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程波
作品数:
6
被引量:2
H指数:1
供职机构:
中国电子科技集团第十一研究所
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相关领域:
电子电信
金属学及工艺
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合作作者
赵超
中国电子科技集团第十一研究所
陈元瑞
中国电子科技集团第十一研究所
王燕华
中国电子科技集团第十一研究所
王志芳
中国电子科技集团第十一研究所
王森林
中国电子科技集团第十一研究所
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一种锑化铟晶片的磨削方法
本发明公开了一种锑化铟晶片的磨削方法,所述方法包括以下步骤:对待加工的锑化铟晶片进行图像预采集识别,获得所述锑化铟晶片的中心位置数据;根据所述锑化铟晶片的中心位置数据,设置磨削参数;使所述锑化铟晶片纵向运动,且纵向运动过...
王志芳
王燕华
程波
陈元瑞
程鹏
王森林
低掺N型锑化铟InSb晶体掺杂方法
本发明公开了一种低掺N型锑化铟InSb晶体掺杂方法。低掺N型锑化铟InSb晶体掺杂方法,包括:获取高纯度的InSb锭条,并选取InSb锭条中导电类型为N型且载流子浓度低于掺杂后目标晶体要求浓度的部分作为原料;基于掺杂后目...
程波
赵超
一种大尺寸<111>晶向低位错密度InSb晶体生长方法
本发明公开了一种大尺寸<111>晶向低位错密度InSb晶体生长方法,本发明通过对大尺寸<111>晶向低位错密度InSb晶体生长方法创新性的设计,使得该方法能够稳定的控制晶体生长过程中的热应力以及I...
赵超
董涛
程波
彭志强
贺利军
直拉法制备锑化铟单晶的表面杂质研究
被引量:2
2019年
制备高质量锑化铟(InSb)单晶是发展大规模红外焦平面器件以及新型高温红外探测器衬底材料的关键。而在用直拉法生长InSb的过程中,表面杂质的出现会严重影响成品率。利用X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)技术研究了生产中InSb晶体表面杂质膜层的成分,分析了其主要来源及造成的影响,并采取相应工艺措施进行了改进。结果表明,InSb晶体表面杂质膜层的主要成分为In2O3、Sb2O3和Sb2O5三者的混合物以及碳沾污,其厚度不超过40 nm。通过对单晶炉处理和保护气氛的工艺优化,表面杂质大大减少,为获得高质量晶体奠定了基础。
董涛
张孟川
程波
赵超
关键词:
直拉法
锑化铟
一种锑化铟晶片的磨削方法
本发明公开了一种锑化铟晶片的磨削方法,所述方法包括以下步骤:对待加工的锑化铟晶片进行图像预采集识别,获得所述锑化铟晶片的中心位置数据;根据所述锑化铟晶片的中心位置数据,设置磨削参数;使所述锑化铟晶片纵向运动,且纵向运动过...
王志芳
王燕华
程波
陈元瑞
程鹏
王森林
文献传递
石英舟熏碳方法及锑化铟提纯方法
本发明公开了一种石英舟熏碳方法及锑化铟提纯方法,其中所述石英舟熏碳方法包括以下步骤:向熏碳装置中注入丙酮以使熏碳装置的定性滤纸上浸有丙酮;点燃所述熏碳装置的定性滤纸,以使丙酮燃烧;利用所述丙酮不完全燃烧时产生的碳微粒对石...
程波
陈元瑞
赵超
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