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黄雁华

作品数：4 被引量：8H指数：1
供职机构：清华大学信息科学技术学院电子工程系更多>>
相关领域：生物学理学自然科学总论更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇标准

领域

  • 2篇生物学
  • 2篇自然科学总论
  • 2篇理学

主题

  • 1篇质谱
  • 1篇污染
  • 1篇离子
  • 1篇膜系
  • 1篇航天
  • 1篇航天器
  • 1篇二次离子质谱
  • 1篇飞行
  • 1篇飞行时间
  • 1篇硅
  • 1篇硼
  • 1篇成像
  • 1篇成像分析

机构

  • 4篇清华大学
  • 2篇北京卫星环境...

作者

  • 4篇王光普
  • 4篇陈旭
  • 4篇黄雁华
  • 4篇查良镇
  • 2篇黄天斌
  • 2篇周传良
  • 2篇桂东
  • 2篇刘林

传媒

  • 1篇真空
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 3篇2006
  • 1篇2005
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
用当代飞行时间二次离子质谱分析航天器污染被引量：7
2006年
随着对航天器长寿命和高可靠性的要求日益提高,其污染问题已引起国内外高度重视。在监测污染物总量的基础上,需要有效的分析手段确定污染物的化学成分才能判断污染源。用当代飞行时间二次离子质谱仪器(TOF-SIMS)对我国地面空间环境模拟污染的典型样品进行了探索性实验,结果表明:与国内外现有的检测手段相比,当代TOF-SIMS最适于样品量有限的航天污染物的成份分析;具有高质量分辨的TOF-SIMS,对航天污染物包含的所有元素、同位素和化合物具有指纹鉴别能力;成像分析可解析出污染物形成历史的一些相关信息。TOF-SIMS有望在航天污染系统工程中发展成为一种独具特色的航天污染检测新技术。
黄雁华王光普陈旭周传良查良镇
关键词：成像分析
表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10<上标16>atoms/cm<上标3>～1×10<上标20>atoms/cm<...
查良镇陈旭黄雁华王光普黄天斌刘林葛欣桂东
文献传递
表面化学分析.溅射深度剖析.用层状膜系为参考物质的优化方法
为使俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质谱的仪器设定达到深度分辨的优化目的，本标准采用适当的单层和多层膜系参考物质，提供优化溅射深度剖析参数的指南。 特殊多层膜系（如各种掺杂层膜系）的使用不包括在本标准内。
查良镇陈旭王光普黄雁华黄天斌刘林葛欣桂东
文献传递
从飞行时间二次离子质谱像解析航天器污染的信息被引量：1
2005年
飞行时间二次离子表面质谱能对航天材料上肉眼可见微量污染物实现包括元素、同位素和各种化合物在内的指纹鉴别,特别是样品量有限航天器污染成份分析的理想手段。本文重点讨论如何从带有金一次离子源的飞行时间二次离子像中提取有关航天器污染的信息。由于飞行时间二次离子质谱独具的并行质量登录能力,二次离子表面像上每一像素都储存着完整的质谱,任意质量的二次离子像都可重构。与四极和磁二次离子质谱相比,飞行时间二次离子质谱更适于复杂航天器污染物的成像分析。
王光普黄雁华陈旭周传良查良镇
关键词：航天器污染
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