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文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 5篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程

主题

  • 4篇色谱
  • 4篇气相
  • 3篇气相色谱
  • 3篇相色谱
  • 2篇三氯氢硅
  • 2篇色谱法
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  • 1篇多晶硅
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  • 1篇冶金
  • 1篇冶金分析
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  • 1篇质谱
  • 1篇质谱法
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  • 1篇气相色谱-质...
  • 1篇气相色谱-质...
  • 1篇气相色谱法

机构

  • 6篇昆明冶研新材...

作者

  • 6篇杨红燕
  • 5篇赵建为
  • 3篇于晓艳
  • 3篇卢菊花
  • 2篇陶明
  • 2篇张永凤
  • 2篇李亚娜
  • 1篇沈立俊
  • 1篇李剑南
  • 1篇张云辉

传媒

  • 2篇理化检验(化...
  • 2篇低温与特气
  • 1篇云南冶金
  • 1篇湖南有色金属

年份

  • 3篇2016
  • 2篇2014
  • 1篇2012
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
气体中微量一氧化碳、甲烷、二氧化碳的气相色谱分析被引量:16
2014年
建立了甲烷转化气相色谱法测定气体中一氧化碳、甲烷、二氧化碳的分析方法。采用一阀两柱系统,氯气、氯化氢通过十通阀经柱Ⅰ(Hayesep Q)反吹出系统,一氧化碳、甲烷、二氧化碳通过柱Ⅱ(Porapak Q)进入氢火焰离子化检测器进行检测,通过外标法定量,结果表明该方法线性好,各组分的检出限分别为一氧化碳0.02×10-6(mol/mol)、甲烷0.05×10-6(mol/mol)、二氧化碳0.08×10-6(mol/mol)。该方法简便、准确、灵敏、重现好。
于晓艳左世芳卢菊花陶明杨红燕赵建为张云辉
关键词:气相色谱一氧化碳甲烷二氧化碳
气相色谱-质谱法测定三氯氢硅中甲基二氯硅烷的方法研究被引量:7
2014年
采用气相色谱-质谱(GC-MS)联用技术,以1,2-二氯乙烷为内标,用内标法对三氯氢硅(SiH3Cl)中的含碳杂质甲基二氯硅烷快速分离并进行了分析测定方法研究.实验结果表明,甲基二氯硅烷含量在0.1~100μg/mL范围内有良好的线性关系,相关系数r大于0.999 9.该方法重现性好,可用于多晶硅生产用三氯氢硅中含碳杂质甲基二氯硅烷的分析测定.
沈立俊杨红燕赵建为
关键词:甲基二氯硅烷三氯氢硅
2011年云南冶金分析年评被引量:1
2012年
评述了云南分析检测工作者于2011年度在国内外学术期刊上发表的有关冶金分析方面的论文。内容包括综述、分离富集方法、原子光谱分析、分子光谱分析、电化学分析、滴定及重量分析及其它分析方法,引用文献63篇。
赵建为杨红燕
关键词:冶金分析
毛细管柱气相色谱法测定氢气中的氯化氢被引量:3
2016年
多晶硅生产中,干法回收氢气作为原料还原剂和载流气体,若其中氯化氢含量高,则在多晶硅生产过程的前期可能出现倒炉现象,后期可能出现磷超标现象,严重影响多晶硅的质量。因此需对回收氢气中的氯化氢进行测定。
于晓艳杨红燕卢菊花赵建为李剑南王桃萍任国扬
关键词:回收氢气氯化氢多晶硅还原剂
DELTA-F库仑式微量氧分析仪取样管线改造
2016年
介绍了DELTA-F库仑式微量氧分析仪的分析原理、结构特点及其在多晶硅生产中的应用情况。通过对取样管线的改进,解决了测量中存在的问题,更好的满足了生产需求。
李亚娜张永凤杨红燕卢菊花王桃萍
关键词:管线改造
分子直径法计算相对校正因子在气相色谱法测定三氯氢硅含量中的应用
2016年
在气相色谱法测定三氯氢硅含量中,采用分子直径法,以四氯化硅为标准物,计算氯化氢、二氯二氢硅、三氯氢硅在热导检测器上的相对校正因子,并以氦气为载气,测定三氯氢硅对四氯化硅的相对质量校正因子。未采用分子直径法得到的相对质量校正因子为0.891,采用分子直径法得到的相对质量校正因子为0.915,两者相对误差为1.13%。
于晓艳陶明左世芳杨红燕李亚娜张永凤赵建为
关键词:气相色谱法三氯氢硅相对校正因子
共1页<1>
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