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李运钧

作品数：25 被引量：39H指数：4
供职机构：郑州大学物理工程学院更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金河南省自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信理学一般工业技术化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 17篇期刊文章
  • 7篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 10篇电子电信
  • 8篇理学
  • 3篇一般工业技术
  • 2篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 11篇金刚石薄膜
  • 10篇电子发射
  • 10篇非晶
  • 10篇非晶碳
  • 9篇场致电子发射
  • 7篇碳膜
  • 6篇金刚石
  • 6篇非晶碳膜
  • 6篇刚石
  • 5篇脉冲激光
  • 5篇脉冲激光沉积
  • 4篇类金刚石
  • 3篇类金刚石薄膜
  • 3篇PLD
  • 3篇场致发射
  • 2篇亚胺
  • 2篇平板显示
  • 2篇酰亚胺
  • 2篇纳米金刚石薄...
  • 2篇聚酰亚胺

机构

  • 24篇郑州大学
  • 5篇中国科学院
  • 2篇郑州航空工业...
  • 1篇北京大学
  • 1篇清华大学
  • 1篇郑州工业大学

作者

  • 25篇李运钧
  • 18篇张兵临
  • 17篇姚宁
  • 9篇何金田
  • 7篇王小平
  • 6篇马会中
  • 5篇毕兆琪
  • 5篇龚知本
  • 2篇王世明
  • 2篇张兰
  • 2篇王建恩
  • 1篇杜宝石
  • 1篇刘文清
  • 1篇张友渝
  • 1篇赵刚
  • 1篇庄志明
  • 1篇侯志坚
  • 1篇毕兆膜
  • 1篇高之爽
  • 1篇刘福绥

传媒

  • 3篇光电子．激光
  • 3篇第七届中国真...
  • 2篇郑州大学学报...
  • 2篇第四届全国固...
  • 1篇半导体技术
  • 1篇科学通报
  • 1篇电子与信息学...
  • 1篇物理学报
  • 1篇金刚石与磨料...
  • 1篇中国激光
  • 1篇功能材料
  • 1篇材料导报
  • 1篇发光学报
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇光电子技术
  • 1篇电光系统
  • 1篇1996全国...

年份

  • 1篇2001
  • 1篇2000
  • 5篇1999
  • 1篇1998
  • 5篇1997
  • 5篇1996
  • 2篇1995
  • 2篇1994
  • 2篇1992
  • 1篇1990
共 25 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
金属－有机聚合物复合薄膜研究进展被引量：9
1995年
金属－有机聚合物复合薄膜是一类新型的薄膜材料。由于它有着特殊的光电物理特性，无论是从基础研究的观点来看，还是就其潜在的应用价值而言，均引起了人们极大的兴趣。本文就其制备方法和它的光电物理特性进行了简要综述，并展望了其发展前景。
张兵临张兰马会中毕兆琪李运钧
关键词：介电反常金属
金刚石薄膜场致发射平板显示的研究
本文介绍了我们在金刚石薄膜场致发射平板显示方面的研究工作。实验结果显示了第三类薄膜金刚石镶嵌非晶碳膜的发射效果最好。目前存在的问题,一是要从工艺的各个环节提高大面积薄膜的均匀性,稳定工艺。另一个要对影响场致发射的薄膜表面...
姚宁李运钧何金田张兵临王世明王建恩
文献传递
硬质合金表面Mo离子注入对CVD金刚石涂层形成的影响被引量：3
2000年
采用离子注入工艺对YG6硬质合金表面进行处理,探讨了离子注入处理对硬质合金CVD金刚石涂层形成的影响。研究结果表明,Mo离子注入使硬质合金表面细化,金刚石涂层的粒度减小,改善了金刚石薄膜与合金衬底间的附着力。
陈靖王小平李运钧姚宁马会中张兵临
关键词：硬质合金CVD金刚石薄膜表面处理
SnO_2薄膜的脉冲激光沉积被引量：7
1995年
采用脉冲激光沉积技术制备了ＳｎＯ２薄膜。Ｘ射线衍射结构分析表明薄膜为非晶态。在６００℃温度下退火后，由非晶薄膜转变为多晶薄膜。研究了多晶ＳｎＯ２薄膜的光电特性。在４００ｎｍ至７００ｎｍ的可见光范围内，其透过率保持在７０％到９０％。电阻率为１．９×１０－１Ωｃｍ。
张兵临覃东杰徐彬李运钧张兰
关键词：SNO2脉冲激光沉积
纳米金刚石薄膜的场发射研究
报道了纳米金刚石薄膜场电子发射的实验结果。纳米金刚石薄膜是由微波等离子体化学气相沉积在钼衬底上制备而成的。借助于X射线衍射（XRD），观察到金刚石（111）面的宽峰结构。根据（111）面衍射峰的线宽计算出金刚石的平均颗粒...
张兵临姚宁李运钧毕兆琪王小平
关键词：纳米金刚石薄膜场发射
金刚石镶嵌非晶碳膜和类金刚石薄膜的场致电子发射研究被引量：1
1997年
报道了在钼衬底上利用微波等离子体化学气相淀积技术制备金刚石镶嵌非晶碳膜，在硅衬底上用脉冲激光淀积技术（pulsedLaserDeposition）制备类金刚石薄膜，并对其场发射特性和机理进行了进一步的研究。用金刚石镶嵌非晶碳膜作阴极，在2．1V／μm的场强下便有电子发射，最大发射电流密度为4mA／cm2。实验表明，金刚石镶嵌非晶碳膜是制做场效发射冷阴极的合适材料。
姚宁李运钧何金田王世明张兵临任风轩
关键词：金刚石类金刚石薄膜场致电子发射
脉冲激光沉积非晶碳-聚酰亚胺复合薄膜的场致电子发射研究被引量：1
1997年
利用脉冲激光沉积技术制备出非晶碳-聚酰亚胺复合薄膜,并观察到其场发射阈值场强(4V/μm)比类金刚石薄膜(>12V/μm)有较大的降低,最大发射电流密度为1.2mA/cm^2.利用透明导电薄膜阳极技术可观察电子在薄膜阴极表面的发射位置.并对该复合薄膜的场电子发射机理进行了初步探讨.实验表明该复合薄膜有可能作为一种新型的场发射冷阴极材料.在平面显示器件中得到应用.
李运钧何金田姚宁张兵临龚知本
关键词：脉冲激光沉积场致电子发射激光技术
金刚石薄膜场致发射平板显示的研究
1997年
从场致发射实验中发现一种较适合于场电子发射的金刚石薄膜表面微结构。胜表面为这种微结构的金刚石薄膜作阴极制做的简单平板显示器件具有起始发射场强低，发光强度大的特点，且重复性较好。
姚宁李运钧
关键词：金刚石场致发射平板显示
金刚石镶嵌非晶碳膜的场致电子发射研究
1996年
用微波ＣＶＤ方法在钼衬底上沉积出金刚石镶嵌非晶碳薄膜，对其场致电子发射特性和机理进行了研究，使该薄膜的场致发射电子激发荧光屏，并观察到发光。
何金田李运钧姚宁王建恩张兵临张友渝
关键词：金刚石CVD
PLD非晶碳－聚酰亚胺复合薄膜的场致电子发射
1996年
利用脉冲激光沉积技术在高电导率衬底上，制备了非晶碳－聚酰亚胺复合薄膜，首次观察到非晶碳－聚酰亚胺复合薄膜具有较低的电子发射阈值电场和较高的发射电流密度．利用透明导电阳极技术，确定阴极电子发射位置。
李运钧姚宁何金田王建恩张兵临
关键词：场致电子发射
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