张淑娟
- 作品数：11 被引量：16H指数：3
- 供职机构：江西科技师范学院更多>>
- 发文基金：江西省自然科学基金江西省教育厅科学技术研究项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>
- 电弧离子镀氮化钛铝铬涂层的900℃氧化
- 2007年
- 氮化物金属陶瓷涂层由于具有高的硬度和化学稳定性，成为近年来防护涂层的研究热点。利用脉冲偏压电弧离子镀技术在压气机叶片用1Cr11Ni2W2MoV热强不锈钢基体上沉积了（Ti0．5Al0．5）N、（Ti0．45Al0．45Cr0．1）N和（Ti0．35Al0．35Cr0．3）N亚稳金属陶瓷涂层，研究了涂层的组织、结构和900℃下的氧化行为。3种涂层均为B1NaCl结构，（220）为主要的织构取向。在900℃静态空气中（Ti0．5Al0．5）N氧化严重，添加Cr的涂层表现出优异的抗氧化性。
- 张淑娟李明升何向明张容发多树旺李文魁向军淮
- 关键词：电弧离子镀
- 铝含量及基体脉冲偏压对非对称双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬铝涂层结构和硬度的影响
- 本文利用非对称双极脉冲磁控溅射技术,双极分别接纯铬靶和纯铝靶,通过调整两靶的功率,以反应溅射的方式沉积不同铬铝比的氮化铬铝涂层。研究了两靶的功率比及基体脉冲偏压对涂层成分、结构及硬
- 张淑娟娄瑾刘庭芝多数旺李明升
- 文献传递
- 铝合金表面微弧氧化Cr_2O_3复合膜层的制备及表征被引量：6
- 2010年
- 在微弧氧化液中添加Cr2O3微粒对6063铝合金进行微弧氧化,研究了电解液中Cr2O3的浓度和各项工艺参数对复合膜层膜厚及表面形貌的影响,并用SEM,EDS等手段对复合膜层的微观形貌及组成进行了表征。结果表明:膜层厚度及Cr2O3的复合量均随着溶液中Cr2O3的含量、电流密度、微弧氧化时间的增加而增加,电解液的pH值对复合沉积量也有影响;复合膜层表面含有大量Cr2O3微粒,且Cr2O3微粒已沉积到了氧化膜内部。
- 邵志松赵晴张淑娟
- 关键词：微弧氧化复合膜层三氧化二铬复合量
- 非对称双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬铝涂层的微观结构和硬度被引量：2
- 2010年
- 利用非对称双极脉冲磁控溅射技术,双极分别接纯铬靶和纯铝靶,通过调整两靶的功率,以反应溅射的方式沉积不同铬铝比的氮化铬铝涂层。研究不同Al含量的氮化铬铝涂层的结构和硬度。所获得的涂层依次为Cr0.95Al0.05N、Cr0.9Al0.1N、Cr0.83Al0.17N和Cr0.75Al0.25N,均为B1NaCl结构,(220)为主要的织构取向。随着涂层中Al含量的增加,涂层表面突起的尺寸逐渐降低,涂层趋于光滑致密;低Al含量涂层为柱状晶结构,随Al含量提高,涂层结构更加致密,并向等轴晶结构转变。涂层硬度随Al含量的提高先增加后降低,Cr0.83Al0.17N涂层表现出最高的硬度,维氏硬度达到33GPa以上。
- 李明升范永中张淑娟祝文段为梁
- 关键词：微观结构
- 电弧离子镀氮化钛铝铬涂层的900℃氧化
- 氮化物金属陶瓷涂层由于具有高的硬度和化学稳定性,成为近年来防护涂层的研究热点．利用脉冲偏压电弧离子镀技术在压气机叶片用1Cr11Ni2W2MoV 热强不锈钢基体上沉积了(TiAl)N、(TiAlCr)N 和(TiAlCr...
