弥谦
- 作品数：150 被引量：168H指数：7
- 供职机构：西安工业大学光电工程学院更多>>
- 发文基金：陕西省教育厅省级重点实验室科研与建设计划项目国家自然科学基金陕西省教育厅科研计划项目更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>
- 一种任意曲率半径光学零件的加工设备
- 本实用新型涉及光学精密制造技术领域，具体涉及一种任意曲率半径光学零件的加工设备。本实用新型的目的是提供一种可高质量且迅速地加工任意曲率半径的球面光学零件的加工设备。为达到上述目的，本实用新型提供的技术方案是：一种任意曲率...
- 刘卫国郭忠达阳志强陈智利弥谦杭凌侠王红军田爱玲
- 文献传递
- 一种蛋清薄膜及可降解有机-无机薄膜晶体管的制备方法
- 本发明涉及一种蛋清薄膜及可降解有机‑无机薄膜晶体管的制备方法。蛋清薄膜的制备包括蛋清前驱液的制备；基片清洗与表面活化；蛋清薄膜的制备。可降解有机‑无机薄膜晶体管的制备包括醇基高k氧化物前驱液与水基TMOS前驱液的制备；蛋...
- 栗旭阳弥谦梁海锋蔡长龙王青锐赵元杰
- Ar/CH_4流量比对a-C∶H薄膜沉积速率及性能的影响
- 2012年
- 为研究气体流量比对非平衡磁控溅射沉积含氢类金刚石薄膜(Diamond-Like Carbon,DLC)沉积速率及性能的影响,在不同Ar/CH4流量比条件下将a-C∶H沉积在单晶硅基底,采用傅里叶红外光谱、椭偏仪、表面轮廓仪对薄膜的沉积速率、光学特性及表面粗糙度进行研究.实验结果表明:引入甲烷气体后,非平衡磁控溅射沉积a-C∶H薄膜沉积速率大幅度提高;在3～5μm波段硅基底上镀制a-C∶H膜具有良好的红外增透特性,薄膜峰值透射率明显受到Ar/CH4流量比的影响,Ar/CH4流量比1∶3时,制备的a-C∶H峰值透过率可达69.24%;a-C∶H薄膜的折射率和消光系数随着CH4流量的增加而增大;a-C薄膜的粗糙度要优于a-C∶H薄膜,a-C∶H薄膜的粗糙度随厚度的增加而变大.
- 弥谦王超惠迎雪张艳茹杭凌侠
- 关键词：非平衡磁控溅射光学性能
- 用于智能显示的相位型计算全息图的设计被引量：3
- 2018年
- 介绍了一种基于相息图原理的用于智能显示的纯相位型计算全息图的设计方法,并在此基础上,以雪花图形和分划板图形为例,完成了全息元件实验样件的制作及全息再现实验,这种实时再现的图像可以用于智能显示。在已知记录介质折射率的情况下,通过控制纯相位型计算全息图记录介质表面微结构的宽度和高度来调制光波,得到所需图像。采用逐步迭代的傅里叶变换算法来获取纯相位型计算全息图的相位结构,为了降低相位型计算全息图的制作难度,提出量化数学模型,并对所设计的相位结构进行量化处理,给出了纯相位型计算全息图的4台阶浮雕型相位结构。全息元件的尺寸设定为6mm×6mm,工作波长为650nm,衍射结构的最小特征尺寸为8μm。理论计算和模拟再现像的结果表明,在未考虑加工误差的条件下,所提供的这种用于智能显示的纯相位型计算全息图的设计方法是可行的。此方法可推广用于其它任意特定图案的纯相位型计算全息图的设计,也可用于设计具有光束整形功能的衍射光学元件,如离轴照明的光束的整形匀光器件等。用于智能显示时,用平行光照射制作的实验样件,只得到的单一的衍射图像,不存在其他衍射级次的图像,在考虑采用台阶量化结构和存在加工误差的情况下,衍射效率仍然很高。若改变设计的全息图相位的正负,并用平行光以特定的角度照射制作此相位型计算全息图,可用于全息瞄准。
- 张梦妮张锦蒋世磊孙国斌弥谦王震张强武耀霞
- 关键词：衍射光学元件
- 直升机实时指挥监控系统
- 2005年
- 为了满足某部队对某直升机监控的特殊要求,根据GPS全球卫星定位系统和数传电台及PC104嵌入式计算机的工作原理,研制了集差分GPS信息获取和处理、数据信息流通控制与传输、监控信息的动态图像和参数刷新显示的监控系统,即直升机实时指挥与监控系统.阐述了监控系统的硬件结构组成、系统工作及软件模块的功能.试飞报告鉴定结果证明,该监控系统运行稳定可靠,完全满足设计要求,并成功配备于某军用直升机中.
- 沈显来弥谦白秋产
- 关键词：直升机GPS数传电台PC104
- 在医用手术刀上镀制类金刚石薄膜技术
- 2004年
- 弥谦
- 关键词：类金刚石薄膜
- 变焦系统径向偏移对像点的影响分析
- 2018年
- 针对变焦距系统在变焦过程中由于变焦组的径向偏移误差导致像面径向偏移的问题,利用ZEMAX光学设计软件中的坐标断点功能,模拟了变焦镜头在进行变焦过程中变焦组存在径向偏移误差时像面的径向偏移.结果表明:变焦系统像面径向跳动量与变焦系统变焦组径向偏移误差成正比,与变焦系统焦距成正比.变焦组径向偏移小于0.03mm,对系统成像质量影响较小;变焦组径向偏移0.05mm,系统调制传递函数(MTF)值低于0.3,系统像差值变大.
- 王震蒋世磊弥谦孙国斌张强
- 关键词：变焦系统
- 平面光学元件微位移测量及仿真
- 2017年
- 为了实现针对平面光学元件的微位移测量,提出了一种新型的基于消光式椭偏法的测量方法.通过对光线传播过程中椭圆偏振态的变化进行分析,推导出了在消光条件下,平面光学元件标准件与被测件之间的间距与起偏器方位角及检偏器方位角之间的函数关系,根据起偏器与检偏器方位角得出被测件相对标准件发生位移前后的间距,从而得出位移量的数值.仿真结果表明:入射角为60°,实验仪器测角精度为5′时,这种方法能够实现测量范围在250nm以内,测量精度为10nm的微位移测量.
- 弥谦赵昊天
- 关键词：椭偏法平面光学元件微位移测量
- 磁场强度对磁约束磁控溅射源工作状态的影响
- 磁场强度及磁场的分布在磁控溅射镀膜机工作中影响着磁控溅射源工作的稳定性及靶材的利用率。传统的"跑道环"形式的磁场设计理念,在薄膜沉积的过程中,溅射主要集中在靶材面的一个环形跑道区域内,靶材利用率只有20%～30%,所以成...
- 袁渊明弥谦潘婷
- 关键词：磁约束磁场强度
- 文献传递
- 一种任意曲率半径光学零件的加工方法及其设备
- 本发明涉及光学精密制造技术领域，具体涉及一种任意曲率半径光学零件的加工方法及其设备。本发明的目的是提供一种任意曲率半径光学零件的加工方法及其设备，即可高质量且迅速地加工任意曲率半径的球面光学零件的加工方法。为达到上述目的...
- 刘卫国郭忠达阳志强陈智利弥谦杭凌侠王红军田爱玲
- 文献传递
