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谢磊

作品数：34 被引量：13H指数：2
供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划河南省科技攻关计划更多>>
相关领域：金属学及工艺电子电信天文地球交通运输工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 28篇专利
  • 5篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇天文地球
  • 2篇化学工程
  • 2篇电子电信
  • 2篇交通运输工程
  • 1篇经济管理

主题

  • 23篇光学
  • 19篇抛光
  • 17篇面形
  • 15篇光学元件
  • 7篇口径
  • 5篇元件
  • 5篇抛光液
  • 5篇全口径
  • 5篇光学加工
  • 4篇抛光工艺
  • 4篇抛光装置
  • 4篇摆式
  • 4篇大口径
  • 3篇压杆
  • 3篇在线实时监测
  • 3篇实时监测
  • 3篇套圈
  • 3篇技术工艺
  • 3篇监测装置
  • 3篇工件

机构

  • 34篇成都精密光学...
  • 2篇黄河水利职业...
  • 1篇华北水利水电...
  • 1篇郑州辰维科技...

作者

  • 34篇谢磊
  • 31篇马平
  • 24篇鄢定尧
  • 20篇赵恒
  • 19篇何祥
  • 18篇胡庆
  • 18篇黄金勇
  • 17篇王刚
  • 12篇高胥华
  • 9篇游云峰
  • 6篇鲍振军
  • 5篇黄颖
  • 4篇朱衡
  • 3篇刘义彬
  • 3篇吕亮
  • 3篇张云帆
  • 2篇赵方
  • 2篇何曼泽
  • 2篇周佩璠
  • 2篇黄军勇

传媒

  • 3篇强激光与粒子...
  • 1篇黄河水利职业...
  • 1篇测绘科学与工...
  • 1篇2011年第...

年份

  • 2篇2024
  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 4篇2020
  • 6篇2019
  • 6篇2018
  • 3篇2017
  • 2篇2016
  • 3篇2015
  • 1篇2014
  • 3篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
共 34 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
抛光模面形修改装置
本实用新型公开了一种抛光模面形修改装置，属于光学元件加工技术领域。它包括支撑柱、支持架、导轨和驱动电机，导轨两端由支撑柱和支持架支撑并与其连接；还包括平移装置、施压装置和修改盘；平移装置由滑槽固定在导轨上，平移装置由驱动...
马平游云峰谢磊
主动平移式双面抛光机
本发明公开了一种主动平移式双面抛光机，属于光学元件加工领域。它包括下盘、工件环、上盘、机座、主动轮和主臂，机座一侧设有可前后移动的平移装置；平移装置上装有蟹钳和挡杆。本发明与传统的双面抛光机相比，集平移抛、环形抛于一体，...
马平鄢定尧何曼泽黄颖鲍振军周佩璠赵方赵恒谢磊黄军勇
一种光学元件抛光工具及抛光方法
本发明公开一种光学元件抛光工具，包括连接杆、磨盘、压圈和抛光膜层，连接杆的上端与抛光机构连接，连接杆的下端与磨盘的顶部连接，连接杆的中心轴线与磨盘中心线重合，磨盘的底部中心设置向下凸起的凸台，抛光膜层包覆在凸台上，压圈中...
黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒高胥华何祥马平鄢定尧
抛光模面形修改装置
本发明公开了一种抛光模面形修改装置，属于光学元件加工技术领域。它包括支撑柱、支持架、导轨和驱动电机，导轨两端由支撑柱和支持架支撑并与其连接；还包括平移装置、施压装置和修改盘；平移装置由滑槽固定在导轨上，平移装置由驱动电机...
马平游云峰谢磊
工业摄影测量技术对抛光盘平面度的检测
2019年
针对光学器件加工中环形抛光机抛光盘形面趋势难以快速量化表征的难题,提出采用非接触、超便携的工业摄影测量技术对抛光盘平面度进行检测的方法。通过使用工业摄影测量系统对粘贴有测量靶标的抛光盘进行定期的旋转测量,可以有效地对抛光盘表面进行检测,经三次精抛试验就可以将抛光盘平面拟合误差从0.10mm降至0.04mm,并快速获取抛光盘平面度各类偏差数据。在抛光盘侧壁上布设基准点作为各次测量结果间的转换基准,还可以有效地判断抛光盘形面各区域的变化状况,这对于指导环抛机加工光学元器件具有重要意义。
黄桂平朱文芳王伟峰谢磊
关键词：平面度测量
一种用于调节环形抛光机沥青盘表面面形的装置
本发明公开了一种用于调节环形抛光机沥青盘表面面形的装置，包括铸铁盘，其固定设置于环形抛光机的大理石盘上方，所述铸铁盘的顶部浇注有沥青抛光膜层，待加工光学元件和校正盘均设置于所述沥青抛光膜层上；热电阻温度传感器，其设置于所...
黄金勇谢磊高胥华胡庆王刚赵恒蔡超何祥马平鄢定尧张云帆
一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统
本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中，方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数，以确定第一加工路径；根据第一加工路径对其进行抛光加工，直至其波前PV值不大于预设PV阈...
黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒马平鄢定尧高胥华
一种数控抛光工具
本实用新型公开一种数控抛光工具，包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层，所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接，所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上，所述清扫层设置于所述非金属套圈底部，所述抛光模层设...
黄金勇马平鄢定尧胡庆何祥吕亮谢磊高胥华
抛光模面形监测装置
本发明公开了一种抛光模面形监测装置，属于光学元件加工技术领域。它包括位移探测器、垂向定位器、L形连接板和径向位移导轨，L形连接板经连接件与径向位移导轨连接，垂向定位器由紧固螺钉固定在L形连接板之上，位移探测器与L形连接板...
马平游云峰谢磊
一种数控抛光工具
本发明公开一种数控抛光工具，包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层，所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接，所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上，所述清扫层设置于所述非金属套圈底部，所述抛光模层设置于...
黄金勇马平鄢定尧胡庆何祥吕亮谢磊高胥华
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