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王文辉
作品数:
31
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供职机构:
浙江大学
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发文基金:
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相关领域:
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合作作者
王跃林
中国科学院上海微系统与信息技术...
李铁
中国科学院上海微系统与信息技术...
唐衍哲
浙江大学信息与电子工程学系
杨艺榕
中国科学院上海微系统与信息技术...
吴亚明
中国科学院上海微系统与信息技术...
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2001
3篇
2000
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1993
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玻璃上的硅光波导材料及其制作方法
一种玻璃上的硅光波导材料及其制作方法,该材料是以玻璃为衬底,硅为波导层,玻璃或玻璃一氧化硅做限制层的光波导材料,其制作方法包括:硅片抛光面或具有氧化硅层的硅片的氧化硅面和玻璃片抛光面常规清洗后烘干,将玻璃片和硅片或硅片氧...
王跃林
王文辉
李铁
杨艺榕
文献传递
深反应离子刻蚀技术中可动结构的牺牲层保护方法(中科院)
王东平
王文辉
李铁
杨艺榕
王跃林
本发明公开一种深反应离子刻蚀技术中可动结构的牺牲层保护方法,针对深反应离子刻蚀技术在制作具有可动结构的器件中出现的可动结构释放后即受到较大破坏的问题,采用牺牲曾固定可动结构,使器件可动结构在进行深反应离子刻蚀工艺时始终保...
关键词:
关键词:
深反应离子刻蚀
牺牲层
在绝缘层硅材料上制作多模干涉型光耦合器的方法(中科院)
唐衍哲
王文辉
李铁
王跃林
本发明设计一种在绝缘层硅材料上制作多模干涉型光耦合器的方法,属于平面型光耦合的领域。其特征在于以绝缘层上硅为原料,利用硅在各向异性腐蚀液中的性质,提出一套制作多模干涉耦合器的简便方法。输入输出波导满足单模条件,多模波导区...
关键词:
关键词:
多模干涉型
光耦合器
基于SOI材料的刻蚀光栅分波器的制作工艺
2005年
研究了基于绝缘材料上的硅 (SOI)材料的平面波导刻蚀光栅分波器的主要制作工艺 .利用电感耦合等离子体刻蚀 (ICP)技术 ,在SOI材料上制作了垂直度大于 89°的光滑的光栅槽面 .氧化抛光后刻蚀侧壁的表面均方根粗糙度 (RMS)有 3nm的改善 ,达到 7 2 7nm(采样面积 6 2 μm× 2 6 μm) .通过采用集成波导拐弯微镜代替弯曲波导使 1× 4分波器的器件尺寸仅为 2 0mm× 2 5mm .
王文辉
唐衍哲
戈肖鸿
吴亚明
杨建义
王跃林
关键词:
分波器
一种基于光纤超声超结构光栅的可调滤波器及调制方法
本发明涉及一种基于光纤超声超结构光栅的可调滤波器及调制方法。其特征在于该可调滤波器包括产生反射谱线的光纤光栅,超声辐射器,聚能器,超声吸收器,以及支架。聚能器安装在超声辐射器和光纤光栅之间,超声辐射器与聚能器面积大的端面...
屈红昌
吴亚明
杨建义
王文辉
文献传递
KOH自停止腐蚀技术研究
本文在大量的实验结果基础上,给出了KOH自停止工艺的优化参数.利用KOH自停止腐蚀技术,我们制备了微悬梁,薄膜,薄膜光栅,加速度计等结构,并获得了较满意的均匀性.对Si平面薄膜的测量表明:在1000μm内的扫描范围内,S...
韩明
王文辉
王跃林
浙江大学信电系(杭州)
关键词:
KOH
文献传递
典型城市PM2.5和臭氧协同防控策略研究
近两年,长三角地区的PM2.5浓度仍未达到国家二级标准,臭氧浓度处于上升通道,大气污染防治工作的重心开始逐渐向PM2.5和臭氧协同防控转移。湖州市在浙江省内空气质量状况相对较差,排名比较靠后,2017年湖州市达标天数省内...
王文辉
关键词:
臭氧污染
细颗粒物
总量控制
一种大角度Y分支硅光功率分配器的制作方法
一种大角度Y分支硅光功率分配器的制作方法,主要特点是采用掺杂的方法改变分支处的折射率,并采用先掺杂后键合和双面光刻工艺,在玻璃衬底上制作大角度Y分支硅光功率分配器,本方法的优点体现为背面掺杂正面刻蚀,因而掺杂深度适当减小...
王跃林
王文辉
李铁
解健芳
文献传递
1×2,2×2机械光开关
王跃林
李铁
吴亚明
杨艺榕
解健芳
向民
唐衍哲
王东平
王文辉
王浙辉
陈思琴
该项目采用微机械加工技术,研制了三种1×2光开关。其原理分别为:①(100)垂直镜面自对准光开关,采用在(100)硅片上腐蚀出垂直的(100)镜面和自对准的光纤V型槽,并采用特殊的抛光技术提高表面质量,通过静电力导致微镜...
关键词:
关键词:
微机械
光开关
光通信
在绝缘层硅材料上制作多模干涉型光耦合器的方法
唐衍哲
王文辉
李铁
王跃林
本发明设计一种在绝缘层硅材料上制作多模干涉型光耦合器的方法,属于平面型光耦合的领域。其特征在于以绝缘层上硅为原料,利用硅在各向异性腐蚀液中的性质,提出一套制作多模干涉耦合器的简便方法。输入输出波导满足单模条件,多模波导区...
关键词:
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光耦合器
多模干涉型
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