的是各种并行编程模式和并行编程语言的纷纷出现,并行计算的发展为各学科带来福音的同时也带...
吴晓伟
关键词:并行编程编程模式数据处理编程语言
文献传递
光学微腔量子电动力学实验研究
量子信息学是近年来受到广泛关注的新兴学科,它汇集了基础物理学中量子力学的研究和信息技术的演进发展,不仅开拓了经典信息技术领域,也对量子力学的探索产生了重要的推动作用。量子计算作为量子信息中的研究方向之一,能够通过量子力学...
吴晓伟
关键词:腔量子电动力学回音壁模式量子计算
文献传递
机械通风条件下舰船机舱火灾烟气特性及控制效果研究
吴晓伟
自动化气体脉冲刻蚀方法、装置及系统
本发明公开了一种自动化气体脉冲刻蚀方法、装置及系统,其装置的连接为:装有反应气体和氮气的第一钢瓶和第二钢瓶分别经过电磁阀,连接到膨胀室,膨胀室的另一端与刻蚀室连接,刻蚀室连接挡油阱,挡油阱的另一端连接真空泵,第二钢瓶的另...
崔金明吴晓伟尉伟孙方稳付绍军韩正甫郭光灿
文献传递
回音壁模式光学微腔:基础与应用被引量:40
2012年
具有回音壁模式的光学微腔在激光,生物探测以及量子物理中已经得到了广泛应用.本文简要介绍了其基本的性质和原理,以及回音壁模式与外界的耦合,并结合国际最新进展以及中国科学技术大学的研究工作,具体介绍了回音壁模式微腔在现代科学研究中的多种应用.
邹长铃董春华崔金明孙方稳杨勇吴晓伟韩正甫郭光灿
关键词:集成光学量子光学
HPMR:多核集群上的高性能计算支撑平台
HPMR是建立在多核集群上的高性能计算支撑平台,它继承并改进了MapRedcue并行编程模式,使其适合高性能计算需求.HPMR让并行程序的编写和运行变得非常简单,同时又保持很高的性能.HPMR的实用功能不但使并行程序变得...
郑启龙王昊吴晓伟房明
关键词:多核MAPREDUCE
文献传递
XeF_2对SiO_2/Si的干法刻蚀被引量:3
2009年
XeF2是一种可以在常温下与硅发生反应的气体,可用作对硅进行干法刻蚀的工作气体,其对硅刻蚀特性呈现各向同性.研制了一个使用脉冲法对二氧化硅/硅体系进行XeF2刻蚀的系统,刻蚀系统简单且操作容易.利用该系统成功地刻蚀出"蘑菇状"的SiO2/Si结构,得到的刻蚀选择比大于1000.
尉伟吴晓伟吕凡肖云峰付绍军裴元吉韩正甫
关键词:XEF2硅刻蚀光学微腔
自动化气体脉冲刻蚀方法、装置及系统
本发明公开了一种自动化气体脉冲刻蚀方法、装置及系统,其装置的连接为:装有反应气体和氮气的第一钢瓶和第二钢瓶分别经过电磁阀,连接到膨胀室,膨胀室的另一端与刻蚀室连接,刻蚀室连接挡油阱,挡油阱的另一端连接真空泵,第二钢瓶的另...
崔金明吴晓伟尉伟孙方稳付绍军韩正甫郭光灿
文献传递
共2页<12>
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