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曲承林

作品数：4 被引量：3H指数：1
供职机构：青岛科技大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信理学金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇气相沉积
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 1篇导体
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体涂层
  • 1篇人造金刚石
  • 1篇射频
  • 1篇涂层
  • 1篇金刚石
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇刚石
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体薄膜
  • 1篇CVD金刚石

机构

  • 2篇青岛科技大学
  • 1篇山东大学
  • 1篇青岛化工学院

作者

  • 4篇曲承林
  • 2篇李世直
  • 1篇刘元生
  • 1篇王继扬
  • 1篇彭红瑞
  • 1篇石玉龙
  • 1篇刘训民
  • 1篇马世刚
  • 1篇谢雁
  • 1篇谢雁
  • 1篇赵程
  • 1篇谢广文

传媒

  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇青岛化工学院...
  • 1篇1999年第...

年份

  • 1篇2002
  • 1篇1999
  • 1篇1996
  • 1篇1992
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
等离子体化学相沉积硬膜技术工业化研究
李世直谢雁石玉龙赵程彭红瑞曲承林谢广文刘元生
该成果利用低压等离子体的活化作用来降低反应温度，使传统的化学气相沉积（CVD）温度降低，适于在高速钢类材料表面涂镀硬质膜，用于提高机械行业要求耐磨耐蚀零部件的寿命，特别是提高刀具、模具的寿命。采用该技术研制的NC－TiN...
关键词：
关键词：化学气相沉积等离子体涂层
电子辅助热丝CVD法合成金刚石膜被引量：3
1996年
本文采用电子辅助热丝化学气相沉积（ＥＡＣＶＤ）法合成了厚度为４４０μｍ的金刚石膜。实验结果表明，适当地选择和控制各种沉积参数，可获得高质量的金刚石膜。本文还分析和讨论了基板温度、偏流、压强和甲烷浓度对金刚石膜质量的影响以及它们之间的相互关系。
曲承林刘训民王继扬马世刚
关键词：化学气相沉积金刚石薄膜半导体薄膜
生产CVD金刚石的装置
了一种生产金刚石膜片的装置，每次可生产六片19～38cm<'2>的金刚石膜片，该装置是由六个相同的真空室组成，既可同时工作又可单独工作，并可利用计算机进行自动控制。其中配有特殊的灯丝工装，保证停电时灯...
曲承林朱永祥谢广文刘元生
关键词：人造金刚石金刚石
新型射频等离子化学气相沉积系统
1992年
设计了一种射频电极作为基板支架的射频等离子体化学气相沉积系统.其温度可达700℃,负偏压是可调的.并以沉积的TiN膜的取向为例说明了系统的工作情况.
曲承林谢雁李世直
关键词：射频等离子体气相沉积
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