付光宗
- 作品数：19 被引量：33H指数：2
- 供职机构：重庆大学数理学院应用物理系更多>>
- 发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”重庆市科技攻关计划重庆市自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术理学金属学及工艺更多>>
- 退火处理对CdInO4薄膜光电特性的影响及温差电动势的研究
- 研究了直流磁控反应溅射制备三元化合物CdInO薄膜(简称CIO膜)的光电性质和温差电动势,及其反应气体中氧浓度和退火处理对CIO膜性质的影响。结果表明CIO膜在可见光区有良好的导电性和透光性,退火处理明显提高了膜的透光率...
- 杨丰帆王万录廖克俊付光宗张瑞俭曹春兰
- 关键词：光电特性退火处理
- 文献传递
- 衬底温度对磁控溅射氮化铝薄膜组成的影响
- 采用高纯铝靶和氮/氩混合气氛,在玻璃衬底上用直流反应磁控溅射法制备了 AlN 薄膜,用 X 射线光电子能谱(XPS)分析了不同衬底温度下样品的组成。结果表明,AlN 薄膜主要含有 AlN,存在少量 AlO及一些其它杂质;...
- 张淑芳方亮付光宗董建新彭丽萍
- 关键词：氮化铝薄膜磁控溅射XPSAFM
- 文献传递
- 退火处理对CdIn_2O_4薄膜光电特性的影响及温差电动势的研究
- 2004年
- 研究了直流磁控反应溅射制备三元化合物CdIn2O4薄膜(简称CIO膜)的光电性质和温差电动势,及其反应气体中氧浓度和退火处理对CIO膜性质的影响。结果表明CIO膜在可见光区有良好的导电性和透光性,退火处理明显提高了膜的透光率和载流子浓度,这一影响对CIO的广泛应用具有重要的意义。
- 杨丰帆王万录廖克俊付光宗张瑞俭曹春兰
- 关键词：光电特性退火处理
- 硅脂导热涂层改善LED散热性能的研究
- 研究了导热硅脂(KE3493)涂层对水下密闭环境下应用的 LED 灯散热情况的影响,结果表明,LED 系统的集成电路板上加入导热涂层能提高 LED 系统的散热效率,研究结果为导热涂层应用于 LED 散热系统提供了参考数据...
- 张淑芳方亮付光宗董建新陈勇
- 关键词：散热性能LED硅脂
- 文献传递
- 超薄铝膜的制备与透光率的研究
- 当铝(Al)膜的厚度在100nm时,可以作为一种光学薄膜使用.用这种超薄铝膜制成光学元件具有耐激光以及损耗小等特点,在大功率激光系统中将得到应用.利用高纯铝靶,运用直流磁控溅射法制备了超薄铝膜,利用双光束分光光度计研究了...
- 付光宗杨丰帆杨小红廖克俊刘高彬
- 关键词：透射率光学性质直流磁控溅射
- 文献传递
- 直流磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及电学性质研究
- 2005年
- 本文采用直流反应磁控溅射方法在平面玻璃上制备了ZnO薄膜.所得的ZnO薄膜利用X光衍射,扫描电子显微镜和原子力显微镜进行分析和表征.实验结果表明,ZnO薄膜的结构和电学性质与合成条件密切相关.并测试了ZnO薄膜的温差电动势,得出薄膜中的载流子浓度越大,温差电动势率越小;ZnO薄膜厚度越大,温差电动势率越小.本文对其结果进行了理论分析.
- 李丽方亮廖克俊刘高斌杨丰帆付光宗
- 关键词：ZNO薄膜磁控溅射载流子浓度
- 直流磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及电学性质研究
- 本文采用直流反应磁控溅射方法在平面玻璃上制备了ZnO薄膜。所得的ZnO薄膜利用X光衍射,扫描电子显徽镜和原子力显微镜进行分析和表征。实验结果表明,ZnO薄膜的结构和电学性质与合成条件密切相关。并测试了ZnO薄膜的温差电动...
- 李丽方亮廖克俊刘高斌杨丰帆付光宗
- 关键词：ZNO薄膜磁控溅射载流子浓度
- 文献传递
- 透明导电CdIn204薄膜加磁Seebeck效应的研究
- CdIn2O4(简称CIL膜)是一种n型宽带隙简并化氧化物半导体三元化合物薄膜材料。它具有许多优异的光学和电学性质,如它在可见光范围内的透光率高达91.7%,而电阻率却低于10-4Ωcm,并且该膜具有红外高反射率、耐磨性...
- 杨丰帆王万录廖克俊付光宗
- 关键词：磁控溅射SEEBECK效应
- 文献传递
- 未来存储谁主天下？
- 2005年
- 近年来NAND型闪存在存储容量上的飞速发展，吸引了众多关注的目光，其能否取代硬盘成为未来主要的存储手段已在业务引起广泛争论。为此，本文在简要阐述NAND型闪存基本原理和结构的基础上，从速度，容量，价格，使用寿命等方面，与硬盘的性能进行对比分析，以期让更多的人了解NAND型闪存……
- 张淑芳方亮付光宗
- 关键词：使用寿命闪存硬盘
- 透明导电CdIn2O4薄膜的结构和Seebeck效应
- 2007年
- 在Ar和O2混合气氛中,利用直流反应磁控溅射Cd-In合金靶制备了CdIn2O4(简称CIO)薄膜,利用AFM和XRD技术表征了薄膜的形貌和组成,用XPS分析了薄膜的化学成分和元素价态,并在室温下测量了CIO薄膜的Seebeck效应以及加入磁场后的Seebeck效应.实验结果表明:CIO薄膜是多晶薄膜,其表面粗糙度为1.60～2.60nm,晶粒大小为13～36nm,晶界清晰.它由CIO相和In2O3相组成,部分样品还含有微量的CdO相,退火处理后氧缺乏状态和氧充足状态的面积比由退火前的0.69增加到0.71,薄膜的导电性能得到提高.CIO薄膜具有非常明显的Seebeck效应,温差电动势随温差的增加而线性增加,温差电动势率随着电阻的增加而减小;加入磁场后,薄膜的温差电动势率变小.文章对制备条件和结构的关系以及Seebeck效应和加入磁场后的Seebeck效应的机理作了详细探讨.
- 杨丰帆方亮李丽付光宗张勇李明伟喻江涛
- 关键词：SEEBECK效应
