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X射线衍射技术及其在材料表征实验的研究综述被引量：6: 2014年; X射线衍射技术是一种不损害材料、无污染、精确测量并能得到样品完整结构信息的测量技术,在材料研究的众多领域得以应用。该文主要介绍了X射线衍射的产生及其工作原理,从物相分析、应力测量、晶粒尺寸和结晶度测量等方面概述了该技术在材料结构表征中的应用。; 王存勇曹丽茆思聪尚凤娇周智涛王峰; 关键词：X射线衍射物相分析应力结晶度

Mg_xZn_(1-x)O薄膜的红外光谱及其表面浸润性被引量：1: 2014年; 采用溶胶-凝胶法制备MgxZn1-xO薄膜,利用X射线衍射仪、原子力显微镜、傅里叶变换红外光谱仪和荧光光谱仪等测试分析薄膜的微结构、表面形貌、红外光谱和光致发光特性等,研究结果表明,薄膜中的Zn O成分均呈六角纤锌矿结构,当x=0.15时,薄膜中有Mg O成分析出;随着x从0增大到0.15,均方根粗糙度不断减小;1038 cm-1附近的吸收峰对应于Si-O-Si的对称和反对称伸缩振动模,408 cm-1附近的吸收峰对应于六角结构Zn O的Zn-O振动模,900 cm-1附近的吸收峰则对应于SiO键伸缩振动模,该吸收峰强度的减弱说明薄膜中Si-O键数目减少。近带边发射峰位由410 nm蓝移到370 nm与薄膜导带底或价带顶的局域能级、薄膜禁带宽度变化等因素有关,可见光发射带是单离子氧空位(VO+)和氧填隙(Oi)等薄膜本征缺陷相互竞争的结果。用接触角测试仪测试薄膜的表面接触角,研究Mg含量对薄膜的表面浸润性及其光诱导可逆转变的影响,并探讨其形成机理。; 王存勇尚凤娇王峰周智涛刘昌龙龚万兵訾振发吕建国刘峰黄凯; 关键词：表面形貌红外光谱

Cu掺杂ZnO薄膜光学性能、表面浸润性及其光诱导转变被引量：1: 2014年; 采用溶胶-凝胶法制备Cu0.05Zn0.95O和Cu0.10Zn0.90O薄膜,在500,600,700和800℃条件下对薄膜进行退火处理,用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外可见分光光度计、荧光光谱仪和接触角测试仪测试薄膜的微结构、表面形貌、透射光谱、光致发光谱和接触角。结果显示,对于相同Cu含量ZnO薄膜,随着退火温度升高,CuO衍射峰的强度明显增强,粗糙度均方根值先减小后增大,紫外吸收边发生红移,紫光发射强度逐渐增大。光照前,薄膜接触角均大于90°,表现为疏水特性;经120 min紫外照射的薄膜由疏水性转变为亲水性。研究退火温度对薄膜光诱导亲水性的影响,揭示薄膜表面浸润性及其光诱导转变的形成机理。; 王存勇周智涛王峰刘昌龙龚万兵吕建国; 关键词：溶胶-凝胶表面形貌吸收边浸润性

Cu含量对Zn_(1-x)Cu_xO薄膜光学性能的影响: 2013年; 采用溶胶-凝胶法制备Cu x Zn1-x O薄膜,用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和荧光光谱仪研究薄膜的微结构、表面形貌、透射谱和光致发光谱,结果表明:薄膜均呈六角纤锌矿结构,随着Cu含量增加,薄膜平均晶粒尺寸先增大后减小,表面RMS粗糙度先减小后增大,紫外吸收边发生蓝移,薄膜在可见光波段范围内的平均透过率在80%左右。未掺杂ZnO薄膜中出现一个相对较弱紫光发射带和一个很强的绿光发射带,其它薄膜中出现一个紫光发射和一个蓝光发射带;紫光发射归因于导带以下的局域能级与价带之间的电子跃迁,绿光发射来自于氧空位缺陷能级与价带之间的电子跃迁。; 王存勇周智涛王峰刘昌龙龚万兵吕建国刘峰黄凯; 关键词：AFM 光致发光

水热法制备In掺杂ZnO薄膜的表面形貌及其光学性质被引量：1: 2015年; 采用水热法在ZnO籽晶层上制备了不同In掺杂量的ZnO薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计和荧光光谱仪等测试分析薄膜的微结构、表面形貌、透射谱和室温光致发光谱。结果表明,In离子的掺入未改变薄膜的晶相结构,但抑制了ZnO晶粒的生长,使得ZnO的结晶度明显下降。随着In含量的增加,薄膜表面rms粗糙度和平均颗粒尺寸均逐渐减小,光学带隙Eg先增大后减小。所有薄膜的PL谱中均观察到405 nm左右的紫光发光带,研究了In掺杂量对紫光发光带的强度和峰位的影响,并对其紫光发射机理进行了探讨。; 戴结林江瑶瑶尚凤娇周智涛王峰赵敏吕建国; 关键词：ZNO薄膜表面形貌光致发光谱

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王峰