- 张淑娟李明升何向明张容发多树旺李文魁向军淮
- 关键词：电弧离子镀
- 文献传递
- 植酸对镁合金微弧氧化膜性能影响被引量：3
- 2007年
- 在18g／L的碱性硅酸钠溶液中，加入7．5gm的环保无毒植酸，研究它对镁合金氧化膜表面形貌、成分、颜色、厚度以及耐蚀性影响。加入植酸后，氧化膜孔的直径范围由1～5μm增加到1～8μm，但氧化膜表面单位面积孔的个数由0.05个／μm^2减少到0．02个／μm^2。植酸参与氧化膜的形成过程，并使氧化膜颜色随着植酸加入量的增加逐渐加深。植酸使氧化膜的厚度由11gm增加到16μm。浸泡实验表明，植酸可进一步提高氧化膜耐蚀性，产生第一个腐蚀点时间由24h延长到50h。
- 张荣发王方圆娄瑾白凌云张淑娟周泽华杨干兰刘庭芝张淑芳
- 关键词：镁合金氧化膜电解质植酸
- Si和Y掺杂对(Ti,Al)N涂层结构和性能的影响被引量：4
- 2012年
- 分别在未施加偏压和施加-100 V偏压条件下,利用磁控溅射技术在压气机叶片用1Cr11Ni2W2MoV热强不锈钢基体上沉积了Ti_(0.3)Al_(0.7)N和Ti_(0.39)Al_(0.55)Si_(0.05)Y_(0.01)N硬质涂层.实验结果表明,施加偏压及Si和Y掺杂明显改变了涂层的相结构,提高了涂层致密度,施加-100 V偏压且添加Si和Y的涂层为非晶结构,表面更加均匀致密.950℃氧化实验表明:Ti_(0.39)Al_(0.55)Si_(0.05)Y_(0.01)N涂层表面形成极薄且致密的Al_2O_3保护性氧化膜,大大降低了氧化速率.施加-100 V偏压的(Ti,Al)N和(Ti,Al,Si,Y)N沉积态涂层与未施加偏压的相应涂层相比,硬度均降低,尤其是(Ti,Al,Si,Y)N涂层变化显著.经950℃热处理,施加偏压的(Ti,Al,Si,Y)N涂层硬度略有降低,这是由于形成了硬度较低的B4相,而未施加偏压的(Ti,Al,Si,Y)N涂层硬度显著提高,这归因于B1相固溶体的分解.划痕测试结果表明,在实验载荷(50N)下,所有涂层均未出现连续性的剥落.
- 范永中张淑娟涂金伟孙霞刘芳李明升
- 关键词：磁控溅射(TI,AL)N抗氧化性能结合力
- 一种双相纳米多层氮化铬铝涂层及其沉积方法
- 本发明涉及一种双相纳米多层氮化铬铝涂层及其沉积方法，该涂层应用于不锈钢、高速钢、硬质合金等材料的耐磨和防腐蚀，属于金属陶瓷、机械加工及金属腐蚀与防护领域。该发明涂层设计方案如下：涂层由B1NaCl结构的Cr<Sub>1-...
- 李明升张迎张淑娟范永中
- 一种双相纳米多层氮化铬铝涂层及其沉积方法
- 本发明涉及一种双相纳米多层氮化铬铝涂层及其沉积方法，该涂层应用于不锈钢、高速钢、硬质合金等材料的耐磨和防腐蚀，属于金属陶瓷、机械加工及金属腐蚀与防护领域。该发明涂层设计方案如下：涂层由B1NaCl结构的Cr<Sub>1-...
- 李明升张迎张淑娟范永中
- 文献传递
- 脉冲偏压及退火处理对电弧离子镀光催化N掺杂TiO2薄膜结构和性能的影响
- 本文利用电弧离子镀技术,在不同脉冲偏压下在玻璃基体上沉积了N掺杂TiO薄膜,研究了基体偏压和热处理对薄膜结构、光吸收性能及可见光照射下降解甲基橙的反应活性。不同脉冲偏压下沉积的N掺杂
- 李明升张淑娟
- 文献传递
