刘野
- 作品数：14 被引量：33H指数：3
- 供职机构：天津师范大学物理与材料科学学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金天津市高等学校科技发展基金计划项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术电子电信更多>>
- 负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响被引量：1
- 2013年
- 采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响。实验结果表明,随着负偏压的增加,沉积速率不断增加,但在负偏压达到一定值后,沉积速率又随偏压增大而减小。
- 潘玉鹏黄美东薛利刘野许世鹏
- 关键词：多弧离子镀TIN薄膜偏压沉积速率
- 复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌
- 2012年
- 本工作将阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法结合形成复合镀膜工艺,即用电弧蒸发Ti靶的同时,用磁控溅射Al靶,并通入反应气体N2,以在高速钢基底上镀制AlTiN薄膜,考察了复合镀膜方法获得的AlTiN薄膜的表面形貌,并将其与单一法镀膜的表面形貌进行了对比分析。电弧离子镀制备的AlTiN薄膜表面颗粒很多,而且尺寸大,表面很粗糙,磁控溅射制备的AlTiN薄膜表面光滑平整,复合镀得到的AlTiN薄膜表面粗糙度介于二者之间,但从形貌上看,复合镀的薄膜呈现出典型的层状生长特征,在SEM下可清晰地看到表面的层状生长在部分区域不完全。测试发现,复合镀薄膜形貌并不是电弧镀和溅射镀薄膜形貌的简单混合,而是具有自身独特的特征,这可能是由于电弧弧光等离子体与溅射的辉光等离子体相互作用的结果。
- 佟莉娜黄美东孟凡宇刘野张学谦王丽格杜珊
- 关键词：表面形貌
- 脉冲偏压占空比对复合离子镀TiCN涂层结构和性能的影响被引量：10
- 2014年
- 采用多弧离子镀和磁控溅射复合离子镀技术在高速钢基底上制备TiCN涂层,通过改变脉冲偏压占空比的大小获得了不同的涂层试样,利用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏硬度计等对涂层进行表征,研究占空比对TiCN涂层组织结构和力学性能的影响。结果表明:随着脉冲偏压占空比的增加,TiCN涂层的表面大颗粒逐渐减少,表面形貌得到改善。涂层结构中,(111)晶面的择优取向趋势明显,沉积速率和显微硬度均出现先增大后减小的趋势,且在占空比为40%时均达最大值。TiCN涂层的最高硬度为3 800HV0.025,约为基底硬度的4倍。
- 程芳黄美东王萌萌范喜迎李云珂刘野
- 关键词：显微硬度
- ErFe_(11-x)Cr_xTi化合物结构和居里温度研究
- 2010年
- 通过X射线衍射和磁测量手段研究ErFe11-xCrxTi(x=0,0.5,1.0,1.5,2.0,2.5,3.0)化合物的晶体结构与居里温度.结果表明:ErFe11-xCrxTi化合物均为ThMn12型结构.Cr对Fe的替代导致单胞体积和晶格参数c的单调减小以及晶格参数a的复杂变化,这可能与Cr的择优占位有关;同时,随着Cr替代量x的增加,ErFe11-xCrxTi化合物的居里温度单调下降,这可能是Cr的替代引起3d次晶格中铁磁交换作用削弱和Cr择优占位共同作用的结果.
