冯亚南
- 作品数：77 被引量：45H指数：4
- 供职机构：中国电子科技集团第十三研究所更多>>
- 相关领域：机械工程自动化与计算机技术一般工业技术电子电信更多>>
- 超薄二氧化硅薄膜样片的定值方法及制备方法
- 本发明适用于半导体技术领域，提供了一种超薄二氧化硅薄膜样片的定值方法及制备方法。该定值方法包括：将衬底在清洗液中清洗；在清洗后的所述衬底的上表面生长厚度小于10纳米的二氧化硅薄膜；选取定值区域，在所述定值区域选取n个测量...
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- 文献传递
- 纳米级线宽标准样片的设计与制备被引量：4
- 2021年
- 介绍了纳米级线宽标准样片的用途及其在校准扫描电子显微镜中存在的问题,设计了具有快速循迹结构的线宽标准样片,采用电子束光刻工艺制作了标称宽度为25nm~200nm的线宽样片。以50nm和200nm线宽为例对样片的线宽偏差、线边缘粗糙度、线宽均匀性和稳定性进行了考核。结果表明,标称值50nm~200nm的样片线宽值与设计值基本一致,线边缘粗糙度为1.9nm~2.0nm、均匀性为1.7nm~1.9nm,稳定性为0.06nm~0.6nm。
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- 关键词：电子束线边缘粗糙度均匀性稳定性
- 基于二氧化硅的微米级线距样片制备被引量：2
- 2018年
- 设计了微米级线距样片的图形结构和制作工艺流程,制作了周期尺寸为(1～10)μm的线距样片。以周期尺寸为1μm和10μm的样片为例对样片的直线度、均匀性和稳定性等质量参数进行了考核。结果表明,研制的线距样片尺寸与设计值基本一致,稳定性好,与美国VLSI公司的标准样片进行了结果对比,本文研制的线距样片与VLSI的标准样片质量相当。
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- 关键词：直线度均匀性稳定性
- 纳米尺寸的线距标准样片及其制备方法
- 本发明涉及半导体技术领域，具体公开一种纳米尺寸的线距标准样片，包括基板和设置于所述基板上的光栅图形区，还包括位于所述光栅图形区外的三级光栅循迹标志，通过三级循迹标志可以快速准确找到光栅有效区域，解决现有标准样片无法快速找...
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- 文献传递
- 基于蒙特卡洛法的砝码校准不确定度评定被引量：9
- 2013年
- 当采用不确定度传播律进行测量不确定度评定(GUM)感到困难或不方便时,蒙特卡洛法是实用的替代方法。在GUM建立数学模型、设定输入量概率密度函数的基础上,通过对概率分布随机采样进行分布传递,确定输出量的概率密度函数,从而得到输出量的估计值、标准不确定度以及在指定包含概率下的包含区间,实现对测量不确定度的评定。通过砝码折算质量偏差测量不确定度评定实例,说明了采用蒙特卡洛法进行测量不确定度评定的实现方法,并与GUM方法和规程中的方法进行了比较。
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- 关键词：蒙特卡洛法测量不确定度评定
- 基于多层膜沉积的寻迹式线宽标准样片及其制备方法
- 本发明适用于微纳米测量仪器计量技术领域，提供了一种基于多层膜沉积的寻迹式线宽标准样片及其制备方法，该寻迹式线宽标准样片包括：依次设置的第一衬底样片、多层介质层和第二衬底样片；第一衬底样片的第一面上设置多个第一凹槽，每个第...
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- 文献传递
- 图像拼接技术在台阶高度样块评定中的应用被引量：1
- 2017年
- 研究了目前国际上通用的图像拼接技术,针对白光干涉方法测量台阶高度样块图像视场区域小的问题,提出了一种使用台阶边缘作为匹配点、基于三维点集的台阶样块图像拼接方案,实现了台阶样块图像三维自动拼接,满足了按照国际通用的单线评价法对台阶高度进行评定的要求。使用美国VLSI公司的有证台阶高度标准样块对软件拼接准确度进行了验证。验证结果表明,最大差值为1.3 nm,偏差在VLSI给出的测量不确定度范围之内,显示出该图像拼接技术的有效性和高准确度。
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- 关键词：图像拼接匹配点
- 基于蒙特卡洛法的常用玻璃量器容量测量结果不确定度评定被引量：4
- 2013年
- 采用蒙特卡洛方法 (MCM)对常用玻璃量器容量测量结果的不确定度进行评定,建立了数学模型,分析了各不确定度分量,编写了评定程序,并将评定实例结果与GUM方法评定的结果进行了比较。
- 赵琳李锁印许晓青韩志国冯亚南
- 关键词：常用玻璃量器测量不确定度
- 复合型高深宽比沟槽标准样板及制备方法
- 本发明提供了一种复合型高深宽比沟槽标准样板及制备方法，属于微纳米计量技术领域，包括具有深度和宽度尺寸的沟槽结构、正交扫描定位结构、切片定位结构、定位角结构以及沟槽定位结构；正交扫描定位结构、切片定位结构以及沟槽定位结构均...
- 赵琳李锁印梁法国邹学锋冯亚南韩志国张晓东许晓青吴爱华
- 文献传递
- 纳米台阶高度标准样块的研制与评价被引量：5
- 2016年
- 介绍了纳米台阶高度标准样块的用途及国内研制样块的情况,设计了纳米台阶高度样块的结构和制作工艺流程,制作了高度20nm^100nm的样块。以20nm、50nm、100nm为例对样块的台阶高度、台阶上下表面平行度、台阶测量区域的粗糙度、均匀性、稳定性进行了考核。结果表明,研制的样块台阶高度与设计值基本一致,稳定性好,与美国VLSI公司的相同高度的台阶高度标准样块相比,本文制作样块的平行度、粗糙度、均匀性与VLSI样块评价测量结果一致。
- 冯亚南李锁印韩志国赵琳许晓青
- 关键词：平行度粗糙度均匀性稳定性
