您的位置: 专家智库 > >

林川

作品数:6 被引量:7H指数:2
供职机构:天津大学理学院物理系更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇氮化铁
  • 4篇对向靶溅射
  • 4篇梯度薄膜
  • 4篇溅射
  • 3篇磁性
  • 2篇单晶
  • 2篇磁性研究
  • 2篇N
  • 1篇单晶薄膜
  • 1篇氧化物
  • 1篇散射
  • 1篇铁化合物
  • 1篇卢瑟福
  • 1篇卢瑟福背散射
  • 1篇化合物
  • 1篇Α-FE
  • 1篇饱和磁化强度
  • 1篇背散射
  • 1篇FE
  • 1篇磁化

机构

  • 6篇天津大学
  • 3篇清华大学
  • 1篇北京大学

作者

  • 6篇林川
  • 5篇孙多春
  • 4篇姜恩永
  • 2篇田民波
  • 1篇吴萍
  • 1篇刘裕光
  • 1篇王合英
  • 1篇刘明升
  • 1篇刘晖

传媒

  • 2篇科学通报
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇’94秋季中...

年份

  • 3篇1996
  • 2篇1995
  • 1篇1994
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
氮化铁梯度薄膜的制备和磁性研究被引量:1
1996年
用对向靶溅射方法制备出氮化铁梯度薄膜。利用X射线光电子能谱(XPS)对样品进行了深度剖面分析:铁原子和氮原子的百分含量沿膜厚方向呈梯度变化。X射线衍射表明膜中含有α-Fe,α”-Fe16N2,ε-FexN(2<x≤3)和ξ-FeN各相。随着氮分压增加,膜中含氮量高的相比例亦增加,饱和磁通密度逐渐降低。
林川姜恩永孙多春田民波
关键词:对向靶溅射氮化铁梯度薄膜
高饱和磁化强度Fe_(16)N_2单晶薄膜被引量:2
1996年
尽管Fe_(16)N_2的结构早已为人们所知“‘,但对其研究的巨大兴趣则始于发现其奇异的高饱和 磁化强度(Bs一258 T严之后.制备高含量比川。的研究在块体和薄膜材料方面都很活跃l’ 4]. 然而,由于它是亚稳相,迄今只有日本Sllgita’领导的小组在半导体基片上制备出了Fe_(16)N_2单 晶薄膜,并验证了室温下其饱和磁化强度高达 29又大大超过 Slaterwaaling曲线.关于 卜;刀。是否具有如此高的饱和磁化强度值成为当个磁学理论界争论的一个热点风刁.作者曾详 细研究了溅射条件对氮化铁各相形成的影响闷,本文用溅射法制备出a‘’xe入单晶薄膜,井清 晰地观察到了沿[l叫和[110方向的电子衍射花样.磁性测量结果表明其饱和磁化强度值高 达 264~ 289 Wbha’.
姜恩永林川刘明升王合英张荣实吴萍袁红莉孙多春汪际
关键词:对向靶溅射饱和磁化强度单晶
氮化铁梯度薄膜的制备和磁性研究
林川孙多春
关键词:氧化物铁化合物
氮化铁梯度薄膜的制备被引量:3
1995年
用对向靶溅射仪制备了具有梯度结构的氮化铁薄膜材料.卢瑟福背散射分析结果表明,铁、氮两种原子的密度沿膜厚度方向呈梯度变化.在薄膜中有ζ-Fe2N,ε-FexN(2<x<3),γ′-Fe4N和α″-Fe16N2等物相.振动样品磁强计测试结果表明部分梯度膜的饱和磁化强度值接近纯铁膜,膜面富铁的梯度样品的矫顽力与基底富铁的梯度样品的矫顽力相差很大。
姜恩永刘晖刘明升林川孙多春
关键词:对向靶溅射梯度薄膜卢瑟福背散射
氮化铁梯度薄膜及α"-Fe<,16>N<,2>单晶薄膜的制备
林川
对向靶溅射氮化铁梯度薄膜被引量:2
1995年
氮化铁薄膜具有优异的磁性能,同时又具有良好的耐腐蚀性,是一种优异的高密度磁记录磁头材料.目前已广泛确认的氮化铁系化合物共有4相,分别是α″-Fe_(16)N_2,γ′-Fe_4N,ε-Fe_xN(2≤x≤3)和ζ-Fe_2N.它们的磁矩和Curie温度随含氮量的增加而降低.Fe_(16)N_2在已发现的磁性材料中具有最高饱和磁通密度(2.8~3.0T),Fe_4N和Fe_xN(2≤x≤3)则分别为1.7和1.4T,Fe_2N在常温下为非磁性.铁氮化合物随着含氮量的增高,耐腐蚀性越来越好.
姜恩永林川刘裕光孙多春田民波
关键词:对向靶溅射氮化铁梯度薄膜磁性
共1页<1>
聚类工具0