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曹德新

作品数:13 被引量:14H指数:2
供职机构:中国科学院上海原子核研究所上海应用物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信化学工程核科学技术更多>>

文献类型

  • 10篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 4篇电子电信
  • 4篇理学
  • 2篇化学工程
  • 2篇核科学技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇农业科学

主题

  • 7篇离子注入
  • 5篇单晶
  • 3篇退火
  • 2篇单晶硅
  • 2篇等离子体
  • 2篇蓝宝
  • 2篇蓝宝石
  • 2篇改性
  • 2篇
  • 2篇
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体浸没...
  • 1篇豆种
  • 1篇氧化钇
  • 1篇氧化锆
  • 1篇再结晶
  • 1篇砷化镓
  • 1篇砷化镓单晶
  • 1篇损伤层
  • 1篇探测器

机构

  • 13篇中国科学院
  • 2篇中国纺织大学
  • 1篇上海农学院

作者

  • 13篇曹德新
  • 12篇朱德彰
  • 5篇曹建清
  • 5篇谢东珠
  • 4篇潘浩昌
  • 4篇朱福英
  • 3篇徐洪杰
  • 2篇高剑侠
  • 2篇杨国华
  • 2篇周祖尧
  • 2篇刘惠珍
  • 1篇紫剑维
  • 1篇潘冀生
  • 1篇陈寿面
  • 1篇张菁
  • 1篇陈英方
  • 1篇俞方华
  • 1篇吴美珍
  • 1篇李铁藩
  • 1篇沈嘉年

传媒

  • 7篇核技术
  • 1篇物理学报
  • 1篇中国腐蚀与防...
  • 1篇上海农学院学...

年份

  • 1篇2000
  • 1篇1999
  • 2篇1998
  • 2篇1997
  • 1篇1996
  • 3篇1994
  • 3篇1991
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
超薄窗Si(Li)探测器在实验中的应用
1994年
用超薄窗Si(Li)探测器测量低能X射线,将传统的PIXE谱测量范围推广到如Si、Al、Na等低原子序数元素。还对超薄窗Si(Li)探测器的具体应用作了描述。
刘惠珍朱福英朱德彰曹德新沈浩元浦世节
关键词:探测器
用RBS和RNR研究表面涂覆CeO_2对Fe-25Cr合金高温氧化的影响被引量:1
1991年
一、引言许多研究结果表明,将微量 Ce、Y、Hf 和 Th 或其氧化物添加于形成 Cr_2O_3保护层的 Fe~Cr 系合金中可以大大提高抗氧化性能。一些结果还表明,把这些活性元素的氧化物用涂覆方法或溅射方法作用合金表面,合金的抗氧化性能也同样可以得到改善。尽管已有许多模型试图解释这种活性元素的作用,但迄今为止,还没有一个为人们所普遍接受。
俞方华潘浩昌沈嘉年杨国华李铁藩朱德彰陈寿面曹建清曹德新
关键词:高温氧化CEO2
硫对注入YSZ单晶的金属铂在退火过程中结晶的影响
1998年
用卢瑟福背散射-沟道技术(RBS-C)和X射线衍射技术(XRD)研究了Pt和S注入YSZ(Y2O3稳定的ZrO2)后产生的损伤和退火过程中损伤的恢复及注入Pt的晶化。RBS-C分析表明YSZ在室温下注入存在较强自退火效应;XRD分析结果示出硫对铂的晶化产生很大影响。
谢东珠朱德彰曹德新潘浩昌徐洪杰
关键词:离子注入氧化钇YSZ氧化锆
用RBS沟道和PIXE沟道相结合研究硅注入砷化镓单晶
GaAs(100)单晶液氮温度下注入能量为48 KeV,剂量为3E15和5E1s Si/cm的硅。用 RBS-C 和 PIXE-C 来分析砷化镓中离子注入损伤和硅在材料中的位置和替位率。这两种方法同时测量弥补了单一方法的...
曹德新刘惠珍朱福英朱德彰
文献传递
镍增进无定形硅低温固相外延生长
1997年
离子注入形成的无定形硅在可形成硅化物杂质镍作用下,促使无定形层硅在低温(430℃)时发生了固相外延生长。注入杂质镍浓度为1×1012-2.5×1017Ni/cm2。卢瑟福背散射和沟道(RBS-C)测量表明,6个量级剂量注入并经430℃退火后的样品都发生了不同程度的固相外延生长,且比通常固相外延生长约加快了二个数量级,其外延生长速度与镍浓度相关。
曹德新朱德彰朱福英曹建清
关键词:固相外延生长半导体
大剂量P^+离子注入单晶硅的研究被引量:1
1994年
采用480keVP+离子注入单晶硅,注入剂量为1×1016cm-2。采用RBS、TEM技术测试样品,发现样品经600℃退火后,距样品表面约240nm处有一条低密度缺陷带。研究表明,这一现象与P+的剂量及退火温度有关。
高剑侠朱德彰曹德新周祖尧
关键词:退火离子注入单晶硅
等离子体浸没离子注入豌豆种子的细胞学效应被引量:4
1997年
用等离子体浸没离子注入设备对食荚青豌种子进行了氩离子注入。以卢瑟福背散射(RBS)方法测定了处理前后的食荚青豌种子的RBS谱,发现等离子体浸没氩离子注入过的种子在Ar^+处出现Bragg峰。对食荚青豌根尖染色体核型进行了分析,发现所进行的离子注人能延迟染色体着丝粒的复制。
吴美萍何国兴陈英方钟华曹德新
关键词:豌豆等离子体染色体
蓝宝石的离子注入研究
离子注入技术不仅在半导体、金属材料上得到了成功的应用,近年来,在绝缘材料方面也有广泛的应用。例如在陶瓷材料改性上的应用也十分引人注目。在 Al
谢东珠曹德新朱德彰
文献传递
1.56MeV Sb^+注入单晶硅的反常退火行为
1994年
剂量为2×10(13)-5×10(15)cm(-2)的1.56MeVSb+注入Si(100)后,向石英炉中通入流动纯Ar气进行热退火(退火温度为500一1050℃,时间为30min)。采用3MeVHe(2+)卢瑟福背散射/沟道技术和透射电镜技术测量样品的注人损伤以及退火特性,结合计算机模拟数据,结果表明:缺陷的产生类型与注入离子的剂量、样品退火温度密切相关。
高剑侠朱德彰曹德新周祖尧赵国庆
关键词:退火再结晶离子注入单晶硅
In^+离子注入蓝宝石(α-A1_2O_3单晶)的表面改性研究被引量:2
1998年
研究了<0001<和<1210>晶向蓝宝石(α-Al2O3单晶)在注入360keV.1×10 ̄16cm ̄-2或100keV、6×10 ̄16cm ̄-2的In ̄+后产生的损伤、注入层的性能变化和退火行为。实验结果表明,退火过程中损伤的恢复和In的分布与退火气氛有关:在100keV、6×10 ̄16cm ̄-2的In ̄+注入时,注入层电阻率降低了10个量级,大小为6.8×10 ̄3·cm,表面损伤层的显微硬度提高了92%;在360keV,1×10 ̄16cm ̄-2的In+注入时,其表面损伤层的显微硬度提高了45%,在空气中不同温度下退火后,其显微硬度的变化和损伤的变化具有相同的规律。
谢东珠朱德彰曹建清曹德新潘浩昌徐洪杰
关键词:离子注入蓝宝石
共2页<12>
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