陈献忠
- 作品数：54 被引量：40H指数：4
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：中国科学院知识创新工程国家重点实验室开放基金中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>
- 一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置
- 一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置，由真空室、亚稳态原子发生器、漏勺、平板电极、光阑、激光束、平面反射镜和工件台等构成，它利用带有小孔的光阑对亚稳态原子流进行准直，形成平行原子束，利用激光驻波场使亚稳态原子束形成横向...
- 陈献忠姚汉民陈旭南石建平李展高洪涛陈元培
- 激光驻波原子透镜的像差分析
- 2004年
- 用激光驻波构成的原子透镜对原子束实现nm量级的聚焦,由于原子束的速度扩散、束扩散和原子的波动特性等因素的影响,原子透镜存在像差。建立了两种描述原子透镜的理论模型,用半经典模型分析原子透镜的球差、色差及由原子束的发散角引起的像差,用量子模型分析原子透镜的衍射像差。模拟结果表明原子束的发散角是产生像差的主要因素,衍射像差大于球差和色差。提出了优化实验参数、增加束掩模和利用刻蚀技术三种改善原子光刻实验的方法。
- 陈献忠姚汉民陈旭南石建平张春梅
- 关键词：激光驻波场光刻技术
- 亚波长光栅导模共振防伪商标及其制作方法
- 亚波长光栅导模共振防伪注册商标及其制作方法，由商标基板(1)、普通商标图形(2)、商标注册单位名称(3)和防伪区域(4)，以及涂在商标基板(1)下面的吸光不干胶层(7)组成，其特征在于：防伪区域(4)中有特定方向范围内可...
- 秦涛陈旭南石建平陈献忠
- 驻波透镜聚焦原子束制作纳米图形研究
- 介绍了将激光驻波聚焦原子束技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计.研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性及像差,数值结果显示原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为10 nm左右,可以实现纳米级超微细图形的制作...
- 陈元培陈旭南李展陈献忠
- 关键词：原子光学原子光刻原子束
- 一种用原子光刻技术制作高密度纳米结构的方法
- 本发明涉及一种利用现有原子光刻技术制作高密度纳米结构的方法，它利用近共振激光驻波场对原子束进行调制来实现纳米量级聚焦，通过改变激光的频率实现聚焦位置的改变，将光频蓝移和红移两种情况下的原子聚焦叠加起来实现周期为光波长1/...
- 陈献忠姚汉民陈旭南石建平陈元培
- 一种半导体材料横向周期搀杂的方法及其装置
- 本发明涉及一种实现半导体材料周期搀杂方法及装置，由真空室、原子源、准直孔、反射镜等构成，在半导体材料的生长过程中同时沉积本体材料和被搀杂材料，激光驻波场仅对被搀杂材料起作用，使被搀杂原子在横向形成周期密度分布，本体材料均...
- 陈献忠姚汉民陈旭南陈元培
- 原子束全息技术制作任意微细图形研究
- 2002年
- 从波粒二象性原理出发 ,研究了用氖原子束计算全息技术制作任意纳米结构的基本原理和方法 ,克服了用激光梯度场控制原子堆积 ,只能制作单一点、线等周期性纳米结构的不足。分析讨论了原子全息与光学全息的区别 ,指出只有经激光冷却的原子束才满足全息技术所要求的相干条件和衍射条件。最后采用罗曼Ⅲ型迂回位相编码方法设计了氖原子束计算全息片 。
- 石建平陈旭南高洪涛陈献忠罗先刚
- 关键词：纳米结构制作计算全息激光冷却
- 一种可用于原子全息光刻的二元计算全息新方法
- 2006年
- 原子全息光刻即采用二元计算全息片掩模来操纵原子,实现微细结构的制作。传统二元计算全息产生的全息片在重现时会产生不止一个实像,这对于原子全息光刻的操作是不利的。提出了一种非相位编码的方法,该方法利用基元函数叠加方式产生实的编码前全息图,再利用类似罗曼Ⅲ型的编码方式产生二元计算全息图。模拟结果表明,利用该方法产生的掩模板可以产生单一的同原始图案相对应的微细结构。
- 彭仁军陈献忠王艳平吴健
- 关键词：微细结构
- 纳米加工中的光驻波场研究被引量：3
- 2000年
- 介绍了纳米加工中的光驻波场 ,分别对单反射面和双反射面形成的驻波进行了分析 ,并对不同区域的光强分布进行了理论推导。最后对如何形成高质量的光驻波场进行了探讨。
- 陈献忠姚汉民李展陈元培罗先刚康西巧
- 关键词：光强分布光场
- 纳米光刻技术的现状和未来被引量：12
- 2002年
- 纳米技术是 2 1世纪信息科学的一项关键技术 ,纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 .纳米光刻技术是制作纳米结构的基础 ,具有重要的应用前景 .文章对光学光刻技术进行了概述 ,介绍了几种纳米光刻技术的新途径、发展现状和关键问题 。
- 陈献忠姚汉民陈旭南李展罗先刚
- 关键词：纳米光刻纳米结构制作纳米材料
