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贾冬义

作品数：3 被引量：24H指数：2
供职机构：中国科学院光电研究院更多>>
相关领域：化学工程理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇等离子体
  • 1篇低温等离子
  • 1篇氧化硅
  • 1篇乙烯
  • 1篇粘接
  • 1篇粘接性
  • 1篇粘接性能
  • 1篇射频
  • 1篇四氟乙烯
  • 1篇气相沉积
  • 1篇微电子
  • 1篇聚四氟乙烯
  • 1篇聚四氟乙烯薄...
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇二氧化硅
  • 1篇氟乙烯
  • 1篇改性
  • 1篇表面改性
  • 1篇材料表面改性

机构

  • 1篇长春理工大学
  • 1篇中国科学院光...

作者

  • 2篇贾冬义
  • 1篇钟少锋
  • 1篇王守国
  • 1篇赵玲利

传媒

  • 1篇高分子材料科...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2006
共 3 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
聚四氟乙烯低温等离子体表面改性与粘接性能被引量：19
2008年
利用自行研制的真空低温等离子体设备对聚四氟乙烯(Teflon)薄膜材料进行表面处理,并对等离子体处理后Teflon之间粘接性能作了研究,找到了一些实用的工艺;采用静态接触角、SEM和XPS对等离子体处理前后Teflon的表面接触角、时效性、微观结构及表面成分的改变进行了分析。实验结果显示,其表面接触角随处理时间的变化存在一个最佳值,随着处理时间的进一步增加,其亲水性又开始变差。
贾冬义钟少锋赵玲利王守国
关键词：等离子体聚四氟乙烯薄膜表面改性粘接
常压冷等离子体的产生及在微电子和材料表面改性中的应用
本文是作者对常压射频和常压高频等离子体设备研究和应用工作的一部分。 二氧化硅薄膜的制备是微电子工艺中一项十分重要的技术，针对不同用途的二氧化硅薄膜，各种新的沉积技术不断涌现。而大气压射频低温等离子体增强化学气相...
贾冬义
关键词：射频化学气相沉积二氧化硅
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