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薛海韵
作品数:
4
被引量:3
H指数:1
供职机构:
中国科学院半导体研究所
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发文基金:
国家重点基础研究发展计划
国家高技术研究发展计划
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相关领域:
电子电信
理学
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合作作者
薛春来
中国科学院半导体研究所
成步文
中国科学院半导体研究所
王启明
中国科学院半导体研究所
罗丽萍
中国科学院半导体研究所
苏少坚
中国科学院半导体研究所
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机构
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中国科学院
作者
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薛海韵
4篇
成步文
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薛春来
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白安琪
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罗丽萍
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胡炜玄
2篇
苏少坚
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汪巍
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左玉华
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王启明
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韩根全
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材料科学与工...
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第十五届全国...
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2010
1篇
2009
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2008
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高性能Si基Ge探测器的研制
采用超低温Buffer层技术在Si衬底上生长出了质量优良的Ge材料,利用该材料研制高速Ge光电探测器,吸收层Ge的厚度约为0.8μm。在0V和-1V偏压下,暗电流密度分别为0.37mA/cm2和29.4mA/cm2;测试...
薛海韵
薛春来
成步文
王启明
关键词:
暗电流密度
文献传递
硅基室温电流注入Ge/Si异质结发光二极管
2010年
目前,硅基光电集成所需的各个光子学单元已经取得了巨大的突破,并且与现有的微电子工艺完全兼容:硅基光波导在光通讯波段可以实现对光场的强限制以及低损耗传输;通过外延高质量的锗薄膜,实现了近红外波段的高速高量子效率的硅基光探测器;调制速率高达30GHz的基于硅基载流子等离子体色散效应的硅调制器也已经有报导。
胡炜玄
成步文
薛春来
薛海韵
苏少坚
白安琪
罗丽萍
俞育德
王启明
关键词:
发光二极管
硅基
电流注入
异质结
室温
Si衬底上Ge材料的UHVCVD生长
被引量:3
2009年
采用超低温Buffer层技术在Si衬底上生长出了质量优良的厚Ge材料,材料的穿透位错密度为1×105cm-2。原子力显微镜测试表明表面均方根粗糙度为0.33nm,卢瑟福背散射谱表明Ge的沟道产额低达3.9%,透射电镜分析则表明应变的弛豫主要是通过在Si与Ge的界面处形成失配位错来实现的。
成步文
薛春来
罗丽萍
韩根全
曾玉刚
薛海韵
王启明
关键词:
硅基
GeSn合金的外延生长方法
一种GeSn合金的外延生长方法,包括如下步骤:步骤1:将一Sn固体金属作为Sn源材料置入真空腔的Sn固体源炉中;步骤2:将一衬底置入分子束外延源炉的真空腔的加热器上,对真空腔抽真空,对衬底加热;步骤3:对Sn固体金属加热...
成步文
薛春来
左玉华
汪巍
胡炜玄
苏少坚
白安琪
薛海韵
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