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王海媛

作品数:4 被引量:3H指数:1
供职机构:天津师范大学物理与电子信息学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金天津市应用基础与前沿技术研究计划全球变化研究国家重大科学研究计划更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 2篇第一性原理
  • 2篇第一性原理研...
  • 2篇ZRB
  • 2篇TIN
  • 1篇调制周期
  • 1篇多层膜
  • 1篇形成能
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇态密度
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束辅助
  • 1篇离子束辅助沉...
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米多层膜
  • 1篇晶格
  • 1篇晶格常数
  • 1篇溅射
  • 1篇工作气压
  • 1篇半金属

机构

  • 4篇天津师范大学

作者

  • 4篇李德军
  • 4篇王海媛
  • 4篇薛凤英
  • 2篇刘孟寅
  • 1篇颜景岳
  • 1篇张帅
  • 1篇龚杰
  • 1篇刘广庆
  • 1篇邓湘云
  • 1篇王晖
  • 1篇谭明

传媒

  • 1篇天津师范大学...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇中国科学:技...

年份

  • 1篇2012
  • 3篇2011
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
半金属元素掺杂TiN的第一性原理研究
2012年
基于密度泛函数理论,采用广义梯度近似方法,对半金属元素原子X(X=B、Si、Ge、As、Sb和Te)掺杂TiN体系的平衡晶格常数和电子结构等进行第一性原理计算,并对掺杂前后的电子态分布变化和形成能进行分析计算.结果表明:掺杂体系中主要的电子贡献仍是N2p态和Ti3d态,随着半金属元素B、Si、Ge、As、Sb和Te的掺入,TiN掺杂体系的导电性能有所提高,但并未超过纯净TiN体系;同时由形成能的计算证明Si掺杂体系最容易达到稳定结构,而Te掺杂是最不稳定的体系.
薛凤英王海媛李德军
关键词:TIN晶格常数态密度形成能
调制周期、调制比、沉积温度对ZrB_2/W纳米多层膜微结构和机械性能的影响
2011年
利用离子束辅助沉积方法(IBAD)在室温和400℃下制备出了单质的ZrB2和W薄膜以及不同调制周期和调制比的ZrB2/W纳米超晶格多.通过XRD,SEM,表面轮廊仪及纳米力学试系统研究了沉积温度和调制周期对纳米多生长、织构、界面结构、机械性能的影响.研究结果表明:在室温条件下,调制周期为13nm时,多的硬度最高可达23.8GPa,而合成中提高沉积温度则有利于提高薄的机械性能.在沉积温度约为400℃时合成的6.7nm调制周期的ZrB2/W多,其硬度和弹性量分别达了32.1和399.1GPa.同时,临界载荷也增大42.8mN,且残余应力减小约-0.7GPa.沉积温度的提高不仅使具有超晶格结构的ZrB2/W纳米多界面发生原子散,增强了沉积原子迁率,致其真实的原子密度提高,起位错钉扎的作用,同时晶粒尺度也被限制在纳米尺度,这些均对提高薄的硬度起作用.
刘孟寅谭明刘广庆王海媛薛凤英邓湘云李德军
关键词:离子束辅助沉积多层膜调制周期沉积温度
第一性原理研究CO在TiN表面的吸附特性
研究CO分子在过渡金属表面的吸附问题,不但可以探讨各种金属催化CO的有机反应的可能性,而且可以为该反应机理提供理论上的支持。本文用密度泛函理论(DFT)研究了TiN(111)表面CO吸附单层的表面性质,对这一问题作出初步...
薛凤英王海媛李德军
文献传递
工作气压和基底偏压对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构和机械性能的影响被引量:3
2011年
利用射频磁控溅射技术在不同工作气压和不同基底偏压条件下在Si(100)基底上设计合成了ZrB2/AlN纳米多层膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米力学测试系统和表面轮廓仪分析了工作气压和基底偏压对薄膜的微结构和机械性能的影响。结果表明:大部分ZrB2/AlN多层膜的纳米硬度与弹性模量值高于两种个体材料的混合值。当工作气压为0.4Pa,基底偏压为-60 V时,制备的薄膜具有最高的硬度(36.8 GPa)、最高的弹性模量(488.7 GPa)和最高的临界载荷(43.6 mN)。基底偏压的升高和工作气压的降低会使沉积粒子的动能提高,引起薄膜表面原子迁移率提高,导致薄膜的原子密度提高,起到位错钉扎的作用,晶粒尺度也被限制在纳米尺度,这些均对提高薄膜的硬度和抗裂强度起到了作用。
龚杰刘孟寅王海媛薛凤英颜景岳张帅王晖李德军
关键词:射频磁控溅射工作气压
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