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黄思霓
作品数:
10
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供职机构:
电子科技大学
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相关领域:
电子电信
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合作作者
于奇
电子科技大学
杜江锋
电子科技大学
罗杰
电子科技大学
严慧
电子科技大学
尹成功
电子科技大学
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电子电信
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版图
2篇
MOS晶体管
机构
10篇
电子科技大学
作者
10篇
黄思霓
9篇
于奇
7篇
尹成功
7篇
严慧
7篇
罗杰
7篇
杜江锋
5篇
罗谦
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赵子奇
4篇
刘斌
2篇
甘程
2篇
王向展
2篇
王凯
2篇
陈南庭
2篇
曾庆平
年份
2篇
2017
1篇
2016
1篇
2015
1篇
2014
5篇
2013
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一种带有p型氮化镓埋层的垂直氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明提供了一种带有p型氮化镓埋层的垂直氮化镓基异质结场效应晶体管,从下至上依次主要由漏极,n<Sup>+</Sup>-GaN衬底,n-GaN缓冲层,p-GaN电流阻挡层,GaN沟道层,AlGaN势垒层,以及AlGaN势...
杜江锋
赵子奇
罗杰
尹成功
黄思霓
严慧
罗谦
于奇
文献传递
一种具有复合金属栅的氮化镓基高电子迁移率晶体管
本发明涉及一种具有复合金属栅的氮化镓基高电子迁移率晶体管,包括衬底、氮化镓缓冲层、氮化铝插入层、铝铟镓氮势垒层、以及铝铟镓氮势垒层上的源极、漏极和栅极;其中源极和漏极与铝铟镓氮势垒层形成欧姆接触,栅极与铝铟镓氮势垒层形成...
杜江锋
严慧
刘斌
尹成功
黄思霓
罗杰
白智元
陈南庭
于奇
一种带有极化掺杂电流阻挡层的垂直氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明提供了一种带有极化掺杂电流阻挡层的垂直氮化镓基异质结场效应晶体管,从下至上依次主要由漏极,n<Sup>+</Sup>-GaN衬底,n-GaN缓冲层,GaN沟道层,AlGaN势垒层,以及AlGaN势垒层上的源极和栅极...
杜江锋
赵子奇
罗杰
尹成功
严慧
黄思霓
罗谦
于奇
文献传递
一种T型栅结构的MOS晶体管
一种具有“T”字型栅结构MOS晶体管(T_gate MOS),属于半导体器件领域。它的特征是在普通MOSFET的沟道区域形成凹槽,使栅极形状为“T”型结构。该结构较普通MOS器件提高了版图利用率、增大了有效沟道宽度,同时...
王向展
甘程
曾庆平
刘斌
王凯
黄思霓
于奇
文献传递
一种具有复合金属栅的氮化镓基高电子迁移率晶体管
本发明涉及一种具有复合金属栅的氮化镓基高电子迁移率晶体管,包括衬底、氮化镓缓冲层、氮化铝插入层、铝铟镓氮势垒层、以及铝铟镓氮势垒层上的源极、漏极和栅极;其中源极和漏极与铝铟镓氮势垒层形成欧姆接触,栅极与铝铟镓氮势垒层形成...
杜江锋
严慧
刘斌
尹成功
黄思霓
罗杰
白智元
陈南庭
于奇
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一种带有极化掺杂电流阻挡层的垂直氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明提供了一种带有极化掺杂电流阻挡层的垂直氮化镓基异质结场效应晶体管,从下至上依次主要由漏极,n<Sup>+</Sup>-GaN衬底,n-GaN缓冲层,GaN沟道层,AlGaN势垒层,以及AlGaN势垒层上的源极和栅极...
杜江锋
赵子奇
罗杰
尹成功
严慧
黄思霓
罗谦
于奇
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一种T型栅结构的MOS晶体管
一种具有“T”字型栅结构MOS晶体管(T_gate MOS),属于半导体器件领域。它的特征是在普通MOSFET的沟道区域形成凹槽,使栅极形状为“T”型结构。该结构较普通MOS器件提高了版图利用率、增大了有效沟道宽度,同时...
王向展
甘程
曾庆平
刘斌
王凯
黄思霓
于奇
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GaN基HEMT热效应与耐压新结构研究
由于GaN优异的材料特性使GaN基HEMT走向实用化阶段。然而要将此技术推向更高耐压的的应用领域,以及更为恶劣的高温工作环境,器件的热可靠性及如何缓和击穿电压与导通电阻的矛盾关系成为亟待解决的关键问题。 针对以上问题,...
黄思霓
关键词:
GAN基HEMT
热效应
击穿电压
导通电阻
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一种超结垂直氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明提供了一种超结垂直氮化镓基异质结场效应晶体管,从下至上依次主要由漏极,n<Sup>+</Sup>‑GaN衬底,GaN沟道层,AlGaN势垒层,以及AlGaN势垒层上的源极和栅极组成,源极与漏极均为欧姆接触,栅极为肖...
杜江锋
赵子奇
尹成功
罗杰
黄思霓
严慧
罗谦
于奇
文献传递
一种超结垂直氮化镓基异质结场效应晶体管
本发明提供了一种超结垂直氮化镓基异质结场效应晶体管,从下至上依次主要由漏极,n<Sup>+</Sup>-GaN衬底,GaN沟道层,AlGaN势垒层,以及AlGaN势垒层上的源极和栅极组成,源极与漏极均为欧姆接触,栅极为肖...
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