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领域

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  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光学

机构

  • 4篇浙江大学

作者

  • 4篇陈福刚
  • 3篇徐伟中
  • 3篇黄靖云
  • 3篇叶志镇
  • 3篇赵炳辉
  • 3篇朱丽萍
  • 1篇周新翠
  • 1篇吕建国
  • 1篇缪燕

传媒

  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2008
  • 3篇2006
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
MOCVD法制备磷掺杂p型ZnO薄膜被引量:8
2006年
利用金属有机化学气相沉积方法在玻璃衬底上生长了掺磷的p型ZnO薄膜.实验采用二乙基锌作为锌源,高纯氧气和五氧化二磷粉末分别作为氧源及磷掺杂源.实验表明生长温度为400~450℃时获得了p型ZnO薄膜,而且在420℃时,其电学性能最好,空穴浓度为1.61×1018cm-3,电阻率为4.64Ω.cm,迁移率为0.838cm2/(V.s).霍尔测试和低温光致发光谱证实了该ZnO薄膜的p型导电特性,并观察到薄膜位于3.354eV与中性受主束缚激子相关的发射峰.
周新翠叶志镇陈福刚徐伟中缪燕黄靖云吕建国朱丽萍赵炳辉
关键词:金属有机化学气相沉积磷掺杂
MOCVD法制备磷掺杂p型ZnO薄膜
ZnO是一种新型的Ⅱ—Ⅵ族宽禁带半导体材料,具有许多优异的性能。但由于晶体中存在诸多本征施主缺陷/(如氧空位V/_o和间隙锌Zn/_i/),对受主产生高度自补偿作用,天然ZnO为n型半导体,难以实现p型转变。而ZnO薄膜...
陈福刚
关键词:MOCVD法磷掺杂氧化锌薄膜光学性质晶体生长
文献传递
掺磷制备p型氧化锌晶体薄膜的方法及其装置
本发明公开了掺磷制备p型氧化锌晶体薄膜的方法及其装置,其步骤如下:先将衬底表面清洗后放入金属有机化学汽相沉积生长室中,生长室真空度抽到至少10<Sup>-2</Sup>Pa,然后加热衬底,用热蒸发器将固态磷源蒸发成气态,...
叶志镇陈福刚徐伟中赵炳辉朱丽萍黄靖云
文献传递
掺磷制备p型氧化锌晶体薄膜的装置
本发明公开了掺磷制备p型氧化锌晶体薄膜的方法及其装置,其步骤如下:先将衬底表面清洗后放入金属有机化学汽相沉积生长室中,生长室真空度抽到至少10<Sup>-2</Sup>Pa,然后加热衬底,用热蒸发器将固态磷源蒸发成气态,...
叶志镇陈福刚徐伟中赵炳辉朱丽萍黄靖云
文献传递
共1页<1>
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