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杨梅

作品数：2 被引量：2H指数：1
供职机构：大连理工大学机械工程学院微系统研究中心更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇单晶硅片
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体源
  • 1篇电子回旋共振
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇类金刚石
  • 1篇类金刚石膜
  • 1篇硅片
  • 1篇二次生长法
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇DLC膜
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇大连理工大学

作者

  • 2篇唐祯安
  • 2篇杨梅
  • 1篇刘毅慧
  • 1篇李新
  • 1篇高金成
  • 1篇邹龙江
  • 1篇张虹霞
  • 1篇刘婧
  • 1篇邓新绿
  • 1篇徐军

传媒

  • 1篇化学通报
  • 1篇功能材料

年份

  • 2篇2004
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射DLC膜的制备与表征被引量：2
2004年
　介绍了微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射设备的结构和工作原理,详细叙述了利用该设备制备类金刚石膜的过程。Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性;采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的微观表面形貌,均方根粗糙度大约为1.9nm,结果表明薄膜表面非常光滑;利用CERT微摩擦计进行摩擦、磨损和划痕实验,薄膜的平均摩擦系数较小,大约为0.175;DLC膜和Si衬底磨损情况的扫描电镜图片相对比,可以看到DLC膜的磨痕小的多,说明薄膜有较好的耐磨性能;划痕测试结果表明制备薄膜临界载荷大约为40mN。
李新唐祯安邓新绿徐军张虹霞杨梅
关键词：非平衡磁控溅射电子回旋共振等离子体源类金刚石膜
单晶硅片上Silicalite-1沸石薄膜的合成
2004年
高金成刘婧杨梅唐祯安邹龙江刘毅慧
关键词：单晶硅片二次生长法
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共1页<1>
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