- 严达利竺云杨娅冯冬云李娇刘野张学谦
- 关键词：晶体结构居里温度
- 负偏压对电弧离子镀复合TiAlN薄膜的影响被引量：8
- 2012年
- 采用电弧离子镀技术,以W18Cr4V高速钢为基体,调整基体负偏压,制得多个复合TiAlN薄膜试样,研究了基体负偏压对薄膜微观组织形貌、物相组成、晶格位向、硬度、厚度和沉积速率的影响。结果表明,过高或过低的负偏压会使得膜层表面不平整,显微硬度下降。当负偏压为200 V时,膜层的沉积速率最大;负偏压为150 V时,有利于薄膜(111)晶面的择优取向生长,且TiAlN膜的硬度最高。
- 黄美东许世鹏刘野薛利潘玉鹏范喜迎
- 关键词：电弧离子镀TIALN薄膜
- 电弧离子镀不同色泽TiN薄膜的工艺研究被引量：2
- 2013年
- 采用电弧离子镀的方法,在硅片上制备TiN仿金装饰膜层,主要研究氮气分压和基体偏压两个工艺参数对TiN薄膜色泽的影响。结果表明,氮气压强对TiN薄膜的色泽有明显的影响和控制作用。随着氮气分压的增大,薄膜的色泽由浅黄色向红棕色变化。实验发现,基体偏压对膜层的色泽也有一定的影响,当氮气分压一定时,施加偏压所得TiN薄膜比不施加的颜色更浅。可见,通过调节基体偏压和氮气流量,可以获得所需颜色的TiN薄膜。
- 刘野黄美东路少怀吴功航李洪玉
- 关键词：多弧离子镀TIN薄膜色泽
- 复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌的研究
- AlTiN作为一种新型涂层材料,具有硬度高、氧化温度高、红硬性好、附着力强、摩擦系数小、导热率低等优良特性,广泛用于汽车、模具行业等。常见的AlTiN薄膜制备方法主要阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法两种。由于这两种方...
- 佟莉娜黄美东刘野张学谦王丽格杜珊
- 文献传递
- 氮气流量对磁控溅射TiN膜层色泽的影响被引量：5
- 2013年
- 在国产SA-6T型离子镀膜机上利用反应直流溅射方法,在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面制备TiN膜层,考察氮气流量对薄膜色泽的影响。用扫描电镜对薄膜表面形貌进行观测,发现沉积的TiN膜层质量良好,无孔洞,表面平整、致密。采用色度计定量测试了TiN薄膜的色泽,并分析了氮气流量对色泽的影响。结果表明,氮气流量即沉积气压对装饰镀TiN薄膜的颜色有重要影响,通过调节氮气流量,可有效改变TiN膜层的色泽。TiN薄膜的颜色随氮气流量增大而加深。
- 吕长东黄美东刘野许世鹏薛利
- 关键词：TIN薄膜磁控溅射色泽氮气
- TiO_2纳米管阵列的制备及其光催化效率研究被引量：1
- 2009年
- 以质量分数(下同)0.3%NH4F+ethylene glycol+1%H2O为电解液采用阳极氧化法制备了TiO2纳米管,研究了阳极氧化时间和退火温度对TiO2纳米管表面形貌、晶体结构和光催化效率的影响,比较了不同电解液制备的TiO2纳米管和溶胶凝胶法制备的TiO2薄膜的光催化效率.应用X射线衍射(XRD)和场发射扫描电镜(FESEM)对TiO2纳米管的形貌和结构进行了分析.结果表明:在阳极氧化恒电压50 V、阳极氧化48 h、450℃退火4 h条件下制备的TiO2纳米管具有最高的光催化效率,其光催化效率明显高于溶胶凝胶法制备的TiO2薄膜(4.4倍),也高于0.5%HF电解液和弱酸水溶性电解液(0.5%HF+1 mol/L NH4H2PO4)制备的TiO2纳米管的光催化效率.
- 李凯刘野王守国韦淑敏斯琴石晓晓邓湘云侯兴刚
- 关键词：TIO2纳米管阳极氧化
- 退火处理对TiO2薄膜结构和透射性能的影响
- 二氧化钛薄膜具有优良的介电、压电、气敏和光催化性能,在微电子、光学、传感器和光催化方面有着重要的应用。二氧化钛还具有坚硬、抗化学腐蚀,在整个可见和近红外光谱区都透明,透射率高、折射率大、化学稳定性高等优异性能,所以研究二...
- 王丽格黄美东杜珊佟莉娜刘野
- 文献传递
