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朱兆颖

作品数:5 被引量:18H指数:3
供职机构:同济大学机械与能源工程学院更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程

主题

  • 4篇纳米压印
  • 3篇光刻
  • 2篇紫外纳米压印
  • 2篇纳米
  • 1篇电路
  • 1篇热压印
  • 1篇下一代
  • 1篇模压
  • 1篇模压工艺
  • 1篇纳米压印技术
  • 1篇集成电路
  • 1篇光刻技术
  • 1篇光刻胶

机构

  • 5篇同济大学
  • 1篇内蒙古工业大...
  • 1篇上海交通大学
  • 1篇上海市纳米科...

作者

  • 5篇朱兆颖
  • 3篇乌建中
  • 3篇刘彦伯

传媒

  • 2篇机电一体化
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇第三届上海纳...

年份

  • 2篇2007
  • 2篇2006
  • 1篇2005
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
紫外纳米压印技术的图形转移层工艺研究被引量:3
2006年
研究了紫外纳米压印技术的图形转移层工艺,通过改变膜厚进行压印对比实验,将转速控制在3000~4000r/min,成功地得到了50nm光栅结构的高保真图形,复型精度可以达到93.75%。同时阐明,纳米压印技术由于具有超高分辨率、低成本、高产量等显著特点,将成为下一代光刻技术(NGL)的主要候选者之一。
朱兆颖乌建中顾长庚刘彦伯
关键词:光刻
紫外纳米压印模板表面修饰工艺研究被引量:1
2007年
研究紫外纳米压印技术的模板表面修饰工艺,对经过表面修饰的模板与未经修饰的模板得到的不同压印结果,通过大量实验进行对比分析,验证模板表面修饰工艺是有效控制压印结果,确保压印复型精度的关键。
朱兆颖顾长庚乌建中刘彦伯
关键词:集成电路
紫外纳米压印关键技术——图形转移层与模压曝光工艺研究
纳米结构是研究纳米科技的物质基础,随着集成电路特征尺寸的不断减小,传统的光刻技术正面临成本和工艺的重重困难,已成为当今世界科学研究亟待解决的难题之一,纳米压印技术由此而生。纳米压印技术作为一种新的纳米结构加工制造技术,与...
朱兆颖
关键词:紫外纳米压印模压工艺
文献传递
下一代实用光刻技术——纳米压印技术被引量:14
2005年
详细介绍了纳米压印技术的应用前景,对目前各种纳米压印工艺进行归纳、分类。通过 对不同工艺过程的深入比较,分析了它们的优缺点,并展望了各自的应用前景。
刘彦伯顾长庚乌建中朱兆颖
关键词:纳米压印技术热压印
纳米压印及相关核心技术
纳米压印技术由于具有超高分辨率、高产量、低成本等显著特点,将成为下一代光刻技术(NGL)的主要候选者之一。本文分析了影响纳米压印工艺过程的主要核心技术及研究现状,如模板制备、光刻胶、高精度压印制程条件、模板与基片分离技术...
李小丽朱兆颖万永中刘彦伯王庆康
关键词:纳米压印光刻胶
文献传递
共1页<1>
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