刘智怀
- 作品数：7 被引量：6H指数：2
- 供职机构：南昌航空大学自动化学院更多>>
- 发文基金：江西省自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学自动化与计算机技术机械工程更多>>
- 微光学元件芯模的光刻工艺研究被引量：2
- 2008年
- 光刻法作为微光学元件的主要生产工艺,如何提高光刻加工工艺已经成为一个日益紧迫的问题。本文使用北京化学试剂研究所生产的BP-213系列紫外正型光刻胶,以分辨率板直接作为参考对象来判别光刻工艺的分辨率,并且在优化各控制变量的前提下,得出最佳工艺参数并对噪声进行分析。
- 李平贵龚勇清何兴道刘智怀张贵红
- 关键词：微光学分辨率光刻胶
- 微光学元件光刻工艺对焦方法研究
- 在光刻工艺的图形转印过程中,像平面位置的确定是重要的环节。本文对对焦方法进行了研究,确定了几种可行的方法,并用其对北京化学试剂研究所生产的BP-218紫外正型光刻胶的分辨率进行了测试,得到了不错的结果。
- 刘智怀龚勇清李平贵
- 关键词：微光学光刻工艺光刻胶
- 文献传递
- 一种二元光学元件阵列微芯模的工艺设计研究
- 本文提出一种二元光学元件微型芯模的工艺设计方法,利用了数字调制器件(DMD芯片)的空间光调制特性。首先通过编程设计出二元光学器件的相关软件,以实现菲涅耳透镜、龙基光栅等各种矢量图形,经过14 倍精缩光学系统,将由DMD ...
- 龚勇清刘智怀高益庆罗宁宁李平贵
- 关键词：光刻技术二元光学元件
- 文献传递
- 一种二元光学元件阵列微芯模的工艺设计研究被引量：5
- 2009年
- 提出一种二元光学元件微型芯模的工艺设计方法,该方法利用了数字调制器件(DMD芯片)的空间光调制特性。首先通过编程设计出二元光学器件的相关软件,以实现菲涅耳透镜、达曼光栅、龙基光栅等各种矢量图形,经过14倍精缩光学系统,将由DMD芯片生成的二元光学器件图像成像在涂有光刻胶的基板上。经显影、定影和坚膜后,再利用电化学蚀刻,得到一种二元光学阵列的微芯模。这种二元光学的芯模制作方法可以方便、高效、低成本地用于制作微光学器件。
- 龚勇清刘智怀高益庆罗宁宁李平贵
- 关键词：光刻技术二元光学元件蚀刻
- 微光学元件光刻工艺对焦方法研究
- 在光刻工艺的图形转印过程中,像平面位置的确定是重要的环节.本文对对焦方法进行了研究,确定了几种可行的方法,并用其对北京化学试剂研究所生产的BP-218紫外正型光刻胶的分辨率进行了测试,得到了不错的结果.
- 刘智怀龚勇清李平贵
- 关键词：微光学元件光刻工艺光刻胶分辨率
- 文献传递
- 一种二元光学元件阵列微芯模的工艺设计研究
- 本文提出一种二元光学元件微型芯模的工艺设计方法,利用了数字调制器件(DMD芯片)的空间光调制特性。首先通过编程设计出二元光学器件的相关软件,以实现菲涅耳透镜、龙基光栅等各种矢量图形,经过14倍精缩光学系统,将由DMD芯片...
- 龚勇清刘智怀高益庆罗宁宁李平贵
- 关键词：光刻技术二元光学元件
- 文献传递
- 微光学元件光刻对焦方法
- 2009年
- 文章提出了三种微光学元件光刻对焦方法,并用它们对北京化学试剂研究所生产的BP-218紫外正型光刻胶的分辨率进行了测试,得到了满意的结果。
- 刘智怀龚勇清李平贵
- 关键词：微光学光刻焦平面光刻胶
