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孙彩琴

作品数：1 被引量：6H指数：1
供职机构：重庆师范大学物理与电子工程学院更多>>
发文基金：重庆市教育委员会科学技术研究项目更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇退火
  • 1篇光学
  • 1篇光学常数
  • 1篇WO

机构

  • 1篇重庆师范大学

作者

  • 1篇孙彩琴
  • 1篇闫勇彦
  • 1篇杨晓红

传媒

  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
热处理对WO_3薄膜光学性质的影响被引量：6
2008年
直流反应磁控溅射法制备了WO3薄膜,薄膜在723K纯N2气中被退火处理。热处理前WO3薄膜为无定形态,热处理后为多晶态。采用透射谱和单谐振子模型获得了薄膜的折射率和消光系数,得到退火前后谐振子能量分别为5.77和5.28eV,色散能为19.9和15.9eV。分析表明退火前后吸收边附近均表现出间接带隙的两段线性关系,间接带隙分别为3.14和2.96eV,声子能量为32和149meV,退火后带隙减小推测可能是由于退火薄膜晶化,氧填隙粒子导致的带尾态效应消失的结果。
杨晓红孙彩琴闫勇彦
关键词：退火光学常数
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共1页<1>
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