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陆涛
作品数:
9
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H指数:0
供职机构:
天津理工大学
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相关领域:
自动化与计算机技术
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合作作者
张楷亮
天津理工大学
孙阔
天津理工大学
王芳
天津理工大学
王宝林
天津理工大学
赵金石
天津理工大学
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自动化与计算...
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机构
9篇
天津理工大学
作者
9篇
陆涛
8篇
王芳
8篇
孙阔
8篇
张楷亮
6篇
孙文翔
6篇
赵金石
6篇
王宝林
2篇
胡曦文
2篇
武长强
2篇
王雨晨
2篇
刘凯
2篇
韦晓莹
2篇
冯玉林
年份
1篇
2016
2篇
2015
3篇
2014
3篇
2013
共
9
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基于氧化钒/氧化锌叠层结构的阻变存储器及其制备方法
一种基于氧化钒/氧化锌叠层结构的阻变存储器,由下电极、阻变层和上电极构成,阻变层为由氧化钒介质层和氧化锌介质层组成的叠层结构,氧化钒介质层和氧化锌介质层薄膜采用直流溅射或射频溅射法制备。本发明的优点是:该阻变存储器采用氧...
张楷亮
孙阔
王芳
陆涛
刘凯
武长强
赵金石
文献传递
WOx-RRAM的制备及阻变机理探索
近年来,由于存储市场的巨大需求,非挥发性存储技术发展迅速,基于浮栅结构的传统Flash存储器在集成电路工艺中特征尺寸已经接近甚至达到其物理极限,发展遇到瓶颈。在各种新型非挥发性存储器中,阻变存储器(RRAM)以其简单的存...
陆涛
基于氧化钒/氧化锌叠层结构的阻变存储器及其制备方法
一种基于氧化钒/氧化锌叠层结构的阻变存储器,由下电极、阻变层和上电极构成,阻变层为由氧化钒介质层和氧化锌介质层组成的叠层结构,氧化钒介质层和氧化锌介质层薄膜采用直流溅射或射频溅射法制备。本发明的优点是:该阻变存储器采用氧...
张楷亮
孙阔
王芳
陆涛
刘凯
武长强
赵金石
一种双向限流器件及其制备方法
一种双向限流器件,由下电极、介质层和上电极组成并构成叠层结构,其中介质层为氧化钒薄膜和氧化铜薄膜叠层结构;其制备方法是,首先以硅片为衬底制备二氧化硅绝缘层,再利用离子束溅射的方法制备Ti粘附层;在Ti粘附层上采用磁控溅射...
张楷亮
孙阔
王芳
王宝林
孙文翔
陆涛
鉴肖川
文献传递
一种基于氮氧化铪低功耗阻变存储器及其制备方法
一种基于氮氧化铪低功耗阻变存储器及其制备方法,由氧化硅片衬底、Ti粘附层、下电极、阻变层和上电极依次叠加构成,其中阻变层为氮氧化铪薄膜和金属铪薄膜的叠层结构;其制备方法是分别通过磁控溅射、离子束溅射或电子束蒸发方法依次制...
张楷亮
孙阔
王芳
陆涛
孙文翔
韦晓莹
王宝林
冯玉林
赵金石
文献传递
基于氧化钒/氧化铝叠层结构的阻变存储器及其制备方法
一种基于氧化钒/氧化铝叠层结构的阻变存储器由下电极、阻变层和上电极组成并构成叠层结构,其中阻变层为氧化钒薄膜和氧化铝薄膜叠层结构,各层的厚度分别为:下电极50-200nm、氧化钒薄膜5-100nm、氧化铝薄膜1-50nm...
张楷亮
孙阔
王芳
陆涛
孙文翔
王宝林
赵金石
胡曦文
王雨晨
文献传递
一种双向限流器件及其制备方法
一种双向限流器件,由下电极、介质层和上电极组成并构成叠层结构,其中介质层为氧化钒薄膜和氧化铜薄膜叠层结构;其制备方法是,首先以硅片为衬底制备二氧化硅绝缘层,再利用离子束溅射的方法制备Ti粘附层;在Ti粘附层上采用磁控溅射...
张楷亮
孙阔
王芳
王宝林
孙文翔
陆涛
鉴肖川
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基于氧化钒/氧化铝叠层结构的阻变存储器及其制备方法
一种基于氧化钒/氧化铝叠层结构的阻变存储器由下电极、阻变层和上电极组成并构成叠层结构,其中阻变层为氧化钒薄膜和氧化铝薄膜叠层结构,各层的厚度分别为:下电极50-200nm、氧化钒薄膜5-100nm、氧化铝薄膜1-50nm...
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孙阔
王芳
陆涛
孙文翔
王宝林
赵金石
胡曦文
王雨晨
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一种基于氮氧化铪低功耗阻变存储器及其制备方法
一种基于氮氧化铪低功耗阻变存储器及其制备方法,由氧化硅片衬底、Ti粘附层、下电极、阻变层和上电极依次叠加构成,其中阻变层为氮氧化铪薄膜和金属铪薄膜的叠层结构;其制备方法是分别通过磁控溅射、离子束溅射或电子束蒸发方法依次制...